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REGOLAZIONE E CONTROLLO

DEGLI IMPIANTI
Cap. 1 - La Regolazione

RCI c.1 1
IMPIANTO
REGOLATO
V S

Xw
X
LA REGOLAZIONE CATENA APERTA
R

•  Tf=10°, Tc=40°
•  Tu=30°

•  Qu=Qf+Qc
•  Se Pf=Pc=cost.
•  Si ottiene:
•  Qc=2/3 Qu
•  Qf=1/3 Qu

RCI c.1 2
IMPIANTO
REGOLATO
V S

Xw
X
LA REGOLAZIONE CATENA APERTA
R

•  Qc=2/3 Qu
•  Qf=1/3 Qu

Tu
•  Qc=2 Qf
IMPIANTO

•  Vc=2 giri della Vf


Y

RCI c.1 3
LA REGOLAZIONE IN CATENA CHIUSA
IMPIANTO
REGOLATO
V S

RETROAZIONE
Y X

Xw
R

Xw
R IMPIANTO
REGOLATO
W V S

Y X

Xw
R

Rappresentazione a
blocchi
RCI c.1 4
Impianto o processo regolato

IMPIANTO
REGOLATO
V S

Y X

Xw
R

W
RCI c.1 5
IMPIANTO
REGOLATO
V S

Y X

Xw
IMPIANTO
S : sensore
R
REGOLATO
W
V S

V : attuatore e organo
Y X regolante
Xw R : regolatore
R
X : grandezza regolata
W (rilevata)
W : valore prescritto
Xw = X – W =
Y SISTEMA X
REGOLATO scostamento
Y : grandezza regolante
Zi : disturbo i-esimo o
grandezza
Z1 Z2 Z3 perturbatrice

Y SISTEMA X
REGOLATO

RCI c.1 6
IMPIANTO
REGOLATO
V S

Y X

Xw
R

Z1

Z2

Z1 Z2

Y SISTEMA X
REGOLATO

RCI c.1 7
IMPIANTO
REGOLATO
V S

Y X

Xw
R

Xw = X - W
Y

Z1

X
Organo misuratore

Il comando. Elemento sensibile

La regolazione Z2

manuale

Z2

Rappresentazione
Z1 IMPIANTO
REGOLATO
V S
a blocchi dell’anello
Y X chiuso di una
regolazione
Cervello Occhio
manuale
W

RCI c.1 8
IMPIANTO
REGOLATO
V S

Y X

Xw
R

Z1
V
R S : organo misuratore
X V : organo regolante
REGOLAZIONE S
W

AUTOMATICA R : regolatore

Z2

IMPIANTO
REGOLATO
V S
CIRCUITO DI
Y X REGOLAZIONE
Xw
R

RCI c.1 9
IMPIANTO
REGOLATO
V S

Y X

Xw
R

W
Valvole a galleggiante a 2 vie "E-FLUX" a sede
compensata
Valvola di regolazione di livello automatica a
galleggiante "E-FLUX" a 2 vie di scarico per utilizzo
sia a squadra che a via diritta; caratteristiche
conformi alla norma ISO 5752 serie 1; piattello di
chiusura servoassistita e compensata dall'azione di
un pistone solidale e contrapposto di pari
superficie; asta orientabile di 45° rispetto all'asse
della tubazione; corpo e cappello in ghisa
sferoidale GS 400 con rivestimento epossidico
atossico alimentare, parti interne in acciaio Inox e
bronzo, guarnizioni in NBR; galleggiante e tubo di
collegamento in acciaio Inox. Pressione di esercizio
16 mPa
Funzionamento
La valvola a galleggiante "E-FLUX", installata sulla condotta di alimentazione,
controlla automaticamente il livello dell'acqua in un serbatoio riducendo e arrestando
l'alimentazione al livello massimo per aprire progressivamente quando il livello si
abbassa
RCI c.1 10
IMPIANTO
REGOLATO
V S

Xw
X
•  A differenza delle idrovalvole di livello non ha
necessità di una pressione minima di apertura
R

•  L'ampia luce di scarico consente un'agevole deflusso


alle basse pressioni
•  L’azione del pistone contrapposto al piattello di
chiusura compensa le forze e assicura sensibilità e
perfetta tenuta sia alle basse che alle alte pressioni
•  Il sistema di chiusura ad azione graduale elimina il
rischio di colpo d’ariete
•  Con l’utilizzo di appositi leverismi è possibile
l’installazione in posizioni di agevole accesso esterne
al serbatoio
•  Con il kit "DELTA-LEV" la valvola opera in condizioni di
apertura ottimali nell’ambito di un differenziale di livello
•  Minimo rischio di laminazione, comunque evitabile con
l’inserimento di un otturatore CSG (opzionale) a
portata progresssiva
•  La versatilità di installazione sia per sbocco a squadra
che a via diritta rende possibile ogni posizionamento

RCI c.1 11
IMPIANTO
REGOLATO
V S

Idrovalvola a membrana
Y X

Xw
R

W regolatrice di livello
Valvola di controllo livello a
deformazione elastica, corpo in
ghisa con rivestimento epossidico,
membrana in elastomero atossico
conforme al D.M. n. 174 del
06/04/2004 (sostituisce la Circ. Min.
Sanità n. 102 del 02/12/78), molla
otturatore in acciaio inox, circuito di
cablaggio in rame con raccordi in
ottone, filtro in ottone con rete inox
AISI 316, valvola a spillo di
taratura, pilota a galleggiante (1) o
(2), pressione di esercizio 16 bar
(1,6 MPa), flange forate a norme
UNI EN 1092-1
E' indispensabile una resistenza in uscita data da una colonna d'acqua di almeno 1 metro o da una flangia
tarata.
La velocità di chiusura ed apertura della valvola sono regolate mediante il rubinetto a spillo.
Può essere installata in qualsiasi posizione

RCI c.1 12
IMPIANTO
REGOLATO
V S

Y X

Xw
R

•  Pilota a galleggiante per livello costante: corpo e asta in ottone,


galleggiante in materiale plastico, raccorderia di collegamento alla valvola in
rame o polietilene per uso alimentare, staffa di fissaggio a parete. La
valvola a livello costante viene utilizzata nei serbatoi alimentati a gravita' (da
sorgente) o da acquedotti; se la alimentazione e' data da impianti di
pompaggio è indispensabile la valvola per livello differenziale.
•  Pilota a galleggiante differenziale: corpo in ottone, asta di guida e
galleggiante in acciaio INOX, lunghezza utile della barra cm 50
(differenziale di livello regolabile sul campo), contrappeso in ottone, piastra
di fissaggio a parete, guarnizioni in elastomero atossico conforme al D.M. n.
174 del 06/04/2004 (sostituisce la Circ. Min. Sanità n. 102 del 02/12/78),
raccorderia di collegamento in rame o polietilene per uso alimentare. La
valvola con differenziale di livello apre o chiude al raggiungimento delle
soglie di livello impostate, è indispensabile negli impianti alimentati da
impianti di pressurizzazione per evitare che le pompe siano in funzione con
la valvola parzialmente chiusa.

RCI c.1 13
IMPIANTO
REGOLATO
V S

Y X

Xw
R

Installazione all'esterno del


serbatoio
In particolari situazioni può essere
opportuno non ubicare all'interno
dei serbatoi apparecchiature per cui
siano prevedibili interventi di
operatori per controllo e
manutenzione.
In tali casi la valvola "E-FLUX" può
essere installata all'esterno con un
leverismo di collegamento.

RCI c.1 14
IMPIANTO
REGOLATO
V S

Y X

Xw
R

Kit accessori
Il Kit accessori "DELTA-LEV"
realizza un differenziale di livello
prestabilito in modo tale che la
valvola operi in modalità on/off:
o completamente aperta o
completamente chiusa,
evitando le vibrazioni e i logorii
tipici delle fasi di chiusura
intermedia.

RCI c.1 15
IMPIANTO
REGOLATO
V S

Xw
X
Misura di livello ad ultrasuoni
R

W L'apparecchiatura "45AC150" misura il livello


Y
R
nei serbatoi dall'alto senza che vi sia contatto
X
con il liquido. Gli impulsi ultrasonici emessi dal
V
Qe
trasmettitore, posto verticalmente sopra la
superficie del liquido, vengono riflessi e inviati
S al display con microprocessore che li elabora
proporzionalmente alla loro frequenza,
rilevando costantemente l'altezza della colonna
d'acqua
Qu

Trasmettitore di livello a sonda ultrasonora compensata


in temperatura.
Qu Campo di misura da 0÷0,2 a 0÷5/10/15/20/25 metri
Segnale in uscita analogico 4÷20 mA.
Programmabilità in sito del range di misura e del valore
di corrente in uscita, e di 2 soglie di allarme a mezzo di
pulsanti alloggiati nello strumento o tramite computer.
to t
Possibilità di attenuazione e guadagno del segnale.
X Set 2 relè in scambio liberamente configurabili su tutto il
campo scala.
W
Precisione tipica ± 0,5 % del valore letto.
Grado di protezione IP 68.
to t
Alimentazione 220 V a.c. o 24 V d.c.
RCI c.1 Potenza assorbita 2 Watt. 16
IMPIANTO
REGOLATO
V S

Xw
X
Misura di livello a sonda immersa
R

Il sensore piezoresistivo immerso nel


liquido, trasmette il segnale in corrente
al display in misura proporzionale
all'altezza del battente idrostatico
(colonna d'acqua).
Per le sue ridotte dimensioni (meno di 2
cm di diametro) il "MLS 255" è
l'apparecchio ideale per monitorare il
livello in spazi difficilmente accessibili,
trivellazioni ecc
•  Misuratore di livello per acqua a sonda
piezoresistiva
•  Taratura sul campo a mezzo di
potenziometri
•  Precisione ± 0,2% del valore misurato
•  Segnale reso 4÷20 mA
•  Campi di misura: da 0÷4,6 m a 0÷255
m
•  Diametro sonda 18 mm
•  Grado di protezione IP 68
•  Alimentazione: 12/36 V d.c
•  Cavo autoportante compensato
RCI c.1 17
V
IMPIANTO
REGOLATO
S
Sonda di pressione per misura il
Y X livello dinamico nei serbatoi e la
pressione negli impianti
Xw
R

Il trasmettitore "TPE 400" rileva la


pressione dinamica data dal battente
idrico all'interno del serbatoio; il segnale
in corrente viene inviato ad un display a
microprocessore che visualizza
costantemente l'altezza della colonna
d'acqua.
Applicato ad una tubazione rileva la
pressione dell'impianto per ogni
successiva elaborazione (lettura,
registrazione, trasmissione,
applicazione ad un processo, ecc.)
•  Misuratore di pressione, a cella
piezoresistiva.
•  Tarabile in campo a mezzo di potenziometri.
•  Sensore esterno affacciato al processo.
•  Precisione tipica ± 0,25 %.
•  Segnale reso 4÷20 mA.
•  Campi di misura: da 0÷400 bar.
•  Sovrapressione nominale x2.
•  Attacco al processo 1/4" G.M. o F.
•  Grado di protezione IP 67/68 (opzione).
•  Alimentazione: 7/35 V d.c.
RCI c.1 18
IMPIANTO
REGOLATO
V S

Xw
X
CARATTERISTICA STATICA DI UN PROCESSO
R

L’operatore deve conoscere il


Xw = X - W
COMPORTAMENTO STATICO del
Y
processo che intende regolare, cioè la
Z1
relazione esistente tra la posizione Y
W
dell’organo regolante ed il valore X di
X
regime della grandezza regolata.
Nota la caratteristica statica del
Z2 processo ed il valore prescritto W,
l’operatore porterà l’organo regolante in
una posizione Yo corrispondente al
X valore W.
A regime raggiunto ed in assenza di
perturbazioni, la grandezza regolata X
verrà a coincidere con il valore prescritto
W.

RCI c.1 19
IMPIANTO
REGOLATO
V S

Y X RISPOSTA TRANSITORIA DI UN PROCESSO:


R
Xw
comportamento dinamico
W

W
R
Y

X
Comportamento dinamico
V
Qe conseguente alla variazione
di una grandezza
S perturbatrice

Qu

qu = variazione della
perturbazione
Qu

xm = scostamento
massimo

to t Ts = periodo
Risposta X transitorio
transitoria di
un circuito di W

regolazione
to t
RCI c.1 20
IMPIANTO
REGOLATO
V S

Y X

Xw

Possibili
R

W
Qu (Z)
Risposte
transitorie di un
circuito di
regolazione
t

X
STABILE

X
STABILE

RCI c.1 21
IMPIANTO
REGOLATO

Qu (Z)
V S

Y X

Xw

Possibili
R

Risposte
transitorie di un
t circuito di
X regolazione
INSTABILE

INSTABILE
W

X
INSTABILE

t
RCI c.1 22
IMPIANTO
REGOLATO
V S

Y X

Xw
R

SCOSTAMENTO
RESIDUO della
Qu (Z) grandezza
regolata X rispetto
al valore prescritto
W
to t

X Scostamento
residuo

to t

RCI c.1 23
IMPIANTO
REGOLATO
V S

Y X

Xw
R

W COMPORTAMENTO DINAMICO conseguente ad una


variazione del valore prescritto

W
w

to t

X
w
W+w
W

to t

RCI c.1 24
IMPIANTO Z1 Z2
REGOLATO
V S

Y SISTEMA X

PROCESSI CON AUTOEQUILIBRIO


X
Y REGOLATO
Xw
R

Risposta transitoria di sistemi con


W

autoequilibrio a seguito di una


variazione a scalino della grandezza
t
regolante Y
X

La grandezza regolata X raggiunge


Ordine 0 ugualmente un valore di equilibrio
t dopo un periodo transitorio più o
X
meno lungo.
Ordine 1
t

X Indicheremo Yo e Xo i valori iniziali di


regime e con y e x le variazioni della
grandezza regolante e della regolata
t rispetto alle condizioni iniziali di
X
equilibrio.
Ordine 2
t

RCI c.1 25
t
IMPIANTO
REGOLATO
V S

PROCESSI CON AUTOEQUILIBRIO


Y X

Xw
R

Si definisce Valore di Autoequilibrio il rapporto tra la grandezza


W

regolante y e la grandezza regolata x


q=y/x
Tanto maggiore è questo rapporto tanto più facilmente il
processo sarà regolabile.
Il Grado di Autoequilibrio è definito dal rapporto adimensionale:
ρ = (y / Yh) / (x / W) = q (W / Yh)
dove:
Yh = campo di variazione della grandezza regolante
Il grado di autoequilibrio rappresenta un indice della capacità del
sistema di raggiungere (anche senza l’intervento del regolatore)
un nuovo stato di equilibrio dopo l’insorgere di una
perturbazione.

RCI c.1 26
IMPIANTO
REGOLATO
V S

Y X

Xw
R

W
RISPOSTA TRANSITORIA DI
UN PROCESSO DI ORDINE 1
Y CON AUTOEQUILIBRIO.
Il valore finale di equilibrio è
caratterizzato dal Fattore di
Amplificazione Vs del processo:
Vs = x / y
t
La durata del periodo transitorio
X è invece caratterizzata dal valore
Ts = Costante di tempo
della Costante di Tempo Ts del
processo.
Ts = tempo necessario affinchè
la variazione x (della grandezza
regolata) raggiunga un valore
Ts t pari al 63.2% (circa 2/3)* di
quello finale = Vs y

*: il valore è (1 – 1/e) con e = 2.718


RCI c.1 27
IMPIANTO
REGOLATO
V S

Y X

Xw
R

I parametri caratteristici della risposta


W

transitoria Vs (Fattore di amplificazione)


Y e Ts (Costante di tempo) risultano
indipendenti dall’entità della variazione y
della grandezza regolante.
Un processo del 1 ordine è caratterizzato
da una risposta transitoria espressa da
una equazione differenziale del 1° ordine
t del tipo:
X Ts (dx/dt) + x = Vs y
La cui soluzione:
x = Vs y [ 1 – exp(-t / Ts) ]
Il valore finale si deduce imponendo
t = infinito:
Ts t
x = Vs y

RCI c.1 28
IMPIANTO
REGOLATO
V S

Y X

Xw
R

Determinazione della costante di tempo


W

in un processo di ordine 1 con


autoequilibrio

X
Ts Ts

Vs y
Ts t

RCI c.1 29
IMPIANTO
REGOLATO
V S

Y X ESEMPIO SISTEMA DI ORDINE 1 CON AUTOEQUILIBRIO


Xw
R

Supponiamo di voler calcolare l’andamento della temperatura in un forno


W

domestico caratterizzato da una Capacità Termica Ct = 1600 [W s/K] e da una


Trasmittanza U = 1,2 [W/mq K] delle sue pareti (assunta uguale anche per lo
sportello vetrato). Il Forno ha una dimensione di 0,6x0,6x0,6 m con superficie
disperdente di S = (0,6x0,6)x6 = 2,16 mq. Il tutto viene riscaldato da una
resistenza elettrica di Potenza We [W] assunta pari a 1,5 kW.
L’energia fornita servirà ad aumentare la temperatura del forno compensando
contemporaneamente le perdita di calore per dispersione.
Per quanto attiene il riscaldamento di un corpo l’energia accumulata Ja al variare
della temperatura T posseduta è fornita dalla Ja = Ct T = cs M T e pertanto il
modello matematico del serbatoio termico:
dJa/dt = Ct dT/dt
cioè la potenza accumulata (o ceduta) è in relazione con la velocità di variazione
della sua temperatura.
Tale potenza (energia accumulata nellunità di tempo) la indicheremo con Wa.
La dispersione di calore dalla sorgente più calda (forno) a temperatura T e
l’ambiente esterno a temperatura Te è espressa da:
Wd = dJd/dt = U S (T-Te)
RCI c.1 30
IMPIANTO
REGOLATO
V S

Y X

Xw
R

L’energia fornita nell’unità di tempo dalla resistenza elettrica preposta al


riscaldamento del forno verrà in parte accumulata nel serbatoio termico e in
parte dispersa dall’involucro: We = Wa + Wd
Cioè la potenza accumulata più la potenza dispesa per conduzione sarà pari a
quella erogata dalla resistenza elettrica:
We = Ct dT/dt + U S (T-Te)
Se Te la consideriamo costante d[T-Te]/dt = dT/dt e se poniamo
1/R = U S dove 1/R ha dimensioni [W/mqK x mq = W/K] e quindi R [K / W]
Ct d(T-Te)/dt + 1/R (T-Te) = We
Sostituendo poi θ(t) = (T(t) – Te) :
Ct dθ(t) /dt + 1/R θ(t) = We
e moltiplicando tutto per R:
R Ct dθ(t) /dt + θ(t) = R We
Dove si potrà porre:
Ts = R Ct = Costante di Tempo [s] , infatti dimensionalmente [K/W x W s/K = s]
Vs y = R We = temperatura per t infinito , dimension. [K/W x W = K]

RCI c.1 31
IMPIANTO
REGOLATO
V S

Y X

Xw
R

Pertanto la R Ct dθ(t) /dt + θ(t) = R We rappresenta il modello matematico del


sistema forno e risulta analoga alla:
Ts dθ(t) /dt + θ(t) = Vs y
Espressa come equazione caratteristica dei sistemi del 1° ordine.
Si rileva quindi che la costante di Tempo Ts = R Ct dipende esclusivamente da
una caratteristica intrinseca del forno: la sua capacità termica e l’inverso del
prodotto (superficie x trasmittanza delle sue pareti) e non dipende dalla
potenza We della resistenza elettrica.
Analogamente il valore finale della temperatura a t infinito Vs y = We / (U S)
L’andamento della temperatura sarà quindi fornito dalla
θ(t) = (T(t)-Te) = Vs y [ 1 – exp(-t / Ts) ] = R We [ 1 – exp(-t / (R Ct )) ]
Ponendo i valori numerici innanzi indicati :
U = 1,2 W/mq K , Ct = 1600 W s/K , S = 2,16 mq , R = 1/(U S) = 0,39 K/W
Si ottiene: Ts = 617 s = 10,3 min e Vs y = R We = 585 K = 312°C oltre la
temperatura iniziale (ambiente) Tfin = Vs y + Te = 332°C se Te = 20°C.
Se non intervenisse un sistema di regolazione il forno raggiungerebbe
pertanto una Tfin di 332 °C.
RCI c.1 32
IMPIANTO
REGOLATO
V S

Y X

Xw
R

RCI c.1 33
IMPIANTO
REGOLATO
V S

Y X SISTEMA DI ORDINE 2 CON AUTOEQUILIBRIO


Xw
R

Risposta dinamica di sistemi del 2°


Ordine con autoequilibrio

y
La risposta sarà descritta da una
equazione differenziale del 2° ordine
del tipo:
t Ta2 (d2x/dt2) + Tb (dx/dt) + x = Vs y
con Ta e Tb delle costanti (dimensione
X
del tempo) dipendenti dalle
caratteristiche del processo.
Ad equilibrio raggiunto (x=cost) diventa
semplicemente:
X = Vs y

t
RCI c.1 34
IMPIANTO
REGOLATO
V S

Y X

Xw
R

Alcuni sistemi del 2° ordine possono essere costituiti da due


W

sistemi del 1° ordine collegati in serie

Y SISTEMA X1 SISTEMA X
REGOLATO REGOLATO

Y X1 X
y

t t t

RCI c.1 35
IMPIANTO
REGOLATO
V S

Y X

Xw
R

Risposta dinamica di
W

Y sistemi di ordine
superiore con
autoequilibrio
Si noti un certo

y
rallentamento iniziale
tanto maggiore tanto
t più è alto l’ordine del
processo

x=Vs y
X

t
RCI c.1 36
IMPIANTO
REGOLATO
V S

Y X SISTEMA DI ORDINE SUPERIORE CON AUTOEQUILIBRIO


Xw
R

y
t

x=Vs y
X

Tipica risposta dinamica di


n sistemi di ordine superiore

RCI c.1 37
IMPIANTO
REGOLATO
V S

Y X

Xw
R

Processi con TEMPO MORTO puro


W

SISTEMA
Y X
REGOLATO a
tempo morto puro

x=Vs y
Y X
y

t Tr t

Tr

Tr = Tempo morto

RCI c.1 38
IMPIANTO
REGOLATO
V S

Y X

Xw
R

La risposta transitoria di un sistema di


W

ordine superiore è abbastanza simile a


quella di un sistema di ordine 1
Y
caratterizzato da un:
• Fattore di amplificazione Vs

y
• Tempo morto equivalente Tr

To t
• Costante di Tempo Ts

x=Vs y
X

Tr Ts t

RCI c.1 39
IMPIANTO
REGOLATO
V S

Y X

Xw
R

Determinazione pe via grafica di Vs,


W

Tr e Ts di un processo di ordine
Y superione.
La conoscenza di Tr e Ts di un
processo di ordine superiore è indice

y
della facilità con cui si potrà regolare
l’impianto:
To t
Se:

x=Vs y
X Tr/Ts < 0.1 facile
0.1 < Tr/Ts < 0.3 suff. regolabile
Tr/Ts > 0.3 difficile.
In genere tanto è minore Tr rispetto a
Ts tanto più facile si può ritenere la
To t
regolazione di un processo.
Tr Ts

RCI c.1 40
IMPIANTO
REGOLATO
V S

Y X

Xw
R

Processi SENZA AUTOEQUILIBRIO


W

di ordine 1

Y Processo senza X
autoequilibrio

Y X
+y
-y

t t

RCI c.1 41
IMPIANTO
REGOLATO
V S

Y X

Xw
R

Se la pompa mantiene
W

costante la Qu il sistema è in
Y

X
equilibrio fino a quando Qe =
V
Qe Qu (caratterizzata dai valori Xo
e Yo).
S
Se si interviene sulla valvola
modificando la portata in
adduzione il livello del
X

Qu serbatoio (o in eccesso o in
difetto) il livello X inizierà ad
Y X
alzarsi (o abbassarsi) con
velocità (dx/dt) proporzionale
allo scostamento y.
+y

Yo Xo

dx/dt = Cs y
-y

t t
Valore di avviamento:
A = 1 / Cs max

RCI c.1 42
IMPIANTO
REGOLATO
V S

Y X

Xw
R

Possibile risposta di processi senza autoequilibrio di ordine


W

superiore
In questo caso il valore di avviamento è espesso come
rapporto tra la costante di tempo Ts e la massima variazione
VsYh della grandezza regolata conseguente allo spostamento
totale Yh della variabile regolante:
Y A = Ts / VsYh
+y
X

Yo Xo

t Tr t

RCI c.1 43
IMPIANTO
REGOLATO
V S

Y X

Xw

CARATTERISTICA STATICA DEI PROCESSI:


R

Diagramma dei valori di regime della grandezza regolata X per


diversi valori della grandezza regolante Y
PROCESSI LINEARI:
Caratteristica statica rettilinea ed hanno pendenza pari al fattore di
Y amplificazione Vs
Y3
Y2
Y1 tg (alfa) = Vs = x / y
Yo X
t
X3
X
X2
X3 X1

alfa
X2 Xo
X1 Yo Y1 Y2 Y3 Y
Xo

Ts t

RCI c.1 44
IMPIANTO
REGOLATO
V S

Y X

Xw
R

Se la caratteristica si discosta dalla forma rettilinea il processo è detto


W

NON LINEARE.
La risposta transitoria non sarà più esprimibile attraverso una
equazione differenziale lineare a coef. Costanti.
Il fattore di amplificazione Vs del processo non è più costante ma
funzione della grandezza regolante Y.

Yh Y
RCI c.1 45
IMPIANTO
REGOLATO
V S

Y X

Xw
R

ESEMPIO DI SISTEMA NON LINEARE


W

La portata in uscita è funzione del battente X : Qu = k √ X


X

V X
Qe
Y

X
W+x
S

W
X
W

(Yo)
Qu
Quo Quo+qu Qu

RCI c.1 46
IMPIANTO
REGOLATO
V S

Y X

Xw
R

Valori indicativi delle caratteristiche del comportamento


W

dinamico di alcuni sistemi ed apparecchiature

RCI c.1 47
IMPIANTO
REGOLATO
V S

Y X

Xw

Valori indicativi delle caratteristiche del comportamento


R

dinamico di alcuni sistemi ed apparecchiature

RCI c.1 48
IMPIANTO
REGOLATO
V S

Xw
X
Valori indicativi delle caratteristiche del comportamento
dinamico di alcuni sistemi ed apparecchiature
R

RCI c.1 49
IMPIANTO
REGOLATO
V S

Y X

Xw
R

RCI c.1 50
IMPIANTO
REGOLATO
V S

Y X

Xw
R

RCI c.1 51
IMPIANTO
REGOLATO
V S

Y X

Xw
R

RCI c.1 52

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