NanoMat 2010

Sintesi di superfici antiriflettenti con morfologia ad occhio di farfalla

Marino Colasuonno
colasuonno@civen.org

NanoMat 2010. Marghera, 12-11-2010

Outline
La tecnica PECVD Antiriflesso - Effetto moth-eyes:
Etching della plastica Crescita colonnare Hot-embossing

Polimerizzazione via plasma Rivestimenti:

Barriera Protezione della plastica Fotocatalitici DLC

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PECVD
Plasma Electronics Thin Films

Pulsed-DC capacitivo RF capacitivo Micro-wave Anche per gas corrosivi

Capacit 1 m3
VANTAGGI

Deposizione PECVD/PVD Produzione particelle core-shell

Deposizione su polveri e fibre

Alta rate di deposizione. Gli impianti sono compatibili con altri processi in vuoto Depositare su qualsiasi substrato Buona omogeneit di deposizione

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PECVD: campi di applicazione

Principali campi di applicazione
- Ottico: celle solari Dispositivi elettronici.... - Fotocatalisi Protezione di superfici: Barriera Anticorrosione Antigraffio Idro-oleofobico
Principali collaborazioni attive con le industrie italiane Progetti Regionali (VENETO, L.9, 297, POR, etc.) Progetti Nazionali (Industria 2015, PON) Commesse dirette
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Antiriflesso - Effetto moth-eyes

Applicazioni:
Lenti olftaminiche, finestre, Lenti per dispositivi ottici (microscopi, telecamere, ) Displays, pannelli solari, sorgenti di luce Plastic moulding (cruscotti auto, visiere dei caschi, ) Compact Disc, DVD Allineamento LCD

Moth-eye Bernhard (1967)

Aria Vetro

Moth-eye esempio di biomimetica Variazione graduale dellindice di rifrazione nessun fenomeno di riflessione Diminuzione Riflettivit Trattamento antiriflesso in tutto il visibile

luce
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Antiriflesso - Effetto moth-eyes

Controllo Nano della morfologia

Differenti modi: 1. Etching della plastica 2. Crescita di nanostrutture (SiO2, ITO, TiO2,.) (Magnetron sputtering) 3. Hot Embossing

Morfologia + Chimica

Valore aggiunto alleffetto moth-eye

Super idrofobico, idrofilico

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Etching della plastica

100 80 T%
PMMA XT 3mm 50 W 5m2,5m PMMA XT 3mm 50 W 10m5m

T ~ 3%

60 40 20 0 300 400 500 600 (nm) 700

NT 50w 100w 150w 200W

PMMA XT 3mm 100 W 5m2,5m

PMMA XT 3mm 100 W 10m5m

800

Influenza delle condizioni di etching Possibile uso di maschera

PMMA XT 3mm 200 W 5m2,5m PMMA XT 3mm 200 W 10m5m

Rivestimento SiO2 per maggior durezza

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Crescita colonnare
Target

Fenditura

Tilt 10

6 cm

30

GLAD deposition: Angolo di deposizione mi infuenza la crescita > 80 rivestimenti porosi e colonnari

> Antiriflesso

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Risultati ottenuti
100

T > 3%
90

Rivestimento di SiOx su un lato del vetrino Variando langolo di deposizione si ha un incremento della trasmittanza
Vetrino Test 1 Test 2 Test 3 Test 4

T%

80 20 10 0 200

3.4 3.2 3.0 2.8 2.6 2.4 2.2 2.0 1.8 1.6 400 500 600

300

400

500

600

700

800

900

N TiOx 0 N TiOx 30vs TiOx 10 N TiOx 60vs TiOx 0 _10 sccm N TiOx 85 vs TiOx 0 _10 sccm N TiOx 89vs TiOx 10

(nm)

Rivestimento di TiOx su un lato del vetrino Variando langolo di deposizione si ha una variazione graduale dellindice di rifrazione

700

800

(nm)

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Hot-Embossing
TiO2
Costo effettivo Economico e con bassi costi per volume di produzione Processo veloce. Semplice realizzazione industriale Compatibile con il processo roll-to-roll Fabbricazione di strutture con alta aspect ratio

CrN
Masters per Hot Embossing

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Risultati su PMMA

CrN

T > 2%

T > 1% TiO2

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Polimerizzazione via plasma

Rivestimenti Teflon like
125
C-Hn C=O C-Fx C-Hn 1221

Oleofobico , antimpronta Superidrofobico

Trasmittanza (u.a.)

120 115 110

1490 Fluo 1 flottante Fluo 2 flottante Fluo 3 flottante Fluo 4 flottante

105 100 4000

2960

1728

Avio
1000

3000 2000 -1 frequenza (cm )

C-H

160

C-H C=O COOC-O

Rivestimenti acrilati
Primer, idrofilico Applicazioni mediche

Trasmittanza (u.a.)

140 120 100 80 60

O-H
1700 1455 1203 1416

2916

40 4000 3500 3000 2500 2000 1500 1000 500

(cm )
-1

AA_6 AA_7 AA_8

Naomi (UniTn)

Si+AA (1500 nm)

Si + nanoSiO2 (300 nm) + AA (1500 nm)

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Rivestimenti barriera
MultiSiOuX (brevettato)
Un solo processo continuo Controllo dello spessore dellinterfaccia per migliore adesione organico/inorganico Strati ceramici non continui

Applicazioni:
Rivestimenti barriera sui polimeri Packaging alimentare (polimeri biodegradabili es: PLA) OLED.

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Rivestimenti barriera
Multilayer (10 layers) PS CO2 TR (cc/m224h bar) PS+acrylic CO2 TR (cc/m224h bar) PS+acrylic (benbing 2.2 %) CO2 TR (cc/m224h bar)

15 nm PS (130 m )

NT

30 nm

4200 15% 42 15% 44 15%

1000 15% 6 10 15% 15% 10 15% 138 15%

ML 15V 100P ML 30V 100P

Propriet barriera invariate Aumento della flessibilit

BIF circa 700 OLED

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Protezione della plastica

Antigraffio (NanoSioux brevettato)
Antigraffio sui polimeri: automotive, adhesives, Processo di deposizione PECVD + Sol gel Scalpel scratch

Sole Spa Anodica Trevigiana

Processo a freddo

SiO2 270nm

SiO2 270nm + nano

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Protezione della plastica

Trasparente
Nanostrutture con dimensioni inferiori a 100 nm non diffondono la luce

PVC
Particelle di ZnO di diametro 100 nm inglobate in una matrice di SiO2 realizzata in PECVD Nessun invecchiamento della matrice e alterazione del substrato NanoMat 2010. Marghera, 12-11-2010

Rivestimenti fotocatalitici
Fotocatalisi
TiO2 su acciaio TiO2 on steel TiO2 su rame = 20 = 70

m TiO2 on 5 Cu

Resistenza ad alte temperature

Protezione allossidazione a 450 C per 6h

Con TiO2 Senza TiO2

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Rivestimenti DLC
DLC
Buona durezza (10000-15000 HV) Basso coefficiente di attrito = 0.02 Biocompatibilit

PECVD DLC

Riduce lusura dei componenti meccanici incrementando la durata e performance Riduce il riscaldamento dei componenti Applicazioni Meccanica (ingranaggi, viti, .) MEMS Plastic moulding Sportware
CNR ICS Roma

Distretto Meccatronica

Tecnica Spa

San Benedetto

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Ringraziamenti
CIVEN researchers Tutti I ricercatori CIVEN
A.Patelli, S. Vezz, L. Zottarel, A. Surpi

for funding

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