Curso: Engenharia de Energias e Meio Ambiente
Prof(a): Andréa Pereira
Assunto: Convecção de Massa
1. Um processo de deposição química por
vapor (CVD) é usado para depositar filmes
finos de silício puro sobre pastilhas para
aplicações em dispositivos eletrônicos. Uma
maneira de depositar silício puro sobre uma
superficie é por meio de reação heterogênea
na superficie.
𝑆𝑖𝐻𝐶𝑙3 (𝑔) + 𝐻2 (𝑔) → 𝑆𝑖(𝑠) + 3 𝐻𝐶𝑙(𝑔)
No presente processo, 1% em mol de vapor
de triclorosilano (𝑆𝑖𝐻𝐶𝑙3, espécie A),
diluído no gás 𝐻2 (espécie B), é alimentado
no reator CVD mostrado na figura abaixo,
de modo a estabelecer uma velocidade da
corrente livre de 200 m/s. O triclorosilano é
reduzido pelo gás 𝐻2 a silício sólido
elementar, que é depositado como um filme
fino sobre uma pastilha de 15 cm por 15 cm.
O escoamento sobre a pastilha de silício é
aproximado ao escoamento sobre uma placa
plana. A reação do processo é mantida a 1
atm e 1200 K. O reator contém sistemas
elaborados de segurança para operar com
gases tóxicos inflamáveis. A 1200 K, a
constante de reação na superficie para a
reação de decomposição de primeira ordem
em relação à concentração do vapor de
𝑆𝑖𝐻𝐶𝑙3, é 𝑘𝑠 = 0,83 𝑐𝑚/𝑠, com a lei de taxa
de reação definida como 𝑅′𝐴,𝑠 = −𝑘𝑠 𝐶𝐴,𝑠 .
Baseando-se nas informações dadas,
determine o fluxo de deposição do silício
sólido sobre a superficie da pastilha.
2. O coeficiente de transferência de massa para
uma camada limite turbulenta formada sobre
uma placa plana foi correlacionado em
termos do número local de Sherwood por
𝑆ℎ𝑥 = 0,0292 𝑅𝑒𝑥 4/5 𝑆𝑐1/3
onde x é a distância a jusante da borda
dianteira da placa plana. A transição de
fluxo laminar a turbulento ocorre em 𝑅𝑒𝑥 =
2 × 105 .
(a) Desenvolva uma expressão para o
coeficiente médio de transferência de
massa para uma placa plana de
comprimento L.
(b) Em um processo de fabricação, um
solvente orgânico (metil-etil-cetona) é
usado para dissolver um revestimento fino
de um polímero longe de uma superfície
plana não porosa de 2,0 m de comprimento
e largura 10 cm. A espessura da película de
polímero é inicialmente uniforme em 0,2
mm. No processo, o solvente flui a uma
taxa de fluxo de 15 cm/s sobre a placa
plana aberta. Você pode assumir que a
concentração do polímero dissolvido no
 solvente a granel é essencialmente zero,
𝐶𝑎 ∞ = 0, embora a concentração do
polímero dissolvido no solvente aumenta
ligeiramente à medida que flui sobre a
panela.

Determine o fluxo médio, WA, da

superfície. Determine o coeficiente de
transferência de massa 50 cm a jusante da
borda de ataque.

Na temperatura e pressão do processo, os

seguintes dados estão disponíveis:

 Coeficiente de difusão do polímero

dissolvido (soluto) no solvente é 3 ×
10−6 cm2/s.
 Viscosidade cinemática do solvente é
6 × 10−3 cm2/s.
 Densidade do polímero sólido é 1.05 g/cm3.
 Densidade do solvente líquido é 0.8 g/cm3.
 Máxima solubilidade do polímero
dissolvido no solvente é 0.04 g/cm3.

3. Dittus e Boelter propuseram a seguinte

equação para correlacionar o coeficiente de
transferência de calor para fluxo turbulento
em um tubo:

ℎ𝐷
𝑁𝑢 = = 0.023 𝑅𝑒 0.8 𝑃𝑟1/3
𝑘

Qual deve ser a equação correspondente para o

coeficiente de transferência de massa quando a
transferência é para um fluido turbulento
fluindo em um tubo, considerando a analogia
de Chilton–Colburn?