Valutazione con il metodo (FEM) dello

stress sull’osso riguardo l’effetto della

profondità di inserimento di un impianto
tipo Cono-Morse
Prof.Bartolomeo Trentadue
Dott.Mario Ceddia
Introduzione
Lo scopo di tale studio è quello di valutare la distribuzione delle sollecitazioni attraverso il tessuto osseo che circonda gli
impianti cono Morse dell’azienda Implacil de Bortoli e AoN in diverse posizioni rispetto all’osso alveolare 0mm, 1mm, 2mm.
L’entità dello stress è stato valutato utilizzando l’analisi agli elementi finiti (FEA).FEA è un metodo numerico che permette di
studiare il comportamento meccanico di un corpo in termini di tensioni e deformazioni una volta che sono stati assegnati le
proprietà del materiale, condizioni di vincolo, condizioni di carico. Diversi metodi come, utilizzo di estensimetri e modelli
fotoelastici sono stati utilizzati per studiare la relazione tra sforzo e deformazione nel campo dell’implantologia, ma il
vantaggio del metodo FEA consiste nell’effettuare studi accurati senza utilizzare tecniche in VIVO. Uno degli svantaggi
riguarda l’accuratezza dei risutati che dipendono in prima approssimazione dalle capacità di calcolo del software e dal
corretto inserimento dei risultati e condizioni di vincolo nonché dalla dimensione dell’elemento utilizzato per discretizzare il
corpo continuo.

Geometria
Stress (Von Mises)
Proprietà materiali
Carichi/vincoli
Proprietà materiali FEA
Deformazioni
Caratteristiche elemento (mesh)
Materiali e metodi
Modello CAD

Impianto Aon Impianto Implacil de

Diametro:3,5 mm Bortoli
Lunghezza:13 mm Diametro:4 mm
Modello 3D della mandibola derivato da una TAC. La sezione Lunghezza:9 mm
Software utilizzato:
selezionata per lo studio biomeccanico degli impianti è
Inventor 2023
presentato in colore verde.
 I materiali sono stati
Materiali e metodi considerati ISOTROPI ovvero
le proprietà meccaniche
come la rigidezza non
Materiali variano con direzione
E1=E2=E3 dove:
E= modulo di Young (Mpa)
Titanium
Titanium
(implant)
(abutment)

E1
Cortical
Bone

Cancellous
bone E3
E2
Materiali e metodi
Carico: 200N 45°

Mesh utilizzata=0,5mm permette di avere una

buona convergenza sui risultati: più è piccola la
mesh maggiore sarà l’accuratezza dei risultati.
Risultati
• Impianto Implacil de Bortoli

Valori massimi della sollecitazione di

Von Mises
Posizionamento equicrestale
• Corticale: 60 Mpa
• Spongioso: 15 Mpa
• Impianto: 650 Mpa
Impianto Implasil de Bortoli
• Posizionamento subcrestale 1mm

Valori massimi della sollecitazione di

Von Mises
Posizionamento subcrestale 1mm
• Corticale: 20 Mpa
• Spongioso: 8 Mpa
• Impianto: 720 Mpa
Impianto Implasil de Bortoli
• Posizionamento subcrestale 2mm

Valori massimi della sollecitazione di

Von Mises
Posizionamento subcrestale 2mm
• Corticale: 15 Mpa
• Spongioso: 13 Mpa
• Impianto: 750 Mpa
Conclusione

Posizionamento equicrestale Posizionamento subcrestale 1mm Posizionamento subcrestale 2mm

• Corticale: 60 Mpa • Corticale: 20 Mpa • Corticale: 15 Mpa
• Spongioso: 15 Mpa • Spongioso: 8 Mpa • Spongioso: 13 Mpa
• Impianto: 650 Mpa • Impianto: 720 Mpa • Impianto: 750 Mpa

Le sollecitazioni massime di Von Mises sono state riscontrate all’interno dell’osso corticale attorno all’impianto
inserito in maniera equicrestale seguito poi dall’impianto subcrestale di 1mm e 2mm. Le sollecitazioni più
elevate si trovano nell’osso corticale rispetto a quello spongioso inoltre, il posizionamento subcrestale tra 1mm e
2 mm risulta essere raccomandato per il successo a lungo termine. Il posizionamento oltre i 2 mm di profondità
è sconsigliato poiché aumenta lo stress nella zona apicale dell’impianto.
Risultati
• Impianto AoN

Valori massimi della sollecitazione di

Von Mises
Posizionamento equicrestale
• Corticale: 40 Mpa
• Spongioso: 3,5 Mpa
• Impianto: 754 Mpa
Risultati
• Impianto AoN

Valori massimi della sollecitazione di

Von Mises
Posizionamento subcrestale 1mm
• Corticale: 25 Mpa
• Spongioso: 11 Mpa
• Impianto: 784 Mpa
Risultati
• Impianto AoN

Valori massimi della sollecitazione di

Von Mises
Posizionamento subcrestale 2mm
• Corticale: 14 Mpa
• Spongioso: 12 Mpa
• Impianto: 820 Mpa
Conclusione

Posizionamento equicrestale Posizionamento subcrestale 1mm Posizionamento subcrestale 2mm

• Corticale: 40 Mpa • Corticale: 25 Mpa • Corticale: 14 Mpa
• Spongioso: 3,5 Mpa • Spongioso: 11 Mpa • Spongioso: 12 Mpa
• Impianto: 754 Mpa • Impianto: 784 Mpa • Impianto: 820 Mpa

Le sollecitazioni massime di Von Mises sono state riscontrate all’interno dell’osso corticale attorno all’impianto
inserito in maniera equicrestale seguito poi dall’impianto subcrestale di 1mm e 2mm. Le sollecitazioni più
elevate si trovano nell’osso corticale rispetto a quello spongioso inoltre, il posizionamento subcrestale tra 1mm e
2 mm risulta essere raccomandato per il successo a lungo termine. Il posizionamento oltre i 2 mm di profondità
è sconsigliato poiché aumenta lo stress nella zona apicale dell’impianto.
 Confronto impianto de Bortoli con AoN
Implasil de Bortoli
Come si vede dai risultati
FEM per entrambi gli
impianti è consigliabile
un inserimento a una
profondità di 1/2mm.
L’impianto AoN per la
sua geometria riesce a
scaricare all’interfaccia
osso impianto minor
AoN stress rispetto a quello
Brasiliano, ma gli stress a
cui l’abutment è
soggetto risultano essere
maggiori rispetto
all’impianto brasiliano.
In conclusione entrambi
gli impianti non
mostrano rilevanti
criticità