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Chapitre II : Structure de bandes
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Chapitre II : Structure de bandes
Dans ces réseaux la distance inter atomique étant faible (de l'ordre de quelques Å) les atomes ne
peuvent plus être considérés comme isolés et il en résulte des interactions (de nature
électrostatique entre les divers atomes).
Nous savons que dans un atome isolé, c'est-à-dire très éloigné des autres atomes comme c’est le
cas dans les gaz, les électrons occupent des niveaux d’énergie bien déterminés (figure II.2).
D'après le principe d'exclusion de PAULI, chaque niveau d'énergie permis est occupé par deux
électrons de spin opposé et il ne peut accueillir d'autres électrons.
E
r
1
/ 2
n=2 E1 = 13,6 eV
r 2p
s
n=1 1
Figure II.2 s
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Chapitre II : Structure de bandes
Pour un atome isolé, le potentiel d’interaction est assez faible. Lorsqu’on rapproche deux atomes
à une distance telle que les fonctions d’onde des électrons liés à un atome soient perturbées par la
présence d’un autre atome, chaque niveau d’énergie de l’atome isolé se dédouble en 02 niveaux
très rapprochés (figure II.3).
Figure II.3
La résolution de l’équation de Schrödinger pour le double puits quantique que représentent les
deux noyaux montre que la levée de dégénérescence entre les deux niveaux d’énergie des deux
atomes considérés séparément mène à deux niveaux couplés, l’un dit liant, de plus basse énergie,
et l’autre, dit anti-liant, de plus haute énergie.
Dans le cas d’une chaîne linéaire d’atomes, le potentiel sera représenté par la courbe ci-dessous
(figure II.4). L’allure de ce potentiel est en général assez complexe, aussi dans la suite nous
considérerons un modèle de potentiel ayant des puits en créneaux comme une représentation
approchée du potentiel en cloche.
Si la distance entre atomes devient très faible, ce qui est le cas lorsque nous assemblons N atomes
pour former un cristal, la perturbation devient très élevée provoquant un recouvrement des
bandes d’énergie (figure II.4). Chaque niveau de l’atome isolé donne naissance à une bande
d’énergie constituée en fait par des niveaux discrets très rapprochés. Pour les électrons fortement
liés, les niveaux d’énergie de l’atome isolé sont très peu modifiés et la bande correspondante est
très étroite. Pour les niveaux d’énergie supérieurs, correspondant aux électrons faiblement liés
(électrons de valence), la bande est beaucoup plus large, tel que indiqué par la figure II.5.
Figure II.4
Figure II.5
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Figure II.6
Les électrons d’un atome isolé prennent des niveaux discrets d’énergie (figure (I.4)), qui sont en
fait constitués de sous-niveaux (ou sous-couches) ; mais lorsqu’on rapproche deux atomes ces
niveaux (ou sous-niveaux) vont se dédoubler. En étendant ce raisonnement à N atomes, cette
dégénérescence fait apparaître des bandes d’énergie permises, qui peuvent s’interpénétrer et se
séparer à nouveau lorsque la distance inter-atomique diminue, donnant des bandes d'énergie
interdite, de largeur EG (Gap).
Figure I.4 Représentations de l’atome de Silicium faisant apparaître les niveaux d’énergie et leurs
occupations par les électrons.
Dans le cas du silicium (1s2 2s2 2p6 3s2 3p2) où le dernier niveau occupé possède 06 places dont
deux seulement sont occupées, il faudra tenir compte du recouvrement des bandes 3s et 3p. En
effet, les 02 électrons 3s et les 02 électrons 3p forment une bande pleine dite Bande de Valence
comptant 04 électrons par atome. Les 04 places restantes sur le niveau 3p se regroupent en une
bande vide appelée Bande de Conduction séparée par une bande appelée Bande interdite
La figure (I.5) illustre le cas des semi-conducteurs du groupe IV (cas du Silicium) : la bande
supérieure est appelée "Bande de Conduction" et, à 0 K, ne contient pas d’électrons
contrairement à la bande inférieure, appelée ²Bande de Valence², qui contient 4N électrons (donc
qui est la dernière bande pleine). Entre ces deux bandes se trouve une zone de largeur EG (en J ou
en eV) interdite aux électrons et appelée ²Bande Interdite² ou ²Gap². Le fait que ces deux bandes
(BC ou BV) soient entièrement pleines ou vides implique que la conduction électrique ne peut
exister.
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Chapitre II : Structure de bandes
Figure I.5
Une deuxième approche, plus abstraite, mène au même résultat. Elle utilise le théorème de Bloch,
qui stipule que, dans un potentiel périodique, toutes les solutions de l’équation de Schrödinger
sont des fonctions dites de Bloch, c’est-à-dire qu’il existe un vecteur k permettant d’écrire :
k (r) U k (r). exp(ik.r)
où Uk(r) est une fonction périodique avec les mêmes périodes que le potentiel. Les fonctions
d’ondes des électrons dans un cristal parfait (périodique, infini, sans défaut ...) sont donc
simplement le produit entre une onde plane et une fonction périodique.
On peut donc chercher à résoudre, pour un k donné, l’équation de Schrödinger. On va ainsi
trouver, pour ce k donné, une équation qui porte sur les fonctions périodiques U k (r ) . C’est là que
le problème a été simplifié d’une manière monumentale. Alors que l’équation de Schrödinger
cherche des solutions dans tout l’espace des fonctions à priori, le théorème de Bloch permet de
réduire le problème en tirant profit de la périodicité du potentiel : pour chaque vecteur k, on
cherche maintenant des solutions dans l’espace des fonctions périodiques. Par continuité entre les
différents k, on construit ainsi un ensemble dénombrable de bandes d’énergie que l’on représente
sous la forme d’une relation de dispersion E(k) appelé aussi diagramme ou structure de bande. On
retrouve ainsi le concept de bandes d’énergie permise et interdite.
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Chapitre II : Structure de bandes
Figure II.8
2m.E 1 / 2
A travers la relation : ( ) , elles correspondent aux valeurs permises (bandes
2
n.
d’énergie permises) de l’énergie. Les valeurs permises de .a correspondent aux valeurs de
a
k.
Lorsque P est petit, les bandes interdites tendent à disparaître. Lorsque P tend vers l’infini, les
bandes permises se réduisent aux points n. ( n 1,2,3,......... . ). Le spectre d’énergie
n 2 .h 2
devient discret : E
8m.a
Cette courbe de dispersion fait apparaître la notion de bandes
d’énergie permises et interdites qui est à l’origine des
propriétés de conduction des S-C (figure II.9). Pour bien
comprendre pourquoi l’existence de bandes interdites
conditionne les propriétés de conduction, il suffit de
considérer le nombre d’électrons que peut contenir une
bande permise. A cette fin nous utilisons une fois de plus le
comptage des états dans l’espace réciproque k. Le nombre
d’états possibles occupés par les électrons est donné par la
2 Figure II.9
largeur de la bande permise divisée la largeur de la cellule
a
2
élémentaire , le tout multiplié par 2 pour le nombre de
L
spins.
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Supposons en effet que l’on apporte au matériau une énergie E > E G. La radiation va échanger son
énergie avec le matériau et permettre de faire passer un électron de la bande de valence vers la
bande de conduction. Ce départ va donner naissance à un « trou » dans la bande de valence.
L’apport d’énergie peut donc, en satisfaisant la condition définie ci dessus, casser une liaison
faisant ainsi apparaître une liaison manquante (trou) et un électron libre. Ces deux entités vont
pouvoir, sous l’action d’une force extérieure (champ électrique), se déplacer donnant naissance à
des courants électriques. Ces charges étant de type opposé et se déplaçant en sens contraire
donnent naissance à des courants additifs.
On peut briser une liaison de valence si on apporte une énergie (thermique ou lumineuse)
suffisante: on arrache ainsi un ou plusieurs électrons (précédemment engagés dans ces liaisons).
Ceci revient, dans le modèle de bandes d’énergie utilisé, à faire passer ce ou ces électrons de la
bande de valence à un état situé dans la bande de conduction (à un niveau dépendant de l’apport
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d’énergie) : l’électron est libre (il ne participe plus à une liaison cristalline) et peut, par contre,
participer à la conduction électrique (figures II.8 et II.9). Il se comporte comme une particule
quasi-libre dans le semi-conducteur car il y subit l’influence du réseau. On représente cette
particule (électron) quasi-libre par une quasi-particule libre en lui affectant une masse effective m n
différente de la masse m0 de l’électron libre dans le vide.
Figure II.9. Apparition d’un électron et d’un trou libre lors d’une rupture de liaison covalente.
p2
(approximation parabolique de la bande de conduction) ; avec l’énergie cinétique d’un
2m m
électron libre. Ainsi l’énergie supplémentaire (par rapport à E C) des électrons est une énergie
cinétique et on déduit par identification que la masse effective des électrons dans la vallée
considérée est donnée par :
2E p 2
mn qui est l’inverse de la courbure de E(p). m *
p2 2
2
k
Ce résultat est très important. Il met à nouveau en évidence l'importance de la notion de masse
effective, qui dépend donc de la courbure de la relation de dispersion ε(k). Elle peut être aussi bien
négative que positive.
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Fig.I.9 : Expression de la densité des niveaux permis au voisinage des limites de bandes permises.
Pour connaître le remplissage des niveaux il nous faut une autre information et ce sont les
physiciens Fermi et Dirac qui vont nous aider en nous fournissant la probabilité d'occupation d'un
niveau d'énergie en fonction de l'énergie de ce niveau et de la température (Fig. I.10).
On peut alors calculer le nombre d'électrons présents dans une tranche d'énergie entre E et E+dE
qui s'exprime par : dn = 2 f(E,T) De(E) dE
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Ce qui intégré entre Ec et l'infini permet de déterminer la concentration n d'électrons dans une
bande de conduction supposée s'étendre jusqu'à l'infini. Mais, ainsi que le montre la figure I.11,
dans la bande dite de conduction BC les niveaux effectivement occupés sont en nombre très vite
voisin de zéro dès qu'on s'éloigne un peu du bas de la bande de conduction. Notons que la surface
correspondant aux niveaux occupés dans la bande de conduction est équivalente à celle
correspondant aux niveaux vides de la bande de valence. Une avant dernière remarque, dans un
semiconducteur pur (intrinsèque) le niveau de Fermi se trouve sensiblement au milieu de la bande
interdite.
On remarque aussi que, dès lors que la température augmente, le nombre de niveaux occupés
dans la bande de conduction augmente (en raison de l'évolution de la fonction de répartition) ce
qui revient à dire que des électrons sont passés de la bande de valence à celle de conduction et
donc que la conductibilité du semiconducteur s'est améliorée.
La concentration en électrons se déduit de la connaissance de la densité d'états et de la
probabilité d'occupation.
2 EF EC EF EC
n .( 2m et .KT) 3/ 2
exp( ) N C . exp( ) avec N C 2.51019 cm 3
h3 KT KT
De même qu'on a pu déterminer une masse effective m e de l'électron dans le semiconducteur, on
peut définir une masse effective mh des trous dans la bande de valence. Notons que par nécessité,
il y a dans un semiconducteur intrinsèque autant de trous dans la bande de valence que
d'électrons dans la bande de conduction, ainsi si l'on appelle p la concentration en trous on aura n
= p. Et en faisant le même raisonnement pour les trous que pour les électrons on peut montrer
que
2 E EV E EV
p 3 .(2m t .KT) 3 / 2 exp( V ) N V . exp( V )
h KT KT
EV EC
on en déduit : np N C N V exp( )
KT
or n p et l'on écrit n.p n i2 en appelant conductivité intrinsèque la quantité
EG
n i ( N C N V )1/ 2 exp( ).
2KT
A partir des expressions de n et de p on peut en tirer le niveau de Fermi
1 3 m
EF (E V E C ) .KT.Log( t )
2 4 me
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Aux températures usuelles la quantité kT est petite et le second terme peut-être négligé en
première approximation et le niveau de Fermi se trouve donc au milieu de la bande interdite.
En examinant l'expression de ni on voit que le terme entre crochets, variant en T puissance 3/2,
varie peu vis à vis du terme exponentiel, donc la conductivité d'un semiconducteur intrinsèque
varie sensiblement comme une exponentielle en -1/T ce qui différencie sensiblement les
semiconducteurs des métaux lesquels voient leur résistivité varier sensiblement
proportionnellement à T (figure I.12). Cependant si la température vient à croître fortement
(plusieurs centaines de °C) le terme en T3/2 va finir par varier plus vite que le terme exponentiel et
le semiconducteur verra alors une variation de sa résistivité de type métallique ce qui ne
présentera plus d'intérêt pratique : les semiconducteurs ne pourront donc être exploités qu'à des
températures proches de l'ambiante, dès lors qu'ils seront traversés par des courants importants,
générant un effet Joule conséquent, on sera donc contraint de les refroidir pour limiter leur
température à des valeurs acceptables pour lesquelles leurs propriétés restent convenables. Cette
contrainte explique la présence de radiateurs et de ventilateurs dans nombre de dispositifs à
semiconducteurs.
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e2 m 0 .v 2
: électron sur une orbite autour du noyau
4 0 r 2 rn
Quantification du moment cinétique : m 0 rn v n.
4 0 2
Rayon de la 1ère orbite de Bohr : r0
m 0 e2
Les niveaux d'énergie de l'atome d'hydrogène sont donnés par :
4
1 m0e
En m0 v 2 E P
2 2(4 0 ) 2 (n. 2 ) 2
1
qui s'écrivent aussi comme: E n .R y
n2
où R y 13.6eV est l'énergie de Rydberg. En effectuant les substitutions pour les masses
effectives et la constante diélectrique, les niveaux d'énergie pour l'impureté s'écrivent:
1
En 2
.R *y
n
Cette renormalisation va conduire, dans les cas pratiques, à une forte réduction de l'énergie de
m*
Rydberg. Par exemple, dans le GaAs, E R y 5.5meV (avec r 13 et
*
0.067 ).
m0
L'énergie d’ionisation de l'impureté est donc nettement plus faible que l'énergie thermique à
température ambiante. Pour cette raison, en très bonne approximation, on peut considérer
que toutes les impuretés sont ionisées dans le GaAs à température ambiante.
L’application de ces résultats au germanium et au silicium est compliquée par l’anisotropie de la
masse effective des porteurs de charge. Vu que l’influence de la constante relative r est
beaucoup plus importante que celle de la masse effective, nous pouvons déterminer avec une
bonne approximation les niveaux liés à l’impureté en prenant m* 0.2m0 .
Le tableau ci-dessous donne les valeurs expérimentales de E D et E A pour les principaux
éléments dopants, dans le silicium et le germanium.
P As Sb B Al Ga
Si 0.045 0.049 0.039 0.045 0.045 0.065
Ge 0.0120 0.0127 0.0096 0.0104 0.0102 0.0108
Les énergies calculées sont faibles, largement plus faibles que celle relative à la largeur de la
bande interdite. Ceci justifie leur appellation de niveaux "peu profonds" ou "shallow
donors/acceptors". Il est facile d'activer ces impuretés à température ambiante.
Dans le semiconducteur, le rayon de l’orbite associée au niveau n est exprimé par :
rn m0
r n2
r0 m*
On pourra, à titre de comparaison, montrer que le rayon de la 1 ère orbite de Bohr est de l’ordre
o o
de 80 A pour le germanium et de 30 A pour le silicium. Ces valeurs indiquent que les orbites
d’impuretés dopantes se chevauchent pour des concentrations relativement faibles.
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Chapitre II : Structure de bandes
Aux températures usuelles la quantité kT est petite et le second terme peut-être négligé en
première
III.3 Calcul de la densité des porteurs libres et du niveau de Fermi dans les semiconducteurs
extrinsèques : Comportement de la concentration des porteurs libres avec la température
Dans le cas complètement général, il est nécessaire de résoudre l'équation de la neutralité du
cristal: ND p NA n avec n D(E).f
EC
e (E).dE
Sachant que la concentration nD d’électrons occupant le niveau donneur E D est donnée par :
n D ND ND ND .f D (E D )
1 1
ND ND .(1 ND .
1 E EF E ED
1 exp D 1 2. exp F
2 kT kT
Quant à la concentration n A d’électrons occupant le niveau accepteur E A , elle est donnée
par :
n A N A NA NA .f A (E A )
1 1
N A N A .(1 NA .
1 E EA E EF
1 exp F 1 2. exp A
2 kT kT
L'équation fondamentale à résoudre est:
1 1 n 2i
ND . p NA . n Avec p .
EF ED EA EF n
1 2. exp 1 2. exp
kT kT
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E EC E ED E EC
n NC . exp F NC . exp( F ). exp( D )
kT kT kT
NC 8ND E ED E EC
.1 1 exp( C ) . exp D
4 NC kT kT
8ND E ED N C ND E ED
TBT : exp C 1 n exp C ;
NC kT 2 2kT
E E C kT ND
EF D Log( )
2 2 2N C
8ND E ED
HT : exp C 1 n ND : toutes les impuretés sont ionisées
NC kT
N
E F E C kT.(Log( D )
NC
THT : toutes les impuretés sont ionisées ( ND ND ), la contribution des porteurs
intrinsèques ne sera pas négligée
n2 n2
ND p n avec p i N D i n n 2 n.ND n 2i 0
n n
N 2n 2n
La solution trouvée s’écrit : n D .1 1 ( i ) 2 avec ( i ) 2 1 n n i et
2 N D ND
EC EV 3kT m *t
EF Log ( ) : semiconducteur intrinsèque
2 4 m e*
Sur la figure III.5, nous montrons l’évolution, en fonction de la température, du niveau de Fermi
par rapport au niveau donneur.
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