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Vincenzo d’Alessandro
Informazioni generali
Materiale didattico
1) Diapositive presentate a lezione, messe a disposizione in Materiale del corso del
Team dopo ogni lezione
2) S. M. Sze, Physics of Semiconductor Devices, 2nd edition, John Wiley & Sons, 1981
3) R. F. Pierret, Semiconductor Device Fundamentals, Addison Wesley Longman, 1996
4) F. Bonani, S. Donati Guerrieri, G. Masera, G. Piccinini, Dispositivi e Tecnologie
Elettroniche, CLUT, 2007
Come reperirmi
1) Indirizzo e-mail: vindales@unina.it
2) Numero di telefono: 081-7683509
3) Orario di ricevimento: per appuntamento, da richiedere via email
4) Il ricevimento si terrà o in ufficio oppure sulla piattaforma Microsoft Teams
5) Ufficio: secondo piano dell’Edificio 2, stanza 2.16, Dipartimento di Ingegneria Elettrica
e delle Tecnologie dell’Informazione (DIETI), complesso di via Claudio 21
Modalità d’esame
1) La prova è orale ed è basata su 3 domande, ognuna relativa ad una macroarea
costituente il programma.
2) Il risultato negativo di una prova non inficia la candidatura ad una prova successiva.
Richieste
È gradita la segnalazione via email di errori (anche di battitura!) nelle diapositive.
In elettronica c’è necessità di materiali aventi un comportamento non così ben definito,
ma materiali duttili, poliedrici. Questo è dovuto al fatto che i dispositivi elettronici devono
essere in grado di permettere il flusso di corrente in determinate condizioni, inibirlo in
altre, e modularlo quando necessario.
Essi vengono individuati nella vasta gamma di materiali caratterizzati da valori intermedi
di ρ, detti semiconduttori, e sono quelli che si prestano alla fabbricazione tecnologica dei
dispositivi, e che hanno una interessante proprietà: la loro resistività può essere
modificata ad hoc (anche significativamente) in modo controllato.
Il silicio intrinseco soffre di una resistività piuttosto alta: 2.4×105 Ωꞏcm a T=300 K. Questo
è legato al fatto che in un cm3 di materiale sono presenti “solo” 1.45×1010 elettroni liberi e
lacune (portatori mobili di carica positiva) su “ben” 5×1022 atomi. Vedremo che in
elettronica viene adottato silicio estrinseco, drogato con boro (B), arsenico (As), fosforo
(P).
L’arseniuro di gallio intrinseco è persino peggiore: ρ=4×108 Ωꞏcm per la presenza di
1.79×106 elettroni liberi e lacune in un cm3.
Infatti in questi materiali ogni atomo raggiunge una condizione stabile (ottetto) in cui sono
presenti 8 elettroni di valenza condivisi con 4 atomi adiacenti nel reticolo.
I materiali possono essere classificati sulla base dell’ordine reticolare. Un materiale può
essere (mono)cristallino, amorfo, o policristallino.
Un reticolo cristallino si dice cubico quando la cella elementare è cubica; questo avviene
sempre nei semiconduttori di interesse.
Il polonio (semi-metallo) è caratterizzato da un reticolo cubico semplice. La sua cella
elementare presenta 8 atomi disposti nei vertici; a prende il nome di costante (passo)
reticolare ed è dell’ordine di qualche Angstrom [1 Å=10-10 m=10-8 cm=10-4 µm].
x, y, z
a a a
, ,
4 4 4
Ciò equivale a dire che la cella #2 è traslata rispetto alla #1 di una quantità pari a
2
a a2 a2
2
a2 a2 a2 3
a
16 16 16 16 16 16 4
Nel silicio, a=5.43 Å (nel germanio, a=5.66 Å); Con questa informazione è possibile
valutare il numero di atomi contenuto in un cm3 di silicio:
numero di atomi in una cella
concentrazione di atomi nel Si
volume della cella in cm3
8 8 1024
5 1022 cm -3
5.43 108 cm3 5.43 cm
3 3 3
come preannunciato.
3
a
4
da ciascuno degli atomi posto ai vertici. Si noti che questa
struttura è evidenziata nella cella del diamante, e che
l’origine del sistema di riferimento è cambiata per
semplicità. le coordinate vanno moltiplicate per a
È interessante notare che nel reticolo di un conduttore a T=300 K gli elettroni appartenenti
al guscio energetico più esterno degli atomi non sono vincolati ad appartenere né ad un
atomo singolo né ad una coppia; si dice che sono delocalizzabili, e cioè tutti liberi di
prendere parte alla conduzione (ce ne possono essere >1023 cm-3) in una struttura di ioni
positivi. Questo spiega l’elevata conducibilità elettrica di questa categoria di materiali.
una (A) si ottiene considerando una cella #1 a facce centrate con solo gallio e una
cella #2 a facce centrate con solo arsenico, e considerando la cella risultante
dall’unione della #1 e della porzione della #2 (4 atomi) che si trova all’interno della #1
dopo una traslazione della #2 in diagonale di √3a/4;
l’altra (B) – rappresentata in figura – si ottiene considerando la #1 di arsenico, la #2 di
gallio e ripetendo la procedura.
È anche possibile identificare piani che passano per i semiassi negativi; ad esempio il
piano x=-a viene indicato con 1 0 0 .