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a/2
( 2.71
)
a ( 5.43 )
51022
[atomi/cm3]
8
atomi
Configurazione degli stati di energia per il C, Si, Ge relativamente ai 4
elettroni di valenza in funzione della spaziatura interatomica.
EG
d0 d
metallo
isolante
semiconduttore
Banda di
conduzione
EC
elettroni
9eV EV
per SiO 2 EG EC
EG EF (livello di Fermi) EC
EV
EV
lacune
Banda di valenza
1
0K
300 K
0.5
200 K
0 EF E
E E E
Banda di
Conduzione
EC
-----
EF
EV
+++++
Banda di
Valenza
0 0.5 1 f(E) N(E) (E)
EV
nC = f (E) N(E)dE
E =EC
; nV = f (E) N(E)dE
E =0
;
Semiconduttori
La maggior parte dei dispositivi elettronici sfrutta le propriet delle
giunzioni o tra materiali semiconduttori differenti, oppure tra metallo e
semiconduttore.
Lo studio di tali dispositivi richiede perci la conoscenza delle propriet
chimiche, fisiche , termiche ed elettriche dei diversi tipi di
semiconduttori.
La moderna tecnologia elettronica utilizza un numero di materiali
semiconduttori semplici, cio costituiti da ununica specie atomica, e/o
composti cio costituiti da pi specie atomiche.
Semiconduttori utilizati: Si, Ge, GaAs, InP, SiGe, AlGaAs.
Elementi tetravalenti (4 elettroni di valenza)
Se non sono introdotte impurezze si parla di Semiconduttori
Intrinseci
+4 +4
ATOMI DI SILICIO
LEGAMI
COVALENTI
+4 +4
Evuoto
Affinit
Elettronica q
Econduzione
qS
Energy gap
EF
Evalenza
45 meV
Donori
45 meV
accettori
n p = n i2 = concentrazione intrinseca
N A + n = ND + p
nn = ND + ni
nn ND Portatori di maggioranza
pp = NA + ni
pp NA Portatori di maggioranza
n i2
np Portatori di minoranza
NA
E E E
Banda di
Conduzione
EC -------
EF
EV
+ + +
Banda di
Valenza
0 0.5 1 f(E) N(E) (E)
E E E
Banda di
Conduzione
EC - - -
EF
EV
+++++++
Banda di
Valenza
0 0.5 1 f(E) N(E) (E)
Modello a Dualit di Carica
up
un
u = E = mobilit
A = d*w
d
N = Elettroni nella barra
L
L = Lunghezza del conduttore w
T = tempo necessario ad un elettrone a percorrere il conduttore
N/T = numero di elettroni che attraversa la sezione S nellunit di tempo
N uN
I = -(-q
) = (q )
T L
I uN
J = = q = qn u = u
A LA
Dove : J [A/m2] la densit di corrente.
[Q/cm3] la densit di carica
Densit di Corrente in un Semiconduttore
La densit di corrente J [A/m2] pu essere espressa come:
J = m u
-m la densit di carica [Q/cm3], u la velocit [m/s], la
conducibilit ed il campo elettrico [V/cm].
Indicando con p la concentrazione di carica positiva [cm-3] e con n la
concentrazione di carica negativa [cm-3], si ha:
(per le lacune) (per gli elettroni)
m = q p m = q n
J p = +q p u p J n = q n u n
E E
J p = +q p u p J n = q n u n
E E
considerando :
up un
u p = p E p = u n = n E n =
E E
p medesima direzione e medesimo verso di p positivo
n medesima direzione e verso opposto di n positivo
Jp = q p p E Jn = q n n E
Si definiscono :
p = q p p conducibilit delle n = q n n conducibilit degli
lacune elettroni
L2p L2n
Coefficienti di D p = Dn =
diffusione p n
cm 2
[D ]
p = [D n ] =
sec
Valori
Valoritipici
tipiciper
perTT==300K
300Kdel
delcoefficiente
coefficientedi
didiffusione
diffusioneper
perelettroni
elettroniee
lacune
lacunedel Sieedel
delSi delGe
Ge
DDn == 35 2 2
n 35 cm
cm2/sec(Si)
/sec(Si) DDn == 100
n 100 cm
cm2/sec(Ge)
/sec(Ge)
DDp == 13 cm 22/sec(Si) DDp == 50 cm22/sec(Ge)
p 13 cm /sec(Si) p 50 cm /sec(Ge)
T la temperatura assoluta e K la costante di Boltzman (1,3510-23 [J/h]).
Inoltre valgono le seguenti relazioni:
Dp Dn T
= = VT = Volt
p n 11.600
Corrente di diffusione:
Moltiplicando i flussi n e p per la carica degli elettroni e delle
lacune si ottengono le densit di corrente Jn e Jp:
J p = q D p grad (p ) J n = q D n grad (n )
p Jp , p n
n
Jn
p , Jp n
Jn
x x
Equazioni del Trasporto
DRIFT DIFFUSIONE
J tot = J p + J n
Legge di Boltzmann
I drift = I diffusione ;
p1 p2
D h = h VT
x1 x2
KT
VT = = 25mV / 300K
q
dV dp dp dV
p q h = q D h ; = h dV =
dx dx p Dh VT
p2
dp 1 V2
= dV
p1 p VT V1
p1
V21 = VT log da cui si ottiene :
p2
V21
VT
p1 = p 2 e Relazione di Boltzmann
in modo analogo per gli elettroni si ottiene :
V21
VT
n1 = n 2 e
Equazione di Continuit
Bilancio di conservazione dei portatori di carica.
Si consideri un volume V, delimitato dalla superficie S, contenente
lacune con densit p.
Il numero totale di lacune P nel volume
dato pu essere espresso come segue:
P = p dV
V V
Dove p la densit di lacune.
La variazione di P nel tempo data da:
S
dP d
= p dV
dt dt V
Tale variazione pu essere dovuta ad un flusso uscente o entrante, di cariche
pi una variazione, nel processo di generazione-ricombinazione.
Sia allora:
G = n di coppie generate nellunit di volume e nellunit di tempo
R = n di coppie che si ricombinano nellunit di volume e nellunit di tempo
= versore normale ad S
allora si pu scrivere:
d
p dV = (G R ) dV p a dS
dt V V S
d 1
p dV + (R G ) dV = div(J p ) dV dove p = J p q
V dt V q V
d p 1 dp 1
+ ( R G ) + div(J p ) dV = 0 + ( R G ) + div(J p ) = 0
V dt q dt q
Ora si ponga: G = G th + G Gth coppie generate per effetto termico.
G coppie generate per altri effetti.
Quindi: R G = R G th G
Ponendo inoltre:
U = R G th U Variazione della concentrazione
delle coppie non considerando
leffetto termico
Si ottiene: R G = U G
p 1
t + U + div (J p ) = G
q
Quindi: n 1
+ U div(J n ) = G
t q
Che esprimono la condizione di continuit nellipotesi considerate.
+ div (J ) = 0 dove : = q p + ( q) n = densit di carica
t
Gradiente del Potenziale
Considerando la differenza di potenziale tra due punti distanti dl
d V = E d l
= E (d x x 0 + d y y 0 + d z z 0 ) = (E x d x + E y d y + E z d z)
Da cui si ottiene: V V V
E = - x0 + y0 + z 0
x y z
E = - grad V
Equazione di Poisson
Considerando la permettivit costante la legge di Gauss in forma
differenziale espressa dalla:
div E =
0 r
= q (N D N A + p n ) densit di carica totale
2V 2V 2V
div(grad V) = + + = 2V =
0 r x 2 y 2 y 2 0 r
Ricapitolazione
Formiamo il quadro completo delle equazioni in grado di determinare il
comportamento dei dispositivi, almeno fino a quando i campi elettrici
consentono di restare in un sistema di riferimento governato dalla linearit.
Trasporto:
J p = q p p E q D p grad (p )
J n = q n n E + q D n grad (n )
Continuit:
p 1
t + U + div(J p ) = G
q
n 1
+ U div(J n ) = G
t q
Poisson:
2V =
0 r
Quasi stazionariet:
E = grad (V )