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Fotoelasticita: 2. L'effetto fotoelastico 7 2. L'EFFETTO FOTOELASTICO Le materie plastiche, che si impiegano in fotoelasticita (resine epossidiche, policarbonato, etc.), manifestano la birifrangenca accidentale meccanica (0 effetto fotoelastico) quando sono soggette ad un sistema forze. In particolare (Figura 2.1) un campo luminoso, polarizzato linearmente, incidente normalmente su di un modello in materiale fotoelastico soggetto a stato piano di tensione subisce le seguenti trasformazioni: 1. il campo incidente, nel generico punto A del modello, si scinde in due campi (Ey. £2) polarizzati linearmente secondo due direzioni ortogonali che coineidono con le direzioni delle tensioni prineipali o; ¢ o2'; 2. le velocita v; e vz di propagazione dei due campi all’intemo del modello ¢ quindi i relativi indici di riftazione (n=c/v) n, e n2 dipendono dalle tensioni prineipali aj ¢ o. Pid precisamente gli indici di rifrazione 1 e nz dipendono dalle tensioni principali oj € a7 secondo la relazione di Maxwell-Neumana che pud seriversi n,-n, =C(o,-0,) Q.1) dove Cé la costante fotoclastica del materiale utilizzato. Figura 2.1. ~ Hffetto fotoelastico nel caso di stato piano di tensione NOTA ~ Come si determina ia (2.1) In generale un materiale fotoclastico soggetto ad uno stato tridimensionale di tensione | definito dalle tensioni principali 07, o>, 05, diventa otticamente anisotropo. Tale anisotropia ottica pud essere descritta mediante / ellissoide degli indici (0 di Fresnel) [1.1.4] i cui assi principali coincidono con quelli delle tensioni principali, Gli indici di riftazione (ny, nz, m3) relativi alle direzioni delle tensioni principali (oi, 02, 03) sono legati alle tensioni principali dalle relazioni di Maxwell — Neumann: n, =n, + Ao, + Blo, +05) (2.2) ny =n, +o, +Bla,+0,) 23) “In figura, per semplicita si considera un punto con direzioni principali orizzontale e verticale 18 A. Ajovalasit - Fotomeceanica: parte | 1 =7, + Ao, +B(o, +05) (2.4) dove ne & l'indice di riftazione del materiale in assenza di forze, A e B sono le costant fotoelastiche assolute del materiale. ), Je relazioni (2.2) e (2.3) divengono: @5) 4 ny =n, + Ao, + BO, 26) | da cui per differenza si ottiene | n,~n, =(A-BYo,-0;) 27 | che coincide appunto con la (2.1) dove si é posto C=A-B. | Si noti che la (2,7) vale anche nel caso tridimensional come si ricava dalla differenza tra | i | 0.2) ¢ (2.3):ci08 Feventuate tensione o5 parallela alla ditezione di propagazione del camp | ‘n; e quindi non influenza la loro differenza. Quest | | influenza in eguale misura gli indici m;, apitolo dedicato alla fotoelasticitatridimensionale. | citeostanza verr’ eseminata meglio nel ¢ di propagazione, all’uscita dal modell campo pitt lento esce dal modells | I due campi luminosi, a causa della diversa velocit (Fig. 2.1, punto B) risultano sfasati nel senso che, quando il iL campo pit veloce ha gia percorso (Figura 2.1) nell'aria uno spazio 4, detto ruardo spazial: dato da: A=d(n-n,) 28) NOTA Come si determina il ritardo spaziale Indicando con 1)=dv; e t:=d/’3 i tempi che impiegano i due campi per attraversare i modell | lo sfasamento temporale t tra i due campi risulta i ot pat-t=d 4- eo Ay M2 I cortispondente sfasamento o ritardo spaziale A risulta, indicano con ¢ la velocita propagazione della huce all’esterno del modello (assunta uguale a quella nel vuoto): \ 7 abn) 2.10 | WY ‘essendo mp=c/v; € na=c/vy gli indiei di rifrazione dei campi polarizzati secondo le direzic Tale titardo, tenendo conto della (2.7), risulta: A=Cd{o,-o,) Qi! In fotoclasticita si considera di solito il ritardo spaziale relativo alla lunghezza d' onda 2. de luce utilizzata (6=A/2.) che pertanto risulta: beens) La (2.12) @ la relazione fondamentale delta fotoelasticitd. Noti la costante C (media operacione di taratura), lo'spessore d e la lunghezza d’onda della uce 2, la misurazione ritardo 8 consente di determinare la differenza delle tensioni prineipali (o\~o.) | t | | | | | delle tensioni prineipali | | [ Qu Fotoelasticita: 2. L'effetto fotoelastico Lo Si noti che Fosservazione del modello nelle condizioni sopra indicate non consente la non possono interferire essendo polarizzati secondo due direzioni ortogonali (Figura 2.1), Per rilevare Peffetto fotoelastico ¢ Quindi determinare il ritardo, il modello deve essere osservato in una apparecchiatura denominata polariscopio (0 banco fotoelastico) che verta descritta nel seguito (cap. 4), NOTA ~ | cammini ottico ne! modello fotoelastico La relazione (2.8) che fornisce il ritardo spaziale pud essere determinata direttamente utilizzando il concetto di cammino ottico (prodotto del cammino geomettico per Vindice di tifrazione), Si considerino a tal fine i cammini ottici tra due piani generiei J ¢ 2 distanti z (Figura 2.2), A modelo scarico il cammino ottico risulta (Figura 2.2-a) L=m-+d(n,~n) 2.13) dove nm & Pindice di riftazione del mezzo ambiente. A modello catico i caimmini ottici dei campi diretti secondo le tension principali, 0, 0, risultano: L=2n+d'(n,-n), L,=m+d(n,-n) (2.14) 2.15) | dove a’ =a é lo spessore del modelo carico, | Dalle (2.14) ¢ (2.15) si ricava che il ritardo 4, gid determinato in precedenza [si veda I’eq. 2.11)}, & uguale alla differenza dei cammini ottici a modello carico, cio® ~ky (2.16) Tnfine si noti che i cammini ottici ed il ritardo si possono esprimere in termini di fase angolare mediante le relazioni: % 21, o=% (2.17) (2.18) (2.19) iz 1 M 2 a a ° i (eee z @ ) Figura 2.2 I cammini ottici nel modelo fotoelastico: (a) modello scarico, (b) modell carico.