Filmes Finos

Filmes Finos
Camadas com espessura inferior 10m
Monocamada
Multicamadas
Espessuras da ordem de dezenas de
ngstrons
Poos Qunticos Mltiplos de semicondutores
Sistemas magnticos para armazenamento de
dados
 Filmes Finos
Tcnicas de deposio vcuo
Sputtering
Trmica
Feixe de eltrons
Reatores de CVD
Variao da composio das camadas
 Filmes Finos
Pode existir uma correlao entre o subtrato e o
filme produzido
Epitaxial
(Des)Casamento entre as estruturas
Tenso normal e lateral
Relaxao
Formao de defeitos pontuais, discordncias e
interdifuso
Rugosidade interfacial
ptica para Filmes Finos
 ptica para Filmes Finos
Radiao monocromtica
Feixe colimado
Disperso cromtica do feixe
Difrao de Alto ngulo X Baixo
ngulo
Difrao de incidncia rasante
Separao entre o substratro e o filme
depositado
Varredura com a fonte de raio-x fixa e detector
variando
ngulo de incidncia do feixe entre 0,5 e 4,0o
 Reflexo de Raio-x
Comportamento semelhante luz para
ngulos inferiores 4o
Varredura -2
Lei de Snell
Densidade eletrnica das camadas
Reflexo de Raios-x - Parmetros
Espessura
Densidade atmica das camadas
Qualidade interfacial
Rugosidade
Interdifuso entre as camadas
 Teoria de Reflexo em
Multicamadas
Abels (1948) e Parrat (1954)
Teoria dinmica
Efeito da absoro
Fenmeno de multiplas reflexes
Desvio da trajetria de uma onda
eletromagntica por uma mudana de ndice
de refrao
Equaes de Maxwell
 Teoria de Reflexo em
Multicamadas
Matriz de reflexo com as quatro
componentes
Clculo da intensidade do feixe de sada
refletido
Clculo recursivo a partir do substrato
 Reflexo de Raios-x
Rugosidade Interfacial
Vidal e Vicent (1984)
Transformao Wronskiana
Interface com rugosidade
Feixes incidente, transmitido e refletido
Reconstitui uma interface perfeita
Teorema de Green em um circuito fechado
 Reflexo de Raios-x
Espessura
Miceli (1986)
Distncia entre os batimentos da
interferncia construtiva e destrutiva
Preciso de 0,01 nm para um sistema de
multicamadas
 Ajuste de Curvas
Experimentais
Rx-Optic, Avillez e Brant (1998)
Parmetros de entrada
Comprimento de onda
Dados experimentais
Dados para o chute inicial
Zero, background inicial e final
 Estratgia do Ajuste
Escala e o zero
Espessura das camadas
Rugosidade interfacial
Densidade e composio qumica das
camadas
Estudo de MQW Semicondutores
 Resultados do Ajuste
Amostra original
Cap Layer de InP de 20,0 nm 0,5
MQW de In0,55Ga0,45As com espessura de 4,2
nm e InP 8,0 nm
Todas as camadas foram ajustadas com
rugosidades de 0,32 nm
 Estudos de Interdufiso
Tratamento trmico 585oC entre 30
minutos e 4 horas
Coeficiente de interdifuso
Mtodo de Cook-Hilliard (1969)
 Referncias Bibliogrficas
Optical Properties of Thin Solid Films O.S.
Heavens Dover Publications 1965
Sur La Propagation des Ondes Electromagntiques
dans Les Milieux Stratifes F. Abels Annais
de Physique, 12a srie, t.3, p.33, 1948
Surface Studies of Solid by Total Reflection of X-
Rays L. Parrat Physical Review, vol. 93, No.2,
15 de julho de 1954
 Referncias Bibliogrficas
Metallic Multilayers for X-Ray using Classical
Thin Film Theory B. Vidal e P. Vicent Applied
Optics, Vol. 23, No.11, p.1794, 1o de junho de
1984
X-Ray Refractive Index: A tool to Determine the
Average Composition in Multilayer Strucutures
P.F. Micelli, P. Neummann e H. Zabel Applied
Physics Letters, vol.48, No.1, p.24, 6 de janeiro de
1986
 Referncias Bibliogrficas
A Model for Diffusion on Cubic Lattices and its
Applications to the Early Stages of Ordering
H.E. Cook, D. de Fontaine e J.E. Hilliard Acta
Metallurgica, Vol. 17, p.765m 17 de junho de 1969
Effect of Gradient Energy on Diffusion in Gold-
silver Alloys - H.E. Cook e J.E. Hilliard - Journal
of Applied Physics, Vol. 40, No.5, p.2191, abril de
1969
 Referncias Bibliogrficas
Caracterizao de Filmes Finos Cristalinos
e Amorfos por Reflexo de Raios-x Jos
Brant de Campos - Tese de Doutorado,
PUC-Rio 1998