UNIVERSIDAD NACIONAL DE INGENIERA Facultad de Ingeniera Qumica y Textil

Prctica N3 Electrodeposicin de cobre en bao ACIDO BRILLANTE

Grupo de trabajo: Chambi Canahuire Fredy Gustavo Chuquimia Ramos, Kenroy Garcilazo Gomero, Ivn Rivas Ricaldi, Csar Elas TrigosoVillalovos, Fernando Profesores: Ing. Villon Ulloa, Angel Eduardo. Fecha: Realizacin: Entrega:
DD MM AA

20080230B 20094141G 20092129J 20090076F 20092123A

30 07

09 10

11 11

2011-2

LIMA PER

Electrodeposicin de cobre en bao cido

NDICE 1. OBJETIVOS...3 2. FUNDAMENTO TERICO..3 Primera ley de Faraday de la Electrolisis.3 Bao acido de cobre.3 Principales reacciones qumicas involucradas...................4 Aditivos....5 3. DATOS Y RESULTADOS...5 3.1 DATOSEXPERIMENTALES.5 3.2 DATOS TERICOS...5 3.3 RESULTADOS...6 3.4 COMPARACIN DE BAOS CIDOS Y BAOS ALCALINOS DE COBRE.10 3.4 MUESTRAS DE CLCULO. ...11 4. DISCUSIN DE RESULTADOS....12 4.1ELECTRODEPOSICIN DE COBRE EN BAO ACIDO VS. ELECTRODEPOSICIN DE COBRE EN BAO ALCALINO.13 5. CONCLUSIONES..13 6. BIBLIOGRAFA.13

Electrodeposicin de cobre en bao cido

Electrodeposicin de cobre en bao ACIDO BRILLANTE

1. OBJETIVOS: Realizar deposicin electroltica del cobre en bao acido a fin de determinar el rendimiento o eficiencia catdica, tomando como referencia la ley de Faraday. Estudiar el comportamiento de la solucin electroltica de cobre en medio acido empleando abrillantadores a fin de observar cualitativamente su efecto en el recubrimiento.

2. FUNDAMENTO TERICO:

Primera ley de Faraday de la Electrolisis Este principio fundamental de la electrolisis, se puede expresar de La cantidad de cualquier elemento liberada ya sea en el ctodo o en el nodo durante la electrlisis, es proporciona a la cantidad de electricidad que atraviesa la solucin. [1]

W: Masa electro-depositada en el ctodo (g). K: equivalente electroqumico del elemento electro-depositado (g/coulomb) K= Peso atmico del elemento / Valencia I: intensidad de corriente (coulomb/s) T: tiempo transcurrido (s)

Bao acido de cobre Tal como se puede notar de la expresin de la primera ley de la electrolisis de Faraday, que se muestre anteriormente, la valencia del cobre determina el equivalente electroqumico de este, por lo que existe un anlisis separado para cada caso cprico Cu2+ y cuproso Cu1+. El bao de cobre acido no es apropiado para electro depositar cobre directamente sobre hierro o metales cuyo potencial de reduccin es negativo. Para depositar una delgada capa de cobre sobre hierro, es necesario primero electro depositar cobre en una solucin cianurada y luego dar el acabado final en una solucin de cobre acido. Composicin del bao. Los dos principales constituyentes de un bao de cobre acido son el acido sulfrico y el sulfato de cobre, este ltimo se obtiene comercialmente como sal hidratada. Las funciones del acido sulfrico en el medio son las siguientes:

Electrodeposicin de cobre en bao cido Previene la hidrlisis del sulfato cuproso y subsiguientemente la formacin de sales bsicas. Incrementa la conductividad del bao; este aumento de la conductividad reduce el costo de la potencia requerida y reduce la formacin de rugosidad en los depsitos a altas densidades de corriente. La composicin del bao es:

Sulfato de cobre CuSO4 .5H2O Acido Sulfrico H2SO4

250 g/l 75 g/l

2N 1.5 N

Las concentraciones permisibles y las proporciones de sulfato de cobre y del acido estn limitadas por el hecho de que el aumento de acido sulfrico disminuye la solubilidad del sulfato de cobre

Principales reacciones qumicas involucradas. El acido sulfrico se disocia en iones H+ y en iones sulfato.

Reacciones en el ctodo.

Reaccin en el nodo.

Los iones sulfato e hidrogeno no toman parte en los cambios electroqumicos. Sin embargo el contenido de sulfato de cobre se incrementa y el de acido sulfrico disminuye, esto, debido a que el cobre puede presentar dos iones el cprico (Cu2+) y el cuproso (Cu+). Parte de los tomos del nodo van a la solucin como:

Los iones cuprosos formados requieren la mitad de corriente que la que requieren en la formacin de iones cpricos; estos iones pueden depositarse como cobre en el ctodo, pero estos tienden a oxidarse a iones cpricos

El oxigeno es derivado del oxigeno disuelto en la solucin.

Electrodeposicin de cobre en bao cido Aditivos. La adicin de pequeas cantidades de determinadas sustancias orgnicas al bao electroltico le dan caractersticas particulares al metal electro depositado (brillo, menor rugosidad); el efecto fsico qumico empleado es el hecho de que, estas sustancias disminuyen la rapidez de electrodeposicin polarizando los alrededores del ctodo, de esta manera se logra una electrodeposicin de cristales pequeos generando as una superficie lisa y una mayor nucleacion. Los abrillantadores pueden ser almidones, azucares, colgenos, etc.

3. DATOS Y RESULTADOS: 3.1 DATOSEXPERIMENTALES.

COMPONENTE CuSO4 5H2O H2SO4

g/Lt 250 75

Tabla 1. Composicin del bao acido de cobre.

I (A/dm2) 30 s 60 s 90 s 0.5 0.003 0.011 0.014 1 0.008 0.019 0.025 1.5 0.012 0.025 0.041 2 0.016 0.035 0.059 Tabla 2.Masa de Cu electrodepositada experimental para cada intensidad de corriente y tiempo.

3.2 DATOS TERICOS. Masa molar del Cobre: 63.546 g/mol I (A/dm2) 0.5 1 1.5 30 0.004 0.009 0.014 60 0.009 0.019 0.029 90 0.014 0.029 0.044

2 0.019 0.039 0.059 Tabla 3.Masa de Cu electrodepositada terica para cada intensidad de corriente y tiempo (segn la ley de Faraday).

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I (A/dm2) 30 s 60 s 90 s 0.5 60 % 110 % 93.33 % 1 80 % 95 % 83.33 % 1.5 80 % 83.33 % 93.18 % 2 80 % 87.5 % 100 % Tabla 4. Eficiencia catdica expresada en porcentaje para cada intensidad de corriente y tiempo.

3.3 RESULTADOS.

Masa de Cu depositada (gramos)

Masa depositada vs Densidad de corriente (30s)

0.02

0.015 Masa Experimental 0.01 Masa Terica

0.005 0 0 0.5 1 1.5 2 2.5 Densidad de Corriente (A/dm2)

Grafico 1: Comparacin de los valores experimentales y tericos de las masas depositadas de Cu. Para un tiempo de 30 s.

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Masa de Cu depositada (gramos)

Masa depositada vs Densidad de corriente (60s)

0.05 0.04 0.03 0.02 0.01 0 0 0.5 1 1.5 2 2.5 Densidad de Corriente (A/dm2) Masa Experimental Masa Terica

Grafico 2: Comparacin de los valores experimentales y tericos de las masas depositadas de Cu. Para un tiempo de 60 s.

Masa de Cu depositada (gramos)

Masa depositada vs Densidad de corriente (90s)

0.07 0.06 0.05 0.04 0.03 0.02 0.01 0 0 0.5 1 1.5 2 2.5 Densidad de Corriente (A/dm2) Masa Experimental Masa Terica

Grafico 3: Comparacin de los valores experimentales y tericos de las masas depositadas de Cu. Para un tiempo de 90 s.

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Grafico 4: Relacin entre Eficiencia Vs densidad de corriente, para t = 30, 60 y 90 segundos. (Es el resultado de graficar los valores de la tabla 4)

Masa depositada vs Tiempo

Masa Depositada de Cobre (gramo)
0.07 0.06 0.05 0.04 0.03 0.02 0.01 0 0 20 40 60 80 100 Para 0.5 A/dm2 Para 1.0 A/dm2 Para 1.5 A/dm2

Tiempo (segundos

Grafica 5: Masas depositada experimentalmente vs el tiempo sumergido de la probeta en el bao.

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Rendimiemto Ctodico vs Tiempo.

100

Rendimiento Ctodico (%)

80 0.5 A/dm2 1 A/dm2 60 1.5 A/dm2 2 A/dm2

40 30 60 Tiempo (s) 90

Grafico 6: Relacin entre Rendimiento Catdico Vs Tiempo, para I = 0.5, 1.0 , 1.5 y 2.0 A/dm2.

Eficiencia Catodica vs Densidad de corriente

110 105 100 Rendimiento Catdico 95 90 85 80 75 70 65 60 0.5 1 1.5 2 Eficiencia a 30 s Eficiencia a 60 s Eficiencia a 90 s

Grafico 7: Relacin entre Rendimiento Catdico Vs densidad de corriente, para 30, 60 y 90 s.

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3.4 COMPARACIN DE BAOS CIDOS Y BAOS ALCALINOS DE COBRE.

Bao cido de cobre:

I (A/dm2) 0.5 1 1.5

30 s 60 % 80 % 80 %

60 s 110 % 95 % 83.33 %

90 s 93.33 % 83.33 % 93.18 %

2 80 % 87.5 % 100 % Tabla 5. Eficiencia catdica expresada en porcentaje para cada intensidad de corriente y tiempo. Para el Bao de Cobre cido Brillante.

Bao cianurado de cobre:

I( A/dm2) 0.5 1.0 1.5

30 s 30.00% 35.00% 43.33%

60 s 55.00% 50.00% 40.68%

90 s 50.00% 55.93% 50.56%

2.0 42.50% 45.60% 48.74% Tabla 6. Eficiencia catdica expresada en porcentaje para cada intensidad de corriente y tiempo. Para el Bao de Cobre Cianurado.

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Comparacin de eficiencias Catdicas

90 Rendimiento Catdico (%) 0.5 A/dm2 1 A/dm2 70 1.5 A/dm2 2 A/dm2 0.5 A/dm2 Alcalino 50 1 A/dm2 Alcalino 1.5 A/dm2 Alcalino 2 A/dm2 Alcalino 30 30 60 Tiempo (s) 90

Grafico 7: Relacin entre Rendimiento Catdico del bao de cobre brillante Vs Tiempo, comparando con los del Bao alcalino de cobre.

3.4 MUESTRAS DE CLCULO. MUESTRAS DE CLCULO. - Clculo de masa experimental electrodepositada. Mi: masa inicial del electrodo limpio y seco. Mf: masa final del electrodo luego que ocurre la electrodeposicin. Me. Masa electrodepositada.

Entonces para I= 0.5 A y t= 30s

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Electrodeposicin de cobre en bao cido - Clculo de masa terica electrodepositada (usando la ley de Faraday). ---------------------> . Electroqumico de electrodepositada

----------------------> Masa de Entonces para y

Masa de Cu electrodepositada Masa de Cu electrodepositada

- Clculo de la eficiencia catdica. mTeo:masa de Cu terica electrodepositada calculada con la ley de Faraday mExp :masa de Cu experimental electrodepositada. Eficiencia catdica Entonces para Eficiencia catdica y

4. DISCUSIN DE RESULTADOS: En la tabla 4. Se tiene para (0.5 y 2 A/dm2) de densidad de corriente correspondientes a los tiempos 60 y 90 s respectivamente , que las eficiencias superan el 100% lo cual es un imposible y se puede decir con seguridad que el error fue cometido a la hora de pesar, pues la balanza usada era analtica y de alta sensibilidad por lo que las corrientes de aire interferan , esto se evidencio por la oscilacin del valor a medir. Adems un posible deficiente secado de la probeta contribuye al error. Los grficos 1,2,3. correspondiente a masa depositada (terica y experimental) vs. La densidad de corriente, se puede notar que las rectas de masa terica estn por encima de las masas experimentales. Esto se explica por el hecho que estas masas tericas son calculadas mediante la ley de Faraday, una ley ideal y por tanto indica la cantidad mxima posible. En la tabla 4. Para (0.5 A/dm2) de densidad de corriente y t= 30 s. que es la primera electrodeposicin se tiene la mnima eficiencia catdica, lo que se puede explicar porque esta fue realizada sobre un ctodo de bronce, las dems se hicieron sobre una pelcula de cobre, lo que evidencia que hay una diferencia en electrodepositar un cobre en distintos materiales de ctodos.

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La amplia dispersin de los valores de eficiencia catdica no se puede explicar por la concentracin del bao ni la sensibilidad del rectificador (pues no mantena los valores de corriente contantes durante el tiempo de electrodeposicin) ni las condiciones de operacin; ya que estas eran constantes para todas las densidades de corriente y tiempos.

4.1 ELECTRODEPOSICIN DE COBRE EN BAO ELECTRODEPOSICIN DE COBRE EN BAO ALCALINO

ACIDO

VS.

Los rendimientos Catdicos de los Baos cidos de cobre, son notoriamente mayores en comparacin de los Baos Cianurados de cobre. Esto se puede explicar porque en los baos cianurados, el cianuro acta como acomplejante y se puede decir que crea cierta resistencia para que los iones cobre se electropositen. En cambio en los baos cianurados, el cido sulfrico, sirve para reducir la resistividad y esto permite que los iones cobre se electropositen ms rpido. En ambos baos es evidente que al aumentar la densidad de corriente, va a aumentar la eficiencia catdica con el tiempo.

5. CONCLUSIONES: La eficiencia catdica en el bao cido es mayor conforme se aumenta el amperaje, tambin es mayor la eficiencia conforme aumenta el tiempo de electrodeposicin, es decir existe una correlacin positiva entre ellos. El rendimiento catdico de la electrodeposicin del cobre es mayor en un bao cido que en un bao cianurado. Se obtendr una mayor electrodeposicin si se tiene una mayor conductividad del bao. El aumento en la conductividad del bao reduce el costo de potencia requerida. Para los dos casos de experiencia tanto el bao cido como el bao cianurado se presentan una serie de factores que afectan la eficiencia catdica, estos son difciles de controlar en la prctica. La adicin de pequeas cantidades de sustancias orgnicas (abrillantador) al bao electroltico le dan valores estticos al metal electro depositado.

6. BIBLIOGRAFA [1] William Blum y George Hogaboom. "Galvanotecnia y Galvanoplastia". Editorial Continental, S.A. Mxico. Julio 1985. Pginas: 348-357.

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