Damas Sanchez-Garcia Clemente PDF

UNIVERSIDAD NACIONAL DEL CENTRO DEL PERU
FACULTAD DE INGENIERIA QUIMICA
===================================================
“INFLUENCIA DEL TIEMPO DE RECUBRIMIENTO,
TEMPERATURA Y DE LA DENSIDAD DE CORRIENTE
ELÉCTRICA EN LA CALIDAD DEL DORADO ELECTROLÍTICO
DE METALES, EN EL LABORATORIO DE ELECTROQUÍMICA
DE LA FACULTAD DE INGENIERÍA QUÍMICA DE LA UNCP”
===================================================
TESIS
PARA OPTAR EL TITULO PROFESIONAL DE INGENIERO QUÍMICO
PRESENTADO POR
Bach. DAMAS SANCHEZ, Nancy.
Bach. GARCIA CLEMENTE, Rosa Isabel.
HUANCAYO - PERU
2013
ASESOR:
MSc. USCAMAYTA VERASTEGUI, David
DEDICATORIA
A Dios por el don de la vida, a mis padres Lucia y

Guillermo por el inmenso apoyo incondicional que
me brindaron día a día, a mis hermanos Luis,
Consuelo y Jorge por su apoyo y comprensión, a
mis segundos padres Vilma y Pompeyo por su
paciencia y apoyo incondicional.
NANCY
Con amor incondicional a mis padres Tolomeo y

Ernestina que con su esfuerzo y sacrificio me
motivaron e inspiraron a lograr cumplir mi meta, a
mis hermanos José y Ángel por su apoyo y
paciencia
ROSA
iii
AGRADECIMIENTO
 A nuestro Asesor MSc. David, Uscamayta Verastegui por su apoyo

incondicional y dedicación en el desarrollo de nuestra tesis.
 Al MSc. Luís Riccio Yauri, por brindarnos su amistad y apoyo profesional,
que fueron fundamentales para la culminación de nuestra tesis.
 De manera muy especial a nuestros amigos Rucely Cueva Pérez, Jhansel
Espinoza, Michael Ninamango Cóndor y Carlos Orihuela por su apoyo y los
ánimos que nos han dado.
 Así mismo a los catedráticos de la Facultad de Ingeniería Química de
nuestra Casa Superior de Estudios, por todo lo brindado durante nuestra
formación profesional.
iv
INTRODUCCIÓN
La galvanotecnia o galvanostegia es el arte de recubrir por electrólisis un metal con

una delgadísima capa de otro de mejor calidad y aspecto, sobre la superficie de un
conductor inmerso en un electrólito, con el uso de la corriente eléctrica. Al proceso
de deposición en particular se le denomina recubrimiento electrolítico.
Los recubrimientos electrolíticos pueden ser de metales puros o de aleaciones.
Estos recubrimientos electrolíticos se realizan en la práctica para aprovechar alguna

propiedad particular inherente al material de la capa superficial depositada, con
respecto a la misma propiedad del material base, o para restaurar las dimensiones
de alguna pieza desgastada por el uso.
Entre estos recubrimientos tenemos al dorado electrolítico, que

a causa del elevado precio del oro se utiliza en galvanotecnia como ligero
revestimiento, por lo general, este recubrimiento le proporciona alta conductividad
eléctrica que por sus características técnicas es imprescindible en la industria
eléctrica y de componentes electrónicos, también es un recubrimiento altamente
decorativo que proporciona un aspecto de gran brillo y ductilidad.
El manejo de variables óptimas de trabajo para el dorado electrolítico como

temperatura, tiempo y densidad de corriente son determinantes para que el
depósito obtenido sea más homogéneo, tenaz, duradero, y de hermoso color.
Los baños que se emplean para el dorado electrolítico son de ordinario calientes,
además de que a igualdad de tiempo se deposita más cantidad de metal que con el
baño frío.
Por esta razón el objetivo de este trabajo de tesis es el estudio de la calidad del
dorado electrolítico de metales determinando la influencia y los valores óptimos de
la densidad de corriente, temperatura y tiempo de recubrimiento, aportando además
información sobre otros factores que influyen en este proceso.
v
RESUMEN
En el presente trabajo de tesis se aplicó el proceso del dorado electrolítico y para el

desarrollo se necesitó una cuba electrolítica que incluye un sistema de agitación,
calentamiento, ánodos de titanio platinado, soportes de acero inoxidable.
En el dorado electrolítico el objeto que va a ser recubierto se coloca en una
disolución de una sal del metal recubridor (Au (CN)2), para 2 litros de electrolito se
utilizaron 60 g de SAL SICCUM, 2 g de oro fino de 24 kilates presentado como
cianuro de oro. El objeto a recubrir fueron placas niqueladas, plateadas y cobreadas
(CATODO) que se conecta a un terminal negativo de una fuente de electricidad
externa y el otro conductor, placas de titanio platinado (ANODO), se conectara al
terminal positivo de la fuente de electricidad.
Las variables a controlar son: densidad de corriente(A/dm2), temperatura (°C) y
tiempo(s) cuyo diseño experimental es 23, con dos repeticiones.
Para este proceso aplicamos densidades de corriente de 1.5 y 5 A/dm2,
temperaturas de 60 y 70 °C y tiempos de 10 y 60 segundos, se considera el área de
la pieza a recubrir a la suma de ambas caras de la pieza, siendo en este caso el
área de 0,08 dm2. Teniendo definida las densidades de corriente y el área de la
pieza se puede hallar fácilmente los rangos de amperaje a utilizar siendo en nuestro
caso de 0.12 y 0.4 A. Cuando la corriente atraviesa la disolución, los átomos del
metal recubridor(oro) se depositan en el cátodo (electrodo negativo), hasta que el
objeto este recubierto, y para asegurar una cohesión estrecha entre el objeto a ser
recubierto y el material recubridor, hay que realizar un pre tratamiento de la
pieza(cepillado, pulido y rectificado) y seguir ordenadamente la secuencia del
proceso (Desengrase, Enjuague, Neutralizado, Enjuague, dorado, Recuperación,
Enjuague y finalmente el Secado), y pasar por un control de calidad para así
comprobar la calidad del dorado.
Se demostró experimentalmente que a mayor tiempo de recubrimiento se deposita

mayor cantidad de oro, pero el factor determinante es la densidad de corriente ya
que a iguales tiempos pero a diferentes densidades de corriente se observa que se
deposita una cantidad mayor de oro con una densidad de corriente mayor. También
se demostró que a una densidad de corriente de 1.5 A/dm2, temperatura 70 °C y a
un tiempo de 60 segundos el acabado final resultó mejor reflejándose en el brillo y
vi
en la eficiencia promedio que tiene el proceso (eficiencia = 95.4914%) y aun costo
promedio (costo= S/. 1.9153).
Entonces demostramos que la densidad de corriente eléctrica, temperatura y
tiempo de recubrimiento influyen en la calidad final del recubrimiento de metales y
esto se pudo comprobar a través de un análisis de varianza.
vii
NOMENCLATURA
Unidades
Dc Densidad de corriente A/dm2
E Equivalente químico del metal a depositar g/A-h
e Espesor del material depositado μm
I Intensidad de corriente A
m Masa del material depositado g
Re Rendimiento electrolítico. %
S Superficie del cátodo dm2
t Tiempo s
V Diferencia de potencial V
ρ Peso específico kg/dm2
ABREVIATURAS
Au Oro
AuCN Cianuro de oro
CE Corriente Eléctrica.
DC Densidad de corriente.
NaCN Cianuro de sodio
PG1 Prueba general 1
PG2 Prueba general 2
TR Tiempo de Recubrimiento.
µ Media del peso teórico
µm Micrómetros
X Media de pesos experimentales a evaluar
S Desviación estándar
n N° de datos
F cal F calculado
F critico F de tablas
viii
OBJETIVOS
OBJETIVO GENERAL
 Evaluar la influencia y determinar el valor convencional de la
densidad de corriente eléctrica, temperatura y el tiempo de
recubrimiento en la calidad del dorado electrolítico de metales
en el Laboratorio de Electroquímica de la Facultad de
Ingeniería Química de la Universidad Nacional del Centro del
Perú.
OBJETIVOS ESPECÍFICOS
 Evaluar la influencia de los efectos de la variación y determinar

el valor convencional de la densidad de corriente eléctrica en la
calidad de dorado electrolítico de metales.

el valor convencional de la temperatura del baño en la calidad
de dorado electrolítico de metales.

el valor convencional del tiempo de recubrimiento en la calidad
de dorado electrolítico de metales.
ix
ÍNDICE
ASESOR ii
DEDICATORIA iii
AGRADECIMIENTO iv
INTRODUCCION v
RESUMEN vi
NOMENCLATURA viii
ABREVIATURAS viii
OBJETIVOS ix
ÍNDICE x
ÍNDICE DE FIGURAS xiv
ÍNDICE DE GRÁFICOS xv
ÍNDICE DE TABLAS xvi
CAPÍTULO I
NOCIONES GENERALES
1.1. ANTECEDENTES 18
1.2. PLANTEAMIENTO DEL PROBLEMA 20
1.3. FORMULACIÓN DEL PROBLEMA 20
1.4. HIPOTESIS 20
1.5. JUSTIFICACIÓN 21
CAPITULO II
MARCO TEÓRICO
2.1. DEFINICIÓN DE ELECTRODEPOSICIÓN 22

2.1.1. EFECTOS DE LA ELECTRODEPOSICIÓN 23
2.1.2. OBJETIVOS DE LA ELECTRODEPOSICIÓN 23
2.2. PRINCIPIOS DE ELECTROQUIMICA 24
2.3. PRINCIPIOS DE ELECTRICIDAD 25
2.4. PROCESO ELECTROLÍTICO 25
2.5. FACTORES QUE INTERVIENEN EN EL PROCESO 26
2.5.1. DENSIDAD DE CORRIENTE 26
2.5.2. pH 27
2.5.3. TEMPERATURA 27
2.5.4. TIIEMPO DE INMERSION 27
2.5.5. AGITACION 28
2.6. ELEMENTOS QUE INTERVIENEN EN EL RECUBRIMIENTO
ELECTROLITICO 28
2.6.1. FUENTE ELÉCTRICA 28
2.6.2. ELECTRODOS 30
2.6.3. CELDAS ELECTROLÍTICAS 30
2.6.4. SISTEMA DE AGITACIÓN 31
2.6.5. CONDUCTORES 32
2.7. LEYES ELECTROQUIMICAS: LEYES DE FARADAY 32
2.7.1. SEGUNDA LEY DE FARADAY DE LA ELECTRÓLISIS 32
x
2.8. TIPOS DE RECUBRIMIENTO 33
2.9. PREPARACION DE LA PIEZA PARA EL RECUBRIMIENTO 34
2.9.1. TRATAMIENTO PREVIO 34
2.9.2. TRATAMIENTO ELECTROLITICO 34
2.10. ESPESOR DEL MATERIAL DEPOSITADO 35
2.11. RENDIMIENTO ELECTROLÍTICO 37
2.12. ELECTRODEPOSICIÓN DEL ORO 37
2.12.1. REACCIONES QUIMICAS 38
2.12.2. BAÑO CALIENTE 38
2.13. CONTROL DE CALIDAD DEL DORADO 38
CAPÍTULO III
PARTE EXPERIMENTAL
3.1. MATERIALES Y EQUIPOS PARA REALIZAR EL DORADO

ELECTROLITICO 39
3.1.1. MATERIALES 39
3.1.2. EQUIPOS 39
3.1.3. REACTIVOS 42
3.2. PROCEDIMIENTO PARA REALIZAR DORADO ELECTROLITICO 42
3.2.1. CONDICIONES DE TRABAJO 42
3.2.2. DIAGRAMA DE FLUJO 43
3.2.3. DESARROLLO DEL PROCESO 44
3.2.3.1. Preparación y limpieza previa 44
3.2.3.2. Desengrase enjuague 44
3.2.3.3. Neutralizado y enjuague 44
3.2.3.4. Dorado electrolítico 44
3.2.3.5. Recuperación y enjuague 46
3.3. CONTROL DE VARIABLES 46
3.3.1. VARIABLE DEPENDIENTE 46
3.3.2. VARIABLE INDEPENDIENTE 46
3.4. OBSERVACIONES PARA EL DORADO 47
CAPÍTULO IV
TRATAMIENTO DE DATOS
4.1. CONDICIONES DE TRABAJO 48

4.2. DETERMINACIÒN DE LA CANTIDAD DE ORO DEPOSITADA 49
4.2.1. Masas Experimentales obtenidas en las dos pruebas
generales, para el Níquel 49
generales, para el Plata 50
generales, para el Cobre 51
4.2.4. Comparación de las masas experimentales depositadas en
las dos pruebas generales para el Níquel 52
las dos pruebas generales para la Plata 53
xi
las dos pruebas generales para el cobre 54
4.3. DETERMINACIÓN DE MASA TEÓRICA DEPOSITADA 55
4.3.1. Masa teórica depositada en las dos pruebas generales 56
4.4. COMPARACIÓN ENTRE LA MASA EXPERIMENTAL Y LA MASA
TEÓRICA 56
4.5. MANEJO DE VARIABLES RESPECTO A LA MASA EXPERIMENTAL
DEPOSITADA DEL NIQUEL, PLATA Y COBRE 59
4.5.1. TEMPERATURA Vs MASA DEPOSITADA 60
4.5.2. INTENSIDAD DE CORRIENTE Vs MASA DEPOSITADA 61
4.5.3. TIEMPO Vs DEPOSITADA 62
4.6. RENDIMIENTO ELECTROLÍTICO 62
4.6.1. RENDIMIENTOS ELECTROLÍTICOS DE LA PRUEBA
GENERAL 1 y 2 DEL NIQUEL 63
GENERAL 1 y 2 DE LA PLATA 64
GENERAL 1 y 2 DEL COBRE 65
4.7. COMPARACIÓN DE LOS RENDIMIENTOS ELECTROLÍTICOS 65
4.8. ESPESOR Y COSTO DEL RECUBRIMIENTO DE ORO 66
4.8.1. CÁLCULO DEL ESPESOR 66
4.8.2. CÁLCULO DEL COSTO 67
4.9. APRECIACIÓN CUALITATIVA DEL DORADO (BRILLO) 71
CAPÍTULO V
RESULTADOS
5.1. COMPARACIÓN DE MASAS DEPOSITADAS EXPERIMENTALES Y

TEÓRICAS PARA EL NÍQUEL, PLATA Y COBRE 72
5.2. ANALIS DE VARIANZA (ANOVA) 73
5.3. COMPARACIÓN DE RENDIMIENTOS EXPERIMENTALES PARA EL
NÍQUEL, PLATA Y COBRE 75
5.4. COMPARACIÓN DE ESPESORES EXPERIMENTAL PARA EL
NÍQUEL, PLATA Y COBRE 76
5.5. COMPARACION DE COSTOS PARA EL NIQUEL, PLATA Y COBRE 76
5.6. VARIABLES ÓPTIMAS ENCONTRADAS 77
CAPÍTULO V
DISCUSIÓN DE RESULTADOS 78
CONCLUSIONES 80
RECOMENDACIONES 81
REFERENCIA BIBLIOGRÁFICA 82
ANEXOS 84
ANEXO A: INSTRUCCIONES PARA EL DORADO TRAELSA
S.A. 85
ANEXO B: INFORMACIÓN DE INSUMOS 88
ANEXO C: POTENCIALES DE REDUCCON ESTANDAR 93
ANEXO D: DIAGRAMA DE POURBAIX DEL SISTEMA Au-CN 95
xii
ANEXO E: NORMA MEXICANA NMX –W-045-1976 97
ANEXO F: HOJA DE SEGURIDAD DEL CIANURO 99
ANEXO G: FOTOGRAFÍAS 103
xiii
INDICE DE FIGURAS
Figura 2.1. Elementos de un proceso electrolítico 26

Figura 2.2. Corriente alterna. 29
Figura 2.3. Corriente continua. 29
Figura 2.4. Celda electrolítica. 31
Figura 3.1. Celda electrolítica para dorado. 40
Figura 3.2. Fuente de Poder. 40
Figura 3.3. Multímetro. 41
Figura 3.4. Balanza analítica 41
Figura 3.5. Solución para baño de Oro. 42
Figura 3.6. Proceso de Dorado Electrolítico. 43
Figura 3.7. Dorado Electrolítico. 45
Figura 3.8. Electrodeposición del oro. 45
Figura F.1. Equipo de dorado Electrolítico. 102
Figura F.2. Equipo de dorado Electrolítico. 102
Figura F.3. Dorado. 103
Figura F.4. Procedimiento dorado electrolítico. 103
Figura F.5. Placa dorada. 104
Figura F.6. Reactivos. 104
xiv
ÍNDICE DE GRÁFICOS
Gráfico 4.1. Comparación de masas experimentales para el Níquel. 52

Gráfico 4.2. Comparación de masas experimentales para la Plata 53
Gráfico 4.3. Comparación de masas experimentales para el Cobre 54
Gráfico 4.4. Temperatura vs masa depositada experimental 60
Gráfico 4.5. Intensidad de corriente vs masa depositada experimental 61
Gráfico 4.6. Tiempo vs masa depositada experimental 62
Gráfico 4.7. Comparación de los rendimientos electrolíticos. 66
Gráfico 4.8. Comparación de espesores teórico y experimental para el 68
Níquel
Gráfico 4.9. Comparación de espesores teórico y experimental para la 69
Plata
Gráfico 4.10 Comparación de espesores teórico y experimental del Cobre 70
xv
INDICE DE TABLAS
Tabla 2.1 Particularidades de los recubrimientos electrolíticos más 33

comunes.
Tabla 2.2. Equivalentes electroquímicos, calculados suponiendo un 36
rendimiento de corriente del 100%, y otros datos de interés.
Tabla 2.3 Equivalentes electroquímicos y peso de recubrimientos 36
metálicos
Tabla 3.1 Condiciones de trabajo 42
Tabla 3.2 Variables de trabajo 46
Tabla 4.1 Rangos de trabajo para las dos pruebas generales 48
Tabla 4.2 Masas depositadas de oro en la prueba general 1 49
Tabla 4.3 Masas depositadas de oro en la prueba general 2 50
Tabla 4.4 Masas depositadas de oro en la Prueba General 1 50
Tabla 4.5 Masa depositada de oro en la Prueba General 2 50
Tabla 4.8 Comparación de la masa experimental a iguales condiciones de 52
trabajo para el Níquel
trabajo para la Plata
trabajo para el Cobre
Tabla 4.11 Masa teórica depositada para las dos pruebas generales en el 56
níquel, plata y cobre
Tabla 4.12 Comparación de masas experimental y teórica en la prueba 56
general 1 del Níquel
general 2
general 1 de la Plata
general 2
general 1 del Cobre
general 2 del cobre
Tabla 4.18 Manejo de variables respecto a la masa depositada 59
xvi
Tabla 4.19 Temperatura vs masa depositada experimental 60
Tabla 4.20 Intensidad de corriente vs masa depositada experimental 61
Tabla 4.21 Tiempo vs masa depositada experimental 62
Tabla 4.22 Rendimientos electrolíticos de las pruebas para el Níquel 63
Tabla 4.23 Rendimientos electrolíticos de las pruebas para la Plata 64
Tabla 4.24 Rendimientos electrolíticos de las pruebas para el Cobre 65
Tabla 4.25 Promedio de Rendimientos electrolíticos del Níquel, Plata y 65
Cobre de la prueba general 1 y 2
Tabla 4.26 Espesor y costo del recubrimiento para el níquel 68
Tabla 4.27 Espesor y costo del recubrimiento para la Plata 69
Tabla 4.28 Espesor y costo del recubrimiento del Cobre 70
Tabla 4.29 Apreciación cualitativa del dorado 71
Tabla 5.1 Comparación de masas teórica y experimental 72
Tabla 5.2 Porcentaje de recuperación de la masa depositada 73
Tabla 5.3 Datos para el análisis de varianza 73
Tabla 5.4. Tabla ANOVA 74
Tabla 5.5 Análisis de Varianza 74
Tabla 5.6 Análisis de varianza ANOVA 75
Tabla 5.7 Comparación de rendimientos promedio para Ni, Cu, Ag 75
Tabla 5.8 Comparación de espesores promedio en micrómetros (um) de 76
las dos pruebas realizadas para Ni, Cu, Ag
Tabla 5.9 Comparación Costos en S/. De las pruebas realizadas para Ni, 76
Cu, Ag
Tabla 5.10 Calidad de dorado electrolítico 77
Tabla C.1 Potenciales de reducción estándar E° 94
xvii
CAPÍTULO I
NOCIONES GENERALES
1.1. ANTECEDENTES
Los procesos de electrodeposición con corriente directa presentan una serie
de dificultades como la heterogeneidad del depósito, recubrimientos con altas
porosidades y deficiencias en el acabado superficial, entre otros, lo cual causa
que el volumen de piezas rechazadas durante la etapa de control de calidad
sea alto, con las consecuentes pérdidas que esto significa, además de
sobrecostos por los metales utilizados para una electrodeposición, se pudo
coincidir que los factores que afectan la calidad de la electrodeposición en el
acabado final es el manejo de la temperatura, densidad de corriente, tiempo de
recubrimiento, voltaje, pH, concentración, entre otras, según sea el tipo de
recubrimiento que se este realizando.
 Se demostró naturalmente que a mayor tiempo de recubrimiento se

deposita mayor cantidad de plata, pero el factor determinante es la
densidad de corriente ya que a iguales tiempos pero a diferentes
densidades de corriente se observa que se deposita una cantidad mayor
de plata con una densidad de corriente mayor. También se demostró que
a una densidad de corriente de 0,55 A/dm2 y a un tiempo de 180
segundos el acabado final resultó mejor reflejándose en el brillo y en la
18
eficiencia promedio que tiene el proceso (eficiencia = 73,06%) y aun
costo promedio (costo= S/. 0,039). Entonces demostramos que la
densidad de corriente eléctrica y el tiempo de recubrimiento influyen de
manera directa con la calidad final del recubrimiento. [1]
 Una densidad de corriente de 122A/m2 nos permite controlar el proceso

de electrodeposición y mantener el ritmo del mismo, aunque es muy bajo
como para optimizar el proceso. Hasta una densidad de corriente
levemente mayor a 300 A/m2 nos permite trabajar más tiempo con el
mismo baño sin que lo ánodos insolubles se descompongan
contaminando la solución.
A medida que se aumenta el tiempo de exposición, el depósito se hace
cada vez más propenso a manchas en la superficie debido a la escasa
agitación en el baño.
Agitación por medio de aire insuflado permite homogenizar de mejor
mañera el baño.
Trabajar con un voltaje de 6V y una densidad de corriente de 306 A/m2,
otorgaron los mejores procesos de recubrimiento.
El pH para el proceso debe ser de 4, ya que con este se obtuvieron los
resultados deseados. [2]
 Desde la llegada de los metales para su aplicación en la industria se han

ido desarrollando ingeniosos métodos para mejorar las propiedades de
los materiales y hacerlas más adecuadas para cada aplicación.
Debido a este auge de ideas, se originaron los recubrimientos que son
metales que poseen muy buenas características metálicas, eléctricas,
etc.
Durante las últimas décadas se vienen desarrollando diversos trabajos de
investigación dedicados a mejorar este proceso y lo podemos observar
en los siguientes enunciados.
Muchos artículos tienen capas de oros de 0.05 micras de espesor que no
dan prácticamente ninguna protección contra la corrosión o la abrasión
pero laqueadas pueden dar una duración regular. La finura de las
aleaciones de oro e expresa en kilates (K) es decir veinticuatroavos por
19
peso el oro puro es de 24 kilates en una aleación de 18 Kilates hay 18/24
es decir 75% de oro puro. [3]
1.2. PLANTEAMIENTO DEL PROBLEMA

En el proceso del recubrimiento electrolítico de oro un problema principal es
el que se presenta en la calidad del dorado teniendo como referencia las
características de recubrimiento.
Para obtener depósitos de oro (Au) uniformes es necesario determinar una
densidad de corriente óptima y que esta sea constante al momento de la
aplicación, ya que cuando la densidad de corriente excede el valor límite de
trabajo se presenta una tendencia a obtener depósitos rugosos, frágiles y
con una mala adherencia.
El control de la temperatura en el baño de dorado (caliente y frio) es
necesario durante el proceso, pues de este modo el depósito obtenido debe
ser homogéneo, tenaz y duradero, y de hermoso color.
El tiempo de inmersión también determina la calidad y apariencia del
dorado, ya que un tiempo innecesario puede cambiar las características del
recubrimiento en su color, forma, rugosidad.
La calidad de recubrimiento exigida para este campo de aplicación
específico, sólo puede cumplirse manteniendo unas condiciones de trabajos
constantes y definidos y realizando un seguimiento exhaustivo de los
mismos.
1.3. FORMULACIÓN DEL PROBLEMA

¿Tiene alguna influencia la corriente eléctrica, temperatura y tiempo en el
acabado final del dorado electrolítico en los diferentes metales usados? ¿Son
estadísticamente significativas las diferencias obtenidas en las masas
depositadas en los metales empleados?
1.4. HIPOTESIS
Si influye de manera significativa la variación de la corriente eléctrica,

temperatura y tiempo en el acabado final del dorado electrolítico en metales
como Ni, Ag y Cu.
20
1.5. JUSTIFICACIÓN
El proceso del recubrimiento electrolítico de oro es un proceso rentable ya que

se puede usar en la mayor parte de los metales para darle un aspecto más
bello, mayor resistencia mecánica y protección contra la corrosión atmosférica
o de determinadas sustancias. Otros beneficios que podemos encontrar en un
proceso de recubrimiento son los siguientes: Mayor vida útil de los productos,
sin costo de mantenimiento, mayor espesor y resistencia de capa, garantía de
recubrimiento. Durante la aplicación del recubrimiento de dorado es necesario
tomar medidas de seguridad para así evitar problemas de intoxicación y
contaminación ya que algunos de los reactivos son tóxicos.
Por estas razones proponemos realizar un estudio detallado de los

parámetros óptimos de trabajo (Densidad de Corriente, temperatura y Tiempo
de Recubrimiento) del proceso de dorado para lograr un proceso
económicamente rentable y un producto de calidad.
Mediante la realización de este trabajo de tesis se implementará una cuba

electrolítica para el dorado de metales al laboratorio de electroquímica de la
Facultad de Ingeniería Química con el fin de contribuir en el aprendizaje de los
estudiantes.
21
CAPÍTULO II
MARCO TEÓRICO
2.1. DEFINICIÓN DE ELECTRODEPOSICIÓN

La electrodeposición es el método de cubrir objetos con una película fina de
otro metal. El principio que rige este fenómeno es la electrólisis, cuyo
nombre procede de dos radicales, electro que hace referencia a electricidad
y lisis que significa ruptura. [4]
La electrodeposición implica la reducción (disminución del estado de
oxidación; ganancia de electrones) de un compuesto metálico disuelto en
agua y una deposición del metal resultante sobre una superficie conductora.
Probablemente esta técnica es uno de los procesos más complejos
conocidos, debido a que hay un gran número de fenómenos y variables que
intervienen en el proceso total, mismos que son llevados a cabo en la
superficie de los materiales involucrados.[5]
En la electrodeposición de metales, el éxito de la operación está en función
del control de los fenómenos involucrados, por lo que es necesario
mencionar los principios a los que se sujetan éstos, ya que cualquier
22
variación en el proceso se verá reflejada de manera significativa en el
resultado obtenido.[4]
2.1.1. EFECTOS DE LA ELECTRODEPOSICIÓN
La electrodeposición cambia las propiedades químicas, físicas o mecánicas

de la superficie de las piezas, pero no las del interior. Un ejemplo de un
cambio químico es cuando niquelado mejora la resistencia a la corrosión. Un
ejemplo de un cambio físico es un cambio en la apariencia externa. Un
ejemplo de un cambio mecánico es un cambio en la resistencia a la tracción
o la dureza de la superficie que es un atributo necesario en la industria de
herramientas. [6]
2.1.2. OBJETIVOS DE LA ELECTRODEPOSICION
Estos recubrimientos electrolíticos se realizan en la práctica para aprovechar

alguna propiedad particular inherente al material de la capa superficial
depositada, con respecto a la misma propiedad del material base, o para
restaurar las dimensiones de alguna pieza desgastada por el uso. [7]
Los objetivos más comunes que se persiguen con el recubrimiento

electrolítico según el caso, son los siguientes:
 Aumentar la resistencia a la corrosión; depositando un material más

resistente, a la agresividad del medio en el que se encontrará la pieza
durante el uso. Es común en estos casos encontrar, capas de níquel, cromo,
estaño o cinc sobre piezas de acero.
 Aumentar la dureza superficial; depositando una capa con cualidades de
alta dureza. Se pueden encontrar en la práctica con este objetivo, capas de
cromo duro sobre el filo de herramientas de acero.
 Aumentar la resistencia al desgaste; depositando una capa
especialmente elaborada de algún material con propiedades elevadas de
resistencia al desgaste, bajo coeficiente de fricción y buena retención del
lubricante. Este caso encuentra aplicación frecuente en el recubrimiento con
cromo de la superficie de rozamiento de los anillos de pistón de los motores
de combustión interna.
23
 Dar una mejor apariencia a la pieza; depositando una capa de apariencia
lustrosa, mate u otra deseada, o bien de determinado color o textura. Con
esta aplicación tropezamos a diario, y es muy común su uso para recubrir
con materiales vistosos como oro, plata, níquel, cromo, cadmio, platino,
latón etc. a piezas de material base barato.
 Restaurar dimensiones desgastadas; depositando capas de hierro o
cromo sobre piezas que han sufrido desgaste durante el trabajo. Este tipo
de recubrimiento se usa para restaurar algunas piezas en los procesos de
reparación de máquinas.
 Base para la adherencia posterior de otros materiales; La adherencia de
ciertos materiales no metálicos como las gomas, o las capas de cromo
decorativo, a las piezas de acero se mejora mucho si esta se recubre
previamente con una capa de cobre.
 Mejorar el contacto entre conectores eléctricos; en el mundo de las
máquinas eléctricas y electrónicas actualmente, las partes de los conectores
que realizan el acople conductor están recubiertas electrolíticamente de
materiales que garantizan un buen contacto. Especialmente en aparatos
electrónicos de alta fiabilidad se usan frecuentemente los recubrimientos
con oro. [7]
2.2. PRINCIPIOS DE ELECTROQUÍMICA

La Electroquímica es la ciencia que estudia el intercambio de energía
química y eléctrica que se produce por medio de una reacción de óxido-
reducción.
La oxidación es la pérdida de electrones, mientras la reducción es la
ganancia de los mismos. Las reacciones de óxido-reducción (redox), son
aquellas en donde hay una transferencia de uno o más electrones.
Electrólisis es el nombre que recibe el proceso mediante el cual la energía
eléctrica se emplea para producir cambios químicos; mediante una reacción
redox no espontánea, donde se hace pasar una corriente eléctrica. Se lleva
a cabo en un contenedor llamado cuba electrolítica.
La electrolisis es uno de los principales métodos químicos de separación. La
principal ventaja del método electrolítico consiste en que no es necesario
aumentar la temperatura para que la reacción tenga lugar, evitándose
pérdidas energéticas y reacciones secundarias. Industrialmente es uno de
24
los procesos más empleados en diferentes áreas, como por ejemplo en la
obtención de elementos a partir de compuestos (cloro, hidrógeno, oxígeno),
la purificación de metales (el mineral metálico se disuelve en ácido,
obteniéndose por electrólisis el metal puro) o la realización de
recubrimientos metálicos protectores y/o con fines decorativos, como es el
caso del niquelado, plateado, dorado, etc. [5]
2.3. PRINCIPIOS DE ELECTRICIDAD

Los procesos electrolíticos implican variables eléctricas que es conveniente
revisar:
 La corriente eléctrica (I): es la rapidez del flujo de carga que pasa por
un punto dado en un conductor eléctrico, que se origina por el
movimiento de los electrones y es una medida de la cantidad de
carga que pasa por un punto dado en la unidad de tiempo. Se mide
en amperes(A)
 La diferencia de potencial o voltaje (V): Cuando una corriente
eléctrica fluye a través de un alambre conductor, se dice que lo hace
porque existe una diferencia de potencial entre los dos extremos del
alambre. La diferencia de potencial entre dos puntos se define como
el trabajo efectuado, medido en joule (J), por fuerzas eléctricas para
mover una carga de un Coulomb desde el punto de mayor potencial
hasta el punto de menor potencial. A la unidad con que se mide la
diferencia de potencial se le llama Volts. [8]
2.4. PROCESO ELECTROLÍTICO
El proceso electrolítico consiste en hacer pasar una corriente eléctrica a
través de un electrolito, entre dos electrodos conductores denominados
ánodo y cátodo. Donde los cambios ocurren en los electrodos.
Cuando conectamos los electrodos con una fuente de energía (generador de
corriente directa), el electrodo que se une al polo positivo del generador es
el ánodo y el electrodo que se une al polo negativo del generador es el
cátodo. [9]
25
Figura 2.1: Elementos de un proceso electrolítico
Fuente: C.L. Mantell “INGENIERIA ELECTROQUIMICA” Pag 24
2.5. FACTORES QUE INTERVIENEN EN EL PROCESO
2.5.1. DENSIDAD DE CORRIENTE

La influencia de este factor es decisiva en la estructura de la
electrodeposición formada, un aumento de la densidad conlleva a la
disminución del tamaño del cristal obteniéndose estructuras finas. Existe un
límite de aumento de la densidad que al sobre pasar produce depósitos
quebradizos
Para obtener depósitos de oro (Au) uniformes, es necesario que la densidad
de corriente utilizada sea constante.
Al aumentar la densidad de corriente hasta cierto límite se aumenta la
velocidad de electrodeposición, sin embargo cuando la densidad de
corriente excede el valor límite de trabajo, esto es la densidad de corriente
crítica se presenta una tendencia a obtener depósitos rugosos, frágiles y con
una mala adherencia.
Un incremento posterior en la densidad de corriente proporcionará inclusive
depósitos quemados, como consecuencia de un incremento excesivo de
hidrógeno en la superficie a dorar, lo que no permite la buena adherencia de
la película de oro. Y además se vuelve pasivo el ánodo y no desprende
metal, lo que genera disminución en la concentración del baño. Si por en
26
cambio se aplica una densidad de corriente muy baja, la deposición es lenta
se pierde tiempo y el proceso se toma irregular y con pérdida de brillo. [10]
2.5.2. pH
Si el pH está por debajo del rango de trabajo puede presentarse depósitos
simultáneos de metal y el hidrogeno, ocasionando picaduras o
ampollamiento
Si se trabaja con un rango alto de pH se formaran sales básicas poco
solubles que darían lugar a depósitos ásperos.
El pH es también importante para la estabilidad del electrolito, en caso de la
solución de cianuro de oro es necesario controlar el pH y trabajar en medio
básico entre 10.5 y 12.5 ya que a menor pH se puede liberar ácido
cianhídrico.[7]
2.5.3. TEMPERATURA
Un aumento de la de temperatura favorece la movilidad de los iones
metálicos ocasionando el incremento de la conductividad del electrolito y
una disminución de la viscosidad de la solución.
El incremento de la temperatura favorece la formación de depósitos
brillantes y de grano finos. Pero también un incremento de la temperatura
puede ocasionar el aumento del tamaño de los cristales.
Es así como en los depósitos de Au estos cambios estructurales ocasionan
una disminución en la resistencia de a la tensión, debido a que el depósito
es más blando.
Cuando el aumento de temperatura no va acompañado del aumento de la
densidad de corriente, el efecto de esta se traduce a un aumento del tamaño
a los cristales como consecuencia de la disminución de la polarización, es
decir la densidad de corriente elevada contrarresta el efecto de la
temperatura. [8]
2.5.4. TIEMPO DE INMERSION

El Tiempo de inmersión es muy representativo ya que este determina cuan
bueno es el proceso de acuerdo a costos, si los parámetros son óptimos y
se determina un tiempo muy elevado el espesor de la película será
27
demasiado grueso lo cual conlleva a un costo muy excesivo de materia
prima, al igual que si se deja un tiempo muy corto el espesor de película
será tan delgado que no cumplirá satisfactoriamente con los requerimientos
del recubrimiento.
El Tiempo de inmersión determina la calidad y apariencia del proceso ya que
puede ser un recubrimiento muy fino que no cree buena adherencia la cual
vaya a dañar a la pieza y perder funcionalidad, o puede tener un tiempo
innecesario lo cual cambie las características del recubrimiento en su color,
forma, rugosidad y demás aspectos que se vinculen con el proceso. [7]
2.5.5. AGITACION
La agitación de la solución produce suministro de sales o iones metálicos del
cátodo, barre la burbujas gaseosas que pueden ocasionar hendiduras o
cráteres, mezcla en excelente manera la solución e impide que las sales
más pesadas se depositen en el fondo de la cuba.
El resultado de la agitación es permitir usar una densidad de corriente
elevada con el propósito de producir un depósito con excelente estructura,
sin perturbaciones ocasionadas generalmente, además contribuye a una
mejor difusión de iones metálicos.
Cuando se tiene rápida agitación se presenta el problema de
desprendimiento de articulas del ánodo al mismo tiempo que se agita las
partes sedimentadas del fondo de la cuba ocasionando depósitos porosos y
rugosos. [8]
2.6. ELEMENTOS QUE INTERVIENEN EN EL RECUBRIMIENTO

ELECTROLITICO
2.6.1. FUENTE ELÉCTRICA
Este equipo distribuye corriente continua convirtiendo la corriente alterna
a corriente continua.
a) Corriente alterna:
La corriente alterna, básicamente es una corriente eléctrica cuya tensión
y dirección varía constantemente en el tiempo, esto quiere decir que
varía desde positivo a negativo constantemente, pasando por todos los
28
niveles de tensión desde el máximo positivo al máximo negativo, dando
una forma de onda parecida a una "S" horizontal llamada onda
sinusoidal, cada S completa que forma se llama frecuencia, periodo o
ciclo (se mide en Hercios Hz, periodos o ciclos por segundo y las
unidades son equivalentes), se utiliza ampliamente en el envío de
tensión a todas las ciudades por ser más eficiente su transporte
minimizando las pérdidas, además de poder aumentarse y reducirse de
forma sencilla mediante un simple transformador. También son corriente
alterna las ondas de radio y vídeo transmitidas por cables. [11]
Figura 2.2: Corriente alterna

Fuente: Ricardo Yesares Blanco “GALVANOPLASTIA Y ELECTROLISIS, pág.
256
b) Corriente Continua:
Implica un flujo de carga que va siempre en la misma dirección. Una
batería produce corriente directa en un circuito porque sus terminales
siempre tienen el mismo signo de carga. Los electrones siempre se
mueven por el circuito con la misma dirección: de la terminal
negativa que los repele a la terminal positiva que los atrae. En tanto
la corriente vaya en una sola dirección, aun si se mueve en pulsos
erráticos. [15]
Figura 2.3: Corriente Continua

Fuente: Ricardo Yesares Blanco “GALVANOPLASTIA Y ELECTROLISIS, pág.
256
29
2.6.2. ELECTRODOS
a) Ánodos:
Son conductores metálicos que están en contacto con la fuente
eléctrica e inmersa en la solución electrolítica.
Tipos:
 Solubles o reactivos: Es el electrodo positivo que sede el metal a la
solución electrolítica para depositar sobre la pieza metálica se corroe
uniformemente bajo la influencia de la corriente eléctrica.
 Insoluble o inerte: Estos ánodos solamente permiten la conductividad
eléctrica de la fuente con la solución no son atacados por la solución
electrolítica con o sin corriente eléctrica.[13]
b) Cátodo:
Un cátodo es un electrodo a través del cual la corriente eléctrica
fluye de un dispositivo eléctrico polarizado, en él se produce una
reducción, esta reducción significaría recibir electrones, y disminuir el
número de oxidación [13]
2.6.3. CELDAS ELECTROLÍTICAS

El proceso electrolítico se realiza dentro de un recipiente adecuado,
generalmente abierto, que recibe el nombre de cuba. Esta cuba se
construye con las dimensiones adecuadas de acuerdo al tamaño de
las piezas a recubrir, y debe ser inerte químicamente al electrólito a
utilizar.
Una vez llena la cuba con el electrólito se obtiene lo que se conoce
como baño electrolítico. En este baño se sumergirán luego las piezas
a recubrir en soportes adecuados para que queden colgadas en el
electrólito, también deben tener los soportes adecuados para colgar
los electrodos de trabajo, y en ocasiones debe estar dotada de
sistemas de ventilación forzada para retirar los gases que se
producen durante el proceso electrolítico de recubrimiento.[14]
30
Características:
 Resistencia al ataque de las soluciones.
 Fuerza mecánica para soportar las cargas.
 La solución electrolítica y la temperatura a usar determina el material
de construcción.
Figura 2.4: Celda electrolítica

Fuente: Enrique Julve Salvado “ELECTRODEPOSICION Y DEPOSICION
QUIMICA DE METALES PRECIOSOS” pág. 117
2.6.4. SISTEMA DE AGITACIÓN

La agitación impide el empobrecimiento de los iones metálicos de la
zona catódica y la adherencia de burbujas gaseosas (Hidrógeno) sobre
el cátodo.
Uno de los sistemas de agitación utilizados consiste el insuflar aire
comprimido por el fondo de la cuba.
Otro sistema de agitación consiste en producir el desplazamiento
horizontal o vertical del cátodo. [12]
31
2.6.5. CONDUCTORES
Son los soportes donde se cuelgan los electrodos ánodos y cátodos
estos son generalmente de cobre, o tubos metálicos para asegurar
buena conductividad eléctrica. [13]
2.7. LEYES ELECTROQUIMICAS: LEYES DE FARADAY
La ley de Faraday constituye el principio fundamental de la electrólisis. Con

la ecuación de esta ley se puede calcular la cantidad de metal que se ha
corroído o depositado uniformemente sobre otro, mediante un proceso
electroquímico durante cierto tiempo, y se expresa en el siguiente
enunciado. [4]
2.7.1. SEGUNDA LEY DE FARADAY DE LA ELECTRÓLISIS
Para una determinada cantidad de electricidad (carga eléctrica), la masa de

un material elemental alterado en un electrodo, es directamente proporcional
al peso equivalente del elemento. El peso equivalente de una sustancia es
su masa molar dividida por un entero que depende de la reacción que tiene
lugar en el material. [5]
De acuerdo con esta definición podemos escribir:
(2.1)
Donde:
m: masa en gramos que se han depositado

P: peso atómico del elemento
n: número de electrones intercambiados
I: intensidad de la corriente en amperios
t: tiempo en segundos
6500 es el factor de equivalencia entre el Faraday y el Culombio. 1 F=
96500 C
32
2.8. TIPOS DE RECUBRIMIENTO
Tabla 2.1. Particularidades de los recubrimientos electrolíticos más

comunes.
Nombre Material Campo de aplicación más común

Capa base para el cromado o la vulcanización en acero
de derivados del caucho.
Cobreado Cobre Recubrimiento decorativo de piezas de materiales no
metálicos. Generación de las venas conductoras de
circuitos impresos.
Recubrimiento anticorrosivo y decorativo.
Recubrimiento resistente a la fricción en materiales
Cromado Cromo ferrosos. Material para el relleno de zonas desgastadas
en piezas de fricción.
Superficie muy dura en ciertas aplicaciones.
Material de relleno en zonas desgastadas en acero e
Acerado Hierro
hierro gris.
Recubrimiento anticorrosivo y decorativo.
Capa base para el cromado.
Niquelado Níquel
Recubrimiento de contactos eléctricos en conectores
comunes.
Para facilitar la soldadura blanda en componentes
Cadmiado Cadmio eléctricos. Recubrimiento de contactos eléctricos en
conectores comunes.
Galvanizado Cinc Recubrimiento anticorrosivo del acero.
Recubrimiento anticorrosivo temporal del acero.
Estañado Estaño Para facilitar la soldadura blanda en componentes
eléctricos.
Recubrimiento protector y decorativo de bisutería.
Protección anticorrosiva de venas en circuitos impresos.
Dorado Oro
Recubrimiento de contactos eléctricos en conectores
seguros. Conexiones internas de circuitos integrados.
Plateado Plata Recubrimiento protector y decorativo de bisutería.
Recubrimiento protector y decorativo de bisutería.

Latonado Latón
Recubrimiento antifricción de asentamiento en cojinetes.
FUENTE: http://www.monografias.com/trabajos73/electroquimica-
conductos/electroquimica-conductos2.shtml#ixzz2H9XIGqTG
33
2.9. PREPARACION DE LA PIEZA PARA EL RECUBRIMIENTO
 DESENGRASE ORGANICO: gasolina o querosene.
 DESOXIDADO: Escobillas de acero, lijas, luego sumergir a una solución de
ácido muriático al 50% (o ácido clorhídrico al 50%).
 PULIDO: con una superficie lisa y brillante. [15]
2.9.1. TRATAMIENTO PREVIO
 LAVADO ORGANICO: gasolina, thiner, alcohol, etc.

 AMARRE EN BASTIDOR O TAMBOR: Se sujeta el “objeto” en gancho.
2.9.2. TRATAMIENTO ELECTROLITICO
 Desengrase
En la fabricación de piezas se emplean grasas, taladrinas, aceites y
sustancias similares como refrigerantes y lubricantes. A menudo también se
engrasan las piezas como protección anticorrosiva temporal. El desengrase
puede efectuarse básicamente de dos formas: con disolventes orgánicos o
en soluciones acuosas alcalinas con poder emulsificador.
 Decapado.
El contacto entre atmósfera y piezas metálicas provoca la formación de
capas de óxido. El objeto del decapado es su eliminación. El baño de
decapado contendrá diversos tipos de metal en solución en función del tipo
de material base y del grado de mantenimiento y desmetalizado de los
contactos de bombos y bastidores.
 Neutralizado.
El proceso de activado, también llamado neutralizado o decapado suave, se
utiliza para eliminar esa pequeña capa de óxido que se ha formado sobre la
superficie del metal una vez que la superficie ha sido tratada o lavada en
sucesivas etapas. Esa pequeña capa de óxido hace que la superficie sea
pasiva y por lo tanto mala conductora. Las soluciones empleadas son, por lo
general, ácidos muy diluidos. Los activados permiten asimismo eliminar
velos y manchas generados por compuestos orgánicos y/o inorgánicos.
34
 Recubrimiento electrolítico
Las piezas preparadas se sumergen por inmersión en un baño. Para ello se
introducen las piezas en las cubas donde se encuentra el electrolito, se les
aplica la corriente como cátodo, se recubren y se secan.
 Recuperación.
Después del tratamiento con las sales en el baño de recubrimiento, las
piezas se enjuagan en un tanque con agua para limpiarlas de residuos
procedentes del baño anterior
 Enjuague.
Después que las piezas pasan por el enjuague estanco, todavía tiene
residuos de las sales de recubrimiento, lo que hace necesario un nuevo
enjuague en tanques de agua corriente.
 Secado.
Después de tener el acabado final, las piezas se secan para eliminar el agua
residual proveniente del enjuague y así, evitar que el producto salga con
manchas, para luego lacar y proseguir a su embalaje y venta. [15]
2.10. ESPESOR DEL MATERIAL DEPOSITADO

El espesor viene dado por:[16]
m
e (2.2)
S
Donde:
e: Espesor del material depositado.
m: Masa del material depositado.
ρ: Peso especifico.
S: Área de la superficie a tratar.
35
Tabla 2.2. Equivalentes electroquímicos, calculados suponiendo un
rendimiento de corriente del 100%, y otros datos de interés.
Fuente: Metodos Galvánicos en la Industria Química
Tabla 2.3. Equivalentes electroquímicos y peso de recubrimientos metálicos

Efic.
P. g/culomb. g/dm2
Metal Símbolo Valencia g/A-h Aprox.
Atóm. Z*10-3 en 10 μ
Baño %
2 (acid.) 0.3294 1.186 0.886 98
Cobre 63.57 Cu
1 (cian.) 0.6558 2.372 0.886 95
Cromo 52.01 Cr 6 0.0898 0.323 0.707 15
Níquel 58.69 Ni 2 0.3041 1.095 0.888 95
Plata 107.88 Ag 1 1.1179 4.024 1.047 100
3 0.6812 2.4522 1.927 100
Oro 197.2 Au
1 2.0435 7.3567 1.927 100
Cinc 65.38 Zn 2 0.3387 1.2195 0.706 70
4 0.30075 1.1070 0.730 -
Estaño 118.7 Sn
2 0.6150 2.2141 0.730 -
4 0.2666 0.9598 1.245 -
Rodio 102.9 Rh 3 0.3555 1.2797 1.245 -
2 0.5232 1.9196 1.245 -
Fuente: Corrosión galvánica.
36
2.11. RENDIMIENTO ELECTROLÍTICO
La cantidad de metal depositada prácticamente casi siempre es menor
que la teórica, calculada según las leyes de faraday. El rendimiento
electrolítico (Re) da a aconocer estas relaciones por el siguiente
cociente: [16]
Re = Peso del metal depositado experimentalmente x 100% (2.3)

Peso del metal calculado teóricamente
2.12. ELECTRODEPOSICIÓN DEL ORO
La deposición de oro, esta electrolíticamente controlada bajo potenciales,

dependiendo de las condiciones en la solución. En soluciones cianuradas, el
potencial más positivo es quien sale del complejo para iniciar la deposición
de la superficie del cátodo, esto es así, porque los cianuros necesitan mucha
energía para romper las uniones del complejo. [11]
Los baños que se emplean para el dorado electrolítico son calientes, pues
de este modo el depósito obtenido es más homogéneo, tenaz y duradero, y
de hermoso color, además de que se deposita más cantidad de metal que
con el baño frío. El oro se deposita con más facilidad sobre la plata y el
cobre o sobre su aleación, y sobre todo metal recubierto con aquellos. Con
estos metales se obtienen buenos resultados con un baño caliente (a unos
60ºC) y con una corriente algo intensa con aleaciones.
Al dorar cadenas, alfileres, anillos, u otros objetos que haya habido

necesidad de soldar, se encuentra, a veces, que el oro no se deposita bien
sobre las partes soldadas; en estos casos, es muy conveniente frotar la
soldadura con un cepillo de pelo metálico, habiéndose encontrado que
muchas veces estos se cepillan en seco, haciendo a la superficie metálica
mejor conductora y de conductividad más uniforme, por lo cual el oro se
deposita mucho mejor. [7]
37
2.12.1. REACCIONES QUIMICAS
REACCION GLOBAL:
REACCION OXIDO-REDUCCION:
(CATODO)
(SOL. ELECTROLITICA)
2.12.2. BAÑO CALIENTE
Mientras los objetos están en el baño deben moverse continuamente, y hay

que conectarlos con la batería antes o inmediatamente después de entrar en
el baño. En muchos casos es preferible emplear una cinta de alambre de
platino en vez de un ánodo soluble de oro, ya que dicho alambre o cinta no
sufre alteración alguna en el baño.
2.13. CONTROL DE CALIDAD DEL DORADO
Análisis cualitativo-cuantitativo.
 El análisis cuantitativo se refiere a la cantidad de masa, espesor y
rendimiento electrolítico deposita en el metal. Se realizó una prueba de
análisis de varianza (ANOVA) para demostrar si existe o no diferencia
significativa entre los valores de la cantidad de masa depositada de los
metales usados
 El análisis cualitativo se refiere al acabo final del recubrimiento en las que se
observarán brillo, textura, color, etc.[17]
38
CAPITULO III
PARTE EXPERIMENTAL
La instalación del equipo y desarrollo de pruebas experimentales se realizó en el
laboratorio de Electroquímica de la Facultad de Ingeniería Química de la
Universidad Nacional del Centro del Perú.
3.1. MATERIALES Y EQUIPOS PARA REALIZAR EL DORADO

ELECTROLITICO
3.1.1. MATERIALES
 Placas de níquel, cobre y plata
Cátodos donde se realizará la deposición electrolítica tienen una figura
cuadrangular de 0.2 dm de lado
 Ganchera
 Termómetro
 Cronometro
3.1.2. EQUIPOS
 Celda Electrolítica
La celda electrolítica consta de un tanque de PVC cuyas dimensiones
son: 10 cm de ancho. 20 cm de largo y 15 cm de alto, tiene un sistema de
agitación para lograr un recubrimiento homogéneo, un sistema de
39
calentamiento., dos electrodos de titanio platinado, tiene los soportes
adecuados para colocar los electrodos de trabajo y por donde también
circula la corriente eléctrica.
Figura 3.1Celda electrolítica para dorado.

Fuente: Elaboración Propia.
 Fuente de Poder.
Para todos los baños electrolíticos se requiere de una fuente de poder
que puede suministrar corriente continua, tiene un rango variable de
voltaje de: 0 – 20 V la cantidad de amperios está determinada por el
tamaño de la pieza.
Figura 3.2Fuente de Poder.

40
 Multímetro
Instrumento eléctrico portátil para medir directamente voltaje y amperaje.
Figura 3.3. Multímetro

 Balanza Analítica
Figura 3.4. Balanza analítica

41
3.1.3. REACTIVOS
 Agua destilada
 Baño de oro
Para preparar 2 L. De baño de dorado se requiere:
 30 g de Sal SICCUM
 1 g de Oro fino 24 quilates(como cianuro de oro)
Figura 3.5. Solución para baño de Oro

3.2. PROCEDIMIENTO PARA REALIZAR DORADO ELECTROLITICO
3.2.1. CONDICIONES DE TRABAJO
Tabla 3.1. Condiciones de Trabajo
Fierro revestido internamente con PVC

TANQUE O de acero inoxidable
TEMPERATURA 60 A 70 °C
FILTRACION No necesaria
De titanio platinado o de acero
ANODOS inoxidable
DENSIDAD DE
CORRIENTE Aprox 5 A/dm2
TIEMPO DE EXPOSICION 10 a 60 segundos
Fuente: Elaboración Propia
42
3.2.2. DIAGRAMA DE FLUJO
DORADO ELECTROLITICO
RECEPCIÒN DEL MATERIAL
PREPARACIÒN Y LIMPIEZA PREVIA
DESENGRASE
ENJUAGUE
NEUTRALIZADO
ENJUAGUE
DORADO
RECUPERACIÒN
ENJUAGUE
SECADO
Figura 3.6 Proceso de Dorado Electrolítico

Fuente: Elaboración propia
43
3.2.3. DESARROLLO DEL PROCESO
3.2.3.1. Preparación y limpieza previa: este procedimiento arranca

de la superficie de la pieza una fina capa. Incluye procesos como el
cepillado, pulido y rectificado, que permiten eliminar asperezas o
defectos de las superficies.
3.2.3.2. Desengrase y enjuague: se realiza este procedimiento para
eliminar grasas, aceites y sustancias similares como refrigerantes y
lubricantes que a menudo se utilizan en la fabricación de las piezas.
Desengrase:
Tiempo (s): 20
Voltaje (v): 1
Enjuague:
Tiempo (s): 10
3.2.3.3. Neutralizado y enjuague: se utiliza para eliminar esa
pequeña capa de óxido que se ha formado sobre la superficie de la
placa una vez que la superficie ha sido tratada o lavada en sucesivas
etapas.
Neutralizado:
Tiempo (s): 20
Enjuague:
Tiempo (s): 10
3.2.3.4. Dorado electrolítico: con la placa lista se procede a
encender la resistencia para obtener la temperatura óptima, se
suspende la placa en el tanque, se activa el sistema de agitación
controlando las variables de trabajo (densidad de corriente, tiempo y
temperatura).
Cuando conectamos los electrodos con una fuente de energía

(generador de corriente directa), el electrodo que se une al polo
positivo del generador es el ánodo y el electrodo que se une al polo
negativo del generador es el cátodo.
44
Una reacción de electrólisis puede ser considerada como el conjunto de
dos medias reacciones, una oxidación y una reducción.
Figura 3.7 Dorado Electrolítico

Para explicar las reacciones en los electrodos, tenemos el complejo AuCN.

Se utilizan electrodos inertes; que significa que no reaccionan químicamente
con los iones de oro y cianuro. Los iones de oro (+) o cationes, son atraídos
hacia el electrodo negativo (cátodo). El cátodo se hace negativo por la
acción de la fuente que le bombea electrones
Figura 3.8 Electrodeposición del oro

45
El catión oro llega y se deposita con más facilidad porque toda la energía
aplicada se usa para que los cationes lleguen y se depositen. Este es un
cambio químico y puede representarse con la siguiente reacción:
Este cambio químico representa una ganancia de electrones, por lo tanto el

oro se redujo y pasó a estado metálico, en consecuencia, el cambio químico
que siempre ocurre en el cátodo es de reducción.
El ánodo utilizado para el dorado electrolítico es insoluble, cumple la función

solo de permitir la conductividad eléctrica de la fuente. El cambio ocurrido en
la solución electrolítica puede representarse con la siguiente reacción:
Los iones CN pierden electrones transformándose en iones cianatos (CNO-).
3.2.3.5. Recuperación y enjuague: se realiza para captar los restos de

solución que aún quedan en la placa.
3.3. CONTROL DE VARIABLES

3.3.1. VARIABLE DEPENDIENTE
 Calidad del dorado Electrolítico. (masa de dorado recubierta - g)
3.3.2. VARIABLE INDEPENDIENTE

 Densidad de Corriente Eléctrica. (A/dm2)
 Temperatura (ºC)
 Tiempo de Recubrimiento. (s)
Tabla 3.2. Variables de Trabajo
intensidad de corriente A
Temperatura °C
tiempo s
46
3.4. OBSERVACIONES PARA EL DORADO
 Los metales a dorar fueron de cobre, plata y níquel o bañados en ellos

para obtener un mejor acabado.
 Durante el proceso de recubrimiento siempre se debe de mover el objeto
o la solución, lenta y constantemente.
 La solución debe cubrir y sobrepasar la resistencia del calentador.
.
47
CAPÍTULO IV
TRATAMIENTO DE DATOS
4.1. CONDICIONES DE TRABAJO
Se realizó 8 pruebas con dos repeticiones teniendo como variables
independientes la densidad de corriente, temperatura y tiempo a los
siguientes valores.
Tabla 4.1. Rangos de trabajo para las dos pruebas generales

Pruebas
Factores Decodificados
Generales
Intensidad de
PG1 PG2 corriente(A) T(ºC) T (s)
1 9 0.12 60 10
2 10 0.12 60 60
3 11 0.12 70 10
4 12 0.12 70 60
5 13 0.40 60 10
6 14 0.40 60 60
7 15 0.40 70 10
8 16 0.40 70 60
48
4.2. DETERMINACIÒN DE LA CANTIDAD DE ORO DEPOSITADA
Este valor será determinado por diferencia de masas entre la masa de la
placa recubierta con la masa inicial de la placa.
La masa de oro se deposita cuando conectamos los electrodos a una fuente
de energía, el electrodo que se une al polo positivo del generador es el ánodo
y el electrodo que se une al polo negativo del generador es el cátodo.
Los iones de oro (+) o cationes, son atraídos hacia el electrodo negativo
(cátodo). El cátodo se hace negativo por la acción de la fuente que le bombea
electrones.
En el cátodo los iones de oro se convierten en átomos de oro por adición de
un electrón. Este es un cambio químico y puede representarse con la
siguiente reacción:
El cambio ocurrido en la solución puede representarse con otra reacción:
4.2.1. Masas Experimentales obtenidas en las dos pruebas generales,

para el Níquel
Tabla 4.2. Masas depositadas de oro en la Prueba General 1
Área de la Masa
Masa Masa Final
PRUEBA Placa experimental
Inicial (g) (g)
(dm2) de oro (g)
1 0.08 2.0472 2.0493 0.0021
2 0.08 2.0307 2.0425 0.0118
3 0.08 2.0849 2.0869 0.0020
4 0.08 2.0250 2.0392 0.0142
5 0.08 2.0617 2.0687 0.0070
6 0.08 2.0491 2.0901 0.0410
7 0.08 2.0636 2.0708 0.0072
8 0.08 2.0275 2.0711 0.0436
49
Tabla 4.3. Masa depositada de oro en la Prueba General 2
Área de la Masa Inicial Masa experimental
PRUEBA Masa Final (g)
Placa (dm2) (g) de oro (g)
9 0.08 2.0472 2.0493 0.0021
10 0.08 2.0560 2.0679 0.0119
11 0.08 2.0842 2.0862 0.0020
12 0.08 2.0513 2.0652 0.0139
13 0.08 2.0259 2.0330 0.0071
14 0.08 2.0724 2.1131 0.0407
15 0.08 2.0269 2.0340 0.0071
16 0.08 2.0508 2.0938 0.0430

para la Plata
Área de la Masa Inicial Masa Final Masa experimental

PRUEBA
Placa (dm2) (g) (g) de oro (g)
1 0.08 2.0112 2.0132 0.0020
2 0.08 2.0212 2.0329 0.0117
3 0.08 2.0147 2.0166 0.0019
4 0.08 2.0348 2.0482 0.0134
5 0.08 2.0489 2.0557 0.0068
6 0.08 2.0145 2.0538 0.0393
7 0.08 2.0612 2.0680 0.0068
8 0.08 2.0496 2.0905 0.0409

Masa
Área de la Masa Inicial Masa Final
PRUEBA experimental de
Placa (dm2) (g) (g)
oro (g)
9 0.08 2.0161 2.0181 0.0020
10 0.08 2.0241 2.0357 0.0116
11 0.08 2.0521 2.0540 0.0019
12 0.08 2.0151 2.0284 0.0133
13 0.08 2.0419 2.0486 0.0067
14 0.08 2.0241 2.0629 0.0388
15 0.08 2.0601 2.0668 0.0067
16 0.08 2.0351 2.0749 0.0398
50
para el Cobre
Área de la Masa
Masa Masa Final
Inicial (g) (g)
(dm2) de oro (g)
1 0.08 2.0469 2.0489 0.0020
2 0.08 2.0559 2.0674 0.0115
3 0.08 2.0745 2.0764 0.0019
4 0.08 2.0511 2.0638 0.0127
5 0.08 2.0212 2.0278 0.0066
6 0.08 2.0701 2.1081 0.0380
7 0.08 2.0212 2.0276 0.0064
8 0.08 2.0401 2.0793 0.0392
Área de la Masa
Masa Masa Final
Inicial (g) (g)
(dm2) de oro (g)
9 0.08 2.0161 2.0181 0.0020
10 0.08 2.0241 2.0355 0.0114
11 0.08 2.0521 2.0540 0.0019
12 0.08 2.0151 2.0277 0.0126
13 0.08 2.0419 2.0484 0.0065
14 0.08 2.0241 2.0622 0.0381
15 0.08 2.0601 2.0665 0.0064
16 0.08 2.0351 2.0735 0.0384
51
4.2.4. Comparación de las masas experimentales depositadas en las
dos pruebas generales para el Níquel
Tabla 4.8. Comparación de la masa experimental a iguales condiciones
de trabajo para el Níquel
Área de la Masa
Masa Masa Final
Prueba Placa experimental
Inicial (g) (g)
(dm2) de oro (g)
1 0.08 2.0472 2.0493 0.0021
9 0.08 2.0472 2.0493 0.0021
2 0.08 2.0307 2.0425 0.0118
10 0.08 2.0560 2.0679 0.0119
3 0.08 2.0849 2.0869 0.0020
11 0.08 2.0842 2.0862 0.0020
4 0.08 2.0250 2.0392 0.0142
12 0.08 2.0513 2.0652 0.0139
5 0.08 2.0617 2.0687 0.0070
13 0.08 2.0259 2.0330 0.0071
6 0.08 2.0491 2.0901 0.0410
14 0.08 2.0724 2.1131 0.0407
7 0.08 2.0636 2.0708 0.0072
15 0.08 2.0269 2.0340 0.0071
8 0.08 2.0275 2.0711 0.0436
16 0.08 2.0508 2.0938 0.0430
Grafico 4.1: Comparación de masas experimentales para el Níquel

52
4.2.5. Comparación de las masas experimentales depositadas en las dos
pruebas generales para la Plata
de trabajo para la Plata
Área de la Masa
Masa Masa Final
Inicial (g) (g)
(dm2) de oro (g)
1 0.08 2.0112 2.0132 0.0020
9 0.08 2.0161 2.0181 0.0020
2 0.08 2.0212 2.0329 0.0117
10 0.08 2.0241 2.0357 0.0116
3 0.08 2.0147 2.0166 0.0019
11 0.08 2.0521 2.0540 0.0019
4 0.08 2.0348 2.0482 0.0134
12 0.08 2.0151 2.0284 0.0133
5 0.08 2.0489 2.0557 0.0068
13 0.08 2.0419 2.0486 0.0067
6 0.08 2.0145 2.0538 0.0393
14 0.08 2.0241 2.0629 0.0388
7 0.08 2.0612 2.0680 0.0068
15 0.08 2.0601 2.0668 0.0067
8 0.08 2.0496 2.0905 0.0409
16 0.08 2.0351 2.0749 0.0398
Grafico 4.2: Comparación de masas experimentales para la Plata

53
4.2.6. Comparación de las masas experimentales depositadas en las dos
pruebas generales para el cobre
de trabajo para el Cobre
Área de la Masa
Masa Masa Final
Inicial (g) (g)
(dm2) de oro (g)
1 0.08 2.0469 2.0489 0.0020
9 0.08 2.0161 2.0181 0.0020
2 0.08 2.0559 2.0674 0.0115
10 0.08 2.0241 2.0355 0.0114
3 0.08 2.0745 2.0764 0.0019
11 0.08 2.0521 2.0540 0.0019
4 0.08 2.0511 2.0638 0.0127
12 0.08 2.0151 2.0277 0.0126
5 0.08 2.0212 2.0278 0.0066
13 0.08 2.0419 2.0484 0.0065
6 0.08 2.0701 2.1081 0.0380
14 0.08 2.0241 2.0622 0.0381
7 0.08 2.0212 2.0276 0.0064
15 0.08 2.0601 2.0665 0.0064
8 0.08 2.0401 2.0793 0.0392
16 0.08 2.0351 2.0735 0.0384
Grafico 4.3: Comparación de masas experimentales para el Cobre

Fuente: Elaboración propia.
54
4.3. DETERMINACIÓN DE MASA TEÓRICA DEPOSITADA
El cálculo de la masa teórica nos permite determinar la cantidad de oro que
se debería depositar en el proceso de recubrimiento electrolítico con un 100
% de eficiencia.
Para realizar el cálculo la masa teórica se necesitó de las mediciones de
tiempo (cronómetro) y de intensidad de corriente (multímetro), tratando de
realizar dichas mediciones de la manera más exacta posible para así poder
tener resultados precisos.
La masa teórica fue hallada con la ecuación 2.1, a partir de los datos de peso
equivalente, intensidad de corriente y tiempo.
Ejemplo de cálculo para la prueba “1”:
Datos:
Peq (oro) = 197,2 g/Equi-g
I = 0,12 A
t = 10 s
Reemplazando en la ecuación 2.2:
Peq It 197,2  0,12  10

m   0,0025 g
96500 96500
Para la determinación de las demás masas se seguirá el mismo

procedimiento.
55
4.3.1. Masa teórica depositada en las dos pruebas generales
Dado que los rangos de trabajo son iguales para las dos pruebas
generales, las masas teóricas también serán iguales.
Tabla 4.11. Masa teórica depositada para las dos pruebas generales en el
níquel, plata y cobre
Área de la Intensidad de Peso equivalente Tiempo Masa teórica

PG1 PG2
Placa (dm2) corriente(I) Au (s) de oro (g)
1 9 0.08 0.12 197.2 10 0.0025
2 10 0.08 0.12 197.2 60 0.0147
3 11 0.08 0.12 197.2 10 0.0025
4 12 0.08 0.12 197.2 60 0.0147
5 13 0.08 0.40 197.2 10 0.0082
6 14 0.08 0.40 197.2 60 0.0490
7 15 0.08 0.40 197.2 10 0.0082
8 16 0.08 0.40 197.2 60 0.0490
4.4. COMPARACIÓN ENTRE LA MASA EXPERIMENTAL Y LA MASA

TEÓRICA
Tabla 4.12. Comparación de masas experimental y teórica en la prueba

general 1 del Níquel
Área de la Masa Masa Final Masa Experimental Masa teórica

PRUEBA
Placa (dm2) Inicial (g) (g) de oro (g) de oro (g)
1 0.08 2.0472 2.0493 0.0021 0.0025
2 0.08 2.0307 2.0425 0.0118 0.0147
3 0.08 2.0849 2.0869 0.0020 0.0025
4 0.08 2.0250 2.0392 0.0142 0.0147
5 0.08 2.0617 2.0687 0.0070 0.0082
6 0.08 2.0491 2.0901 0.0410 0.0490
7 0.08 2.0636 2.0708 0.0072 0.0082
8 0.08 2.0275 2.0711 0.0436 0.0490
56
general 2
Área de la Masa
Masa Masa teórica
PRUEBA Placa Masa Final (g) experimental
Inicial (g) de oro (g)
(dm2) de oro (g)
9 0.08 2.0472 2.0493 0.0021 0.0025
10 0.08 2.0560 2.0679 0.0119 0.0147
11 0.08 2.0842 2.0862 0.0020 0.0025
12 0.08 2.0513 2.0652 0.0139 0.0147
13 0.08 2.0259 2.0330 0.0071 0.0082
14 0.08 2.0724 2.1131 0.0407 0.0490
15 0.08 2.0269 2.0340 0.0071 0.0082
16 0.08 2.0508 2.0938 0.0430 0.0490

general 1 de la Plata
Área de la Masa
Masa Masa teórica
PRUEBA Placa Masa Final (g) Experimental
(dm2) de oro (g)
1 0.08 2.0112 2.0132 0.0020 0.0025
2 0.08 2.0212 2.0329 0.0117 0.0147
3 0.08 2.0147 2.0166 0.0019 0.0025
4 0.08 2.0348 2.0482 0.0134 0.0147
5 0.08 2.0489 2.0557 0.0068 0.0082
6 0.08 2.0145 2.0538 0.0393 0.0490
7 0.08 2.0612 2.0680 0.0068 0.0082
8 0.08 2.0496 2.0905 0.0409 0.0490
57
general 2
Área de la Masa
Masa Masa teórica
(dm2) de oro (g)
9 0.08 2.0161 2.0181 0.0020 0.0025
10 0.08 2.0241 2.0357 0.0116 0.0147
11 0.08 2.0521 2.0540 0.0019 0.0025
12 0.08 2.0151 2.0284 0.0133 0.0147
13 0.08 2.0419 2.0486 0.0067 0.0082
14 0.08 2.0241 2.0629 0.0388 0.0490
15 0.08 2.0601 2.0668 0.0067 0.0082
16 0.08 2.0351 2.0749 0.0398 0.0490

general 1 del Cobre
Área de la Masa
Masa Masa teórica
PRUEBA Placa Masa Final (g) Experimental
(dm2) de oro (g)
1 0.08 2.0469 2.0489 0.0020 0.0025
2 0.08 2.0559 2.0674 0.0115 0.0147
3 0.08 2.0745 2.0764 0.0019 0.0025
4 0.08 2.0511 2.0638 0.0127 0.0147
5 0.08 2.0212 2.0278 0.0066 0.0082
6 0.08 2.0701 2.1081 0.0380 0.0490
7 0.08 2.0212 2.0276 0.0064 0.0082
8 0.08 2.0401 2.0793 0.0392 0.0490
58
general 2 del cobre
Área de la Masa
Masa Masa teórica
2 Inicial (g) de oro (g)
(dm ) de oro (g)
9 0.08 2.0161 2.0181 0.0020 0.0025
10 0.08 2.0241 2.0355 0.0114 0.0147
11 0.08 2.0521 2.0540 0.0019 0.0025
12 0.08 2.0151 2.0277 0.0126 0.0147
13 0.08 2.0419 2.0484 0.0065 0.0082
14 0.08 2.0241 2.0622 0.0381 0.0490
15 0.08 2.0601 2.0665 0.0064 0.0082
16 0.08 2.0351 2.0735 0.0384 0.0490
4.5. MANEJO DE VARIABLES RESPECTO A LA MASA EXPERIMENTAL

DEPOSITADA DEL NIQUEL, PLATA Y COBRE.
Tabla 4.18. Manejo de variables respecto a la masa depositada
PROMEDIO PROMEDIO PROMEDIO

Intensidad
DE MASAS DE MASAS DE MASAS
de T(ºC) t (s)
DEL DE LA DEL
corriente(A)
NIQUEL PLATA COBRE
0.12 60 10 0.0021 0.0020 0.0020

0.12 60 60 0.0118 0.0116 0.0115
0.12 70 10 0.0020 0.0019 0.0019
0.12 70 60 0.0141 0.0134 0.0127
0.4 60 10 0.0071 0.0068 0.0066
0.4 60 60 0.0409 0.0391 0.0380
0.4 70 10 0.0071 0.0068 0.0064
0.4 70 60 0.0433 0.0404 0.0388
59
4.5.1. TEMPERATURA Vs MASA DEPOSITADA
Tabla 4.19. Temperatura vs masa depositada experimental

PROMEDIO PROMEDIO PROMEDIO
DE MASAS DE MASAS DE MASAS
T(ºC) DEL DE LA DEL
NIQUEL PLATA COBRE
60 0.0021 0.0020 0.0020
60 0.0118 0.0116 0.0115
70 0.0020 0.0019 0.0019
70 0.0141 0.0134 0.0127
60 0.0071 0.0068 0.0066
60 0.0409 0.0391 0.0380
70 0.0071 0.0068 0.0064
70 0.0433 0.0404 0.0388
Gráfico 4.4. Temperatura vs masa depositada experimental

Según el grafico se puede observar que a una temperatura de 60 o 70 °C la

cantidad de masa depositada es relativamente igual.
60
4.5.2. INTENSIDAD DE CORRIENTE Vs MASA DEPOSITADA
Tabla 4.20. Intensidad de corriente vs masa depositada experimental

Intensidad Promedio Promedio Promedio
de de masas de masas de masas
corriente(A) del níquel de la plata del cobre
0.12 0.0021 0.0020 0.0020
0.12 0.0118 0.0116 0.0115
0.12 0.0020 0.0019 0.0019
0.12 0.0141 0.0134 0.0127
0.4 0.0071 0.0068 0.0066
0.4 0.0409 0.0391 0.0380
0.4 0.0071 0.0068 0.0064
0.4 0.0433 0.0404 0.0388
Gráfico 4.5. Intensidad de corriente vs masa depositada experimental

Según el grafico se puede observar que a una intensidad de corriente

mayor, la cantidad de masa depositada es mayor.
61
4.5.3. TIEMPO Vs MASA DEPOSITADA
Tabla 4.21. Tiempo vs masa depositada experimental
Promedio Promedio Promedio
t (s) de masas de masas de masas
del níquel de la plata del cobre
10 0.0021 0.0020 0.0020
60 0.0118 0.0116 0.0115
10 0.0020 0.0019 0.0019
60 0.0141 0.0134 0.0127
10 0.0071 0.0068 0.0066
60 0.0409 0.0391 0.0380
10 0.0071 0.0068 0.0064
60 0.0433 0.0404 0.0388
Gráfico 4.6. Tiempo vs masa depositada experimental

Según el grafico se puede observar que a mayor tiempo de inmersion mayor
será la cantidad de masa depositada.
4.6. RENDIMIENTO ELECTROLÍTICO

El rendimiento electrolítico nos muestra la eficiencia del proceso de dorado,
nos indica cuan eficiente resulto cada una de las pruebas realizadas, de
acuerdo a sus respectivos rangos de trabajo. El rendimiento electrolítico se
62
calcula con la fórmula 2.3 a partir de los datos de masa experimental y masa
teórica.
Ejemplo de cálculo para la prueba “1”
Datos:
Masa experimental = 0,0021 g
Masa teórica = 0,0025 g
Reemplazando en la ecuación 2.3

Re = Peso del metal depositado experimentalmente x 100%
Peso del metal calculado teóricamente
0.0021
Re   100  85,6364
0.0025
Entonces el rendimiento de la prueba 1 es de 85,6364 %
4.6.1. RENDIMIENTOS ELECTROLÍTICOS DE LA PRUEBA GENERAL 1 y

2 DEL NIQUEL
Tabla 4.22. Rendimientos electrolíticos de las pruebas para el Níquel
Área
Masa Masa Masa
de la Masa Final Rendimiento
PRUEBA Inicial experimental teórica de
Placa (g) electrolítico
(g) de oro (g) oro (g)
(dm2)
1 0.08 2.0472 2.0493 0.0021 0.0025 85.6364
2 0.08 2.0307 2.0425 0.0118 0.0147 80.1992
3 0.08 2.0849 2.0869 0.0020 0.0025 81.5585
4 0.08 2.0250 2.0392 0.0142 0.0147 96.5109
5 0.08 2.0617 2.0687 0.0070 0.0082 85.6364
6 0.08 2.0491 2.0901 0.0410 0.0490 83.5974
7 0.08 2.0636 2.0708 0.0072 0.0082 88.0832
8 0.08 2.0275 2.0711 0.0436 0.0490 88.8987
9 0.08 2.0472 2.0493 0.0021 0.0025 85.6364
10 0.08 2.0560 2.0679 0.0119 0.0147 80.8788
11 0.08 2.0842 2.0862 0.0020 0.0025 80.7837
12 0.08 2.0513 2.0652 0.0139 0.0147 94.4719
13 0.08 2.0259 2.0330 0.0071 0.0082 86.8598
14 0.08 2.0724 2.1131 0.0407 0.0490 82.9858
15 0.08 2.0269 2.0340 0.0071 0.0082 86.8598
16 0.08 2.0508 2.0938 0.0430 0.0490 87.6754
63
4.6.2. RENDIMIENTOS ELECTROLÍTICOS DE LA PRUEBA GENERAL 1 y 2 DE
LA PLATA
Tabla 4.23. Rendimientos electrolíticos de las pruebas para la Plata

Área
Masa Masa Masa
(dm2)
1 0.08 2.0112 2.0132 0.0020 0.0025 81.5585
2 0.08 2.0212 2.0329 0.0117 0.0147 79.5195
3 0.08 2.0147 2.0166 0.0019 0.0025 79.1117
4 0.08 2.0348 2.0482 0.0134 0.0147 91.0736
5 0.08 2.0489 2.0557 0.0068 0.0082 83.1897
6 0.08 2.0145 2.0538 0.0393 0.0490 80.1312
7 0.08 2.0612 2.0680 0.0068 0.0082 83.1897
8 0.08 2.0496 2.0905 0.0409 0.0490 83.3936
9 0.08 2.0161 2.0181 0.0020 0.0025 82.3741
10 0.08 2.0241 2.0357 0.0116 0.0147 78.6360
11 0.08 2.0521 2.0540 0.0019 0.0025 78.7039
12 0.08 2.0151 2.0284 0.0133 0.0147 90.3940
13 0.08 2.0419 2.0486 0.0067 0.0082 82.4556
14 0.08 2.0241 2.0629 0.0388 0.0490 79.1117
15 0.08 2.0601 2.0668 0.0067 0.0082 81.9663
16 0.08 2.0351 2.0749 0.0398 0.0490 81.1507
64
4.6.3. RENDIMIENTOS ELECTROLÍTICOS DE LA PRUEBA GENERAL 1 y 2
DEL COBRE
Tabla 4.24. Rendimientos electrolíticos de las pruebas para el Cobre
Área
Masa Masa Masa
(dm2)
1 0.08 2.0469 2.0489 0.0020 0.0025 80.3351
2 0.08 2.0559 2.0674 0.0115 0.0147 78.1602
3 0.08 2.0745 2.0764 0.0019 0.0025 77.4806
4 0.08 2.0511 2.0638 0.0127 0.0147 86.3161
5 0.08 2.0212 2.0278 0.0066 0.0082 80.7429
6 0.08 2.0701 2.1081 0.0380 0.0490 77.4806
7 0.08 2.0212 2.0276 0.0064 0.0082 78.2961
8 0.08 2.0401 2.0793 0.0392 0.0490 79.9273
9 0.08 2.0161 2.0181 0.0020 0.0025 79.9273
10 0.08 2.0241 2.0355 0.0114 0.0147 77.4806
11 0.08 2.0521 2.0540 0.0019 0.0025 77.0728
12 0.08 2.0151 2.0277 0.0126 0.0147 85.6364
13 0.08 2.0419 2.0484 0.0065 0.0082 79.5195
14 0.08 2.0241 2.0622 0.0381 0.0490 77.6845
15 0.08 2.0601 2.0665 0.0064 0.0082 78.2961
16 0.08 2.0351 2.0735 0.0384 0.0490 78.2961
4.7. COMPARACIÓN DE LOS RENDIMIENTOS ELECTROLÍTICOS
Tabla 4.25. Promedio de Rendimientos electrolíticos del Níquel, Plata y Cobre

de la prueba general 1 y 2
Rendimiento Rendimiento Rendimiento

Pruebas
del Níquel de la Plata del Cobre
1 85.6364 81.9663 80.1312
2 80.5390 79.0777 77.8204
3 81.1711 78.9078 77.2767
4 95.4914 90.7338 85.9762
5 86.2481 82.8226 80.1312
6 83.2916 79.6215 77.5825
7 87.4715 82.5780 78.2961
8 88.2871 82.2721 79.1117
65
Gráfico 4.7. Comparación de los rendimientos electrolíticos
4.8. ESPESOR Y COSTO DEL RECUBRIMIENTO DE ORO.
4.8.1. CÁLCULO DEL ESPESOR

El cálculo del espesor se puede realizar tanto con la ecuación 2.3 o
con la tabla 2.2. Con fines de aprendizaje lo realizaremos de las dos
formas.
Ejemplo de cálculo para la prueba 1
Datos:
Masa experimental: 0,0021 g
ρ (oro) : 19300 g/dm3
Área : área superficial
 Con la ecuación 2.3:

m 0,0021
e   1.36  10 6 dm  0,136m
  S 19300  0.08
66
 Con la tabla 2.3:
De la tabla obtenemos el siguiente dato:

g/dm2 en 10 μ : 1.927
Entonces:
Si: 1.927 ----------------- 10 μm

0.0021/0.08 ----------------- X
X = 0,136 μm
Como observamos en ambos casos el espesor es el mismo.
4.8.2. CÁLCULO DE COSTO

El cálculo del costo se puede realizar fácilmente teniendo el valor de
la masa real depositada y del costo del gramo de oro.
Ejemplo de cálculo para la prueba 1:
Datos:
Masa Exp.: 0,0021 g
Costo (Au): 134.88 soles/gramo
soles
cos to  134.88  0,0021g  0,283soles
g
En el siguiente cuadro presentamos los espesores y los costos de

todas las pruebas realizadas agrupándolas de acuerdo a sus mismas
condiciones de trabajo para facilitar la comparación.
67
Tabla 4.26. Espesor y costo del recubrimiento para el níquel
Densidad Tiempo de Espesor Espesor Espesor

Temperatura Costo
Prueba de corriente recubrimiento Experimental Experiment Teórico
(°C) (soles)
(I) (s) (dm) al (µm) (µm)
1 0.12 60 10 1.3601E-06 0.136 0.159 0.2832

2 0.12 60 60 7.6425E-06 0.764 0.953 1.5916
3 0.12 70 10 1.2953E-06 0.130 0.159 0.2698
4 0.12 70 60 9.1969E-06 0.920 0.953 1.9153
5 0.4 60 10 4.5337E-06 0.453 0.529 0.9442
6 0.4 60 60 2.6554E-05 2.655 3.176 5.5301
7 0.4 70 10 4.6632E-06 0.466 0.529 0.9711
8 0.4 70 60 2.8238E-05 2.824 3.176 5.8808
9 0.12 60 10 1.3601E-06 0.136 0.159 0.2832
10 0.12 60 60 7.7073E-06 0.771 0.953 1.6051
11 0.12 70 10 1.283E-06 0.128 0.159 0.2672
12 0.12 70 60 9.0026E-06 0.900 0.953 1.8748
13 0.4 60 10 4.5984E-06 0.460 0.529 0.9576
14 0.4 60 60 2.636E-05 2.636 3.176 5.4896
15 0.4 70 10 4.5984E-06 0.460 0.529 0.9576
16 0.4 70 60 2.785E-05 2.785 3.176 5.7998
Con los datos de la tabla 4.26 podemos realizar la comparación de espesores
experimentales y teórico de las dos pruebas generales
Gráfico 4.8. Comparación de espesores teórico y experimental para el Níquel

68
Tabla 4.27. Espesor y costo del recubrimiento para la Plata
Densidad Tiempo de Espesor Espesor Espesor

Temperatura Costo
Prueba de corriente recubrimiento Experimental Experiment Teórico
(°C) (soles)
(I) (s) (dm) al (µm) (µm)
1 0.12 60 10 1.2953E-06 0.130 0.159 0.2698

2 0.12 60 60 7.5777E-06 0.758 0.953 1.5781
3 0.12 70 10 1.2565E-06 0.126 0.159 0.2617
4 0.12 70 60 8.6788E-06 0.868 0.953 1.8074
5 0.4 60 10 4.4041E-06 0.440 0.529 0.9172
6 0.4 60 60 2.5453E-05 2.545 3.176 5.3008
7 0.4 70 10 4.4041E-06 0.440 0.529 0.9172
8 0.4 70 60 2.649E-05 2.649 3.176 5.5166
9 0.12 60 10 1.3083E-06 0.131 0.159 0.2725
10 0.12 60 60 7.4935E-06 0.749 0.953 1.5606
11 0.12 70 10 1.25E-06 0.125 0.159 0.2603
12 0.12 70 60 8.614E-06 0.861 0.953 1.7939
13 0.4 60 10 4.3653E-06 0.437 0.529 0.9091
14 0.4 60 60 2.513E-05 2.513 3.176 5.2333
15 0.4 70 10 4.3394E-06 0.434 0.529 0.9037
16 0.4 70 60 2.5777E-05 2.578 3.176 5.3682
Gráfico 4.9. Comparación de espesores teórico y experimental para la Plata

69
Tabla 4.28. Espesor y costo del recubrimiento del Cobre
Densidad
Tiempo de Espesor Espesor Espesor
de Temperatur Costo
Prueba recubrimiento Experimental Experimental Teórico
corriente a (°C) (soles)
(s) (dm) (µm) (µm)
(I)
1 0.12 60 10 1.2759E-06 0.128 0.159 0.2657

2 0.12 60 60 7.4482E-06 0.745 0.953 1.5511
3 0.12 70 10 1.2306E-06 0.123 0.159 0.2563
4 0.12 70 60 8.2254E-06 0.823 0.953 1.7130
5 0.4 60 10 4.2746E-06 0.427 0.529 0.8902
6 0.4 60 60 2.4611E-05 2.461 3.176 5.1254
7 0.4 70 10 4.1451E-06 0.415 0.529 0.8632
8 0.4 70 60 2.5389E-05 2.539 3.176 5.2873
9 0.12 60 10 1.2694E-06 0.127 0.159 0.2644
10 0.12 60 60 7.3834E-06 0.738 0.953 1.5376
11 0.12 70 10 1.2241E-06 0.122 0.159 0.2549
12 0.12 70 60 8.1606E-06 0.816 0.953 1.6995
13 0.4 60 10 4.2098E-06 0.421 0.529 0.8767
14 0.4 60 60 2.4676E-05 2.468 3.176 5.1389
15 0.4 70 10 4.1451E-06 0.415 0.529 0.8632
16 0.4 70 60 2.487E-05 2.487 3.176 5.1794
Gráfico 4.10. Comparación de espesores teórico y experimental del Cobre

70
4.9. APRECIACIÓN CUALITATIVA DEL DORADO (BRILLO)
Calificamos el brillo de manera cualitativa usando tres rangos ALTO, MEDIO
Y BAJO, esto para poder determinar a qué rangos de trabajo el dorado tiene
mejor brillo, también aportamos algunas observaciones de la placa dorada.
Para hacer la comparación más sencilla nuevamente agruparemos las
pruebas de acuerdo a sus rangos de trabajo para el níquel, plata y cobre
Tabla 4.29. Apreciación cualitativa del dorado
Densidad
Tiempo de
de
Prueba recubrimiento Temperatura °C Observaciones Brillo
corriente
(s)
(I)
1 0.12 10 60 Presenta poco brillo MEDIO

9 0.12 10 60 Presenta poco brillo MEDIO
2 0.12 60 70 Presenta manchas ALTO
10 0.12 60 70 Presenta manchas ALTO
3 0.12 10 60 Presenta nubosidades ALTO
11 0.12 10 60 Presenta nubosidades ALTO
No presenta
manchas, ni
4 0.12 60 70 nubosidades ALTO
No presenta
manchas, ni
12 0.12 60 70 nubosidades ALTO
5 0.40 10 60 presenta poco brillo MEDIO
13 0.40 10 60 presenta poco brillo MEDIO
6 0.40 60 70 Presenta nubosidades MEDIO
7 0.40 10 60 Presenta nubosidades BAJO
15 0.40 10 60 Presenta nubosidades BAJO
71
CAPITULO V
RESULTADOS
5.1. COMPARACIÓN DE MASAS DEPOSITADAS EXPERIMENTALES Y
TEÓRICAS PARA EL NÍQUEL, PLATA Y COBRE
Tabla 5.1 Comparación de masas teórica y experimental
Densidad Promedio Promedio Promedio

Tiempo de Masa
de Temperatura de Masas de Masas de Masas
recubrimiento Teórica
corriente (°C) del Níquel de la Plata del Cobre
(s) (g)
(I) (g) (g) (g)
0.12 60 10 0.0025 0.0021 0.0020 0.0020

0.12 60 60 0.0147 0.0118 0.0116 0.0115
0.12 70 10 0.0025 0.0020 0.0019 0.0019
0.12 70 60 0.0147 0.0141 0.0134 0.0127
0.4 60 10 0.0082 0.0071 0.0068 0.0066
0.4 60 60 0.0490 0.0409 0.0391 0.0380
0.4 70 10 0.0082 0.0071 0.0068 0.0064
0.4 70 60 0.0490 0.0433 0.0404 0.0388
Para estos datos se realizó un análisis de varianza para demostrar si hay o no

influencia de las variables con respecto a las masas depositadas y si existe o no
diferencia significativa y tomar una decisión en cuanto a las variables a usar.
72
5.2. ANALIS DE VARIANZA (ANOVA)
Para demostrar nuestra hipótesis, la influencia significativa entre las masas
depositadas en los diferentes metales usados a las diferentes condiciones de
trabajo, se realizó pruebas con respecto al porcentaje de recuperación de masa
recubierta experimental para los 3 metales, para determinar si existe o no
diferencia significativa
Ejemplo: Masa teórica: 0.0025 - - - - - 100%
Masa exp. 0.0021 - - - - - x%
X = (0.0010/0.0012)*100
X = 85,6364 %
TABLA 5.2 Porcentaje de recuperación de la masa depositada
Ni Ag Cu
85.6364 81.9663 80.1312
80.5390 79.0777 77.8204
81.1711 78.9078 77.2767
95.4914 90.7338 85.9762
86.2481 82.8226 80.1312
83.2916 79.6215 77.5825
87.4715 82.5780 78.2961
88.2871 82.2721 79.1117
REALIZANDO UN ANALISIS DE VARIANZA (ANOVA)
Hipótesis Nula: Ho µNi = µAg = µCu
Hipótesis Alterna: Hi µNi ≠ µAg ≠ µCu
TABLA 5.3. Datos para el análisis de varianza
NIQUEL NIQUEL¨2 PLATA PLATA¨2 COBRE COBRE¨2
83.3333 6944.4444 75.0000 5625.0000 45.8333 2100.6944
72.6027 5271.1578 68.4932 4691.3117 66.4384 4414.0552
91.6667 8402.7778 83.3333 6944.4444 79.1667 6267.3611
82.8767 6868.5494 74.6575 5573.7474 71.9178 5172.1711
81.7073 6676.0857 75.6098 5716.8352 79.2683 6283.4622
71.2245 5072.9279 65.3061 4264.8896 65.5102 4291.5868
82.9268 6876.8590 47.5610 2262.0464 59.7561 3570.7912
82.0408 6730.6955 67.1429 4508.1633 67.7551 4590.7539
SUMATORIA 648.3789 52843.4977 557.1037 39586.4381 535.6459 36690.8760
∑ Ni+Ag+Cu 1741.1285
∑ Ni2+Ag2+Cu2 129120.8117
73
SS TOTAL = 483.823977
SST = 169.2735209
SSE = 314.5504562
TABLA 5.4. Tabla ANOVA
Fuente: Pedro J. Rodríguez-Departamento de Matemáticas Universidad de

Puerto Rico.
Reemplazando en la tabla ANOVA
TABLA 5.5. Análisis de Varianza
Grados
Fuente de Suma de Media de
de F calculado
variación cuadrados cuadrados
Libertad
TRATAMIENTOS 169.273521 2 MST 84.6367604 5.65051468
ERROR 314.550456 21 MSE 14.9785932
TOTAL 483.823977 23
Donde:
K: Número de grupos
n: Número de datos totales
74
Usando Excel
Análisis de varianza de un factor
TABLA 5.6. Análisis de varianza ANOVA

Grupos Cuenta Suma Promedio Varianza
Columna 1 8 688.136128 86.017016 22.5928854
Columna 2 8 657.979878 82.2474848 14.3762784
Columna 3 8 636.3261 79.5407625 7.9666156
Origen de Promedio Valor

las Suma de Grados de de los crítico para
variaciones cuadrados libertad cuadrados F Probabilidad F
Entre
grupos 169.273521 2 84.6367604 5.65051468 0.01087754 3.46680011
Dentro de
los grupos 314.550456 21 14.9785932
Total 483.823977 23
FUENTE: Elaboración propia
Conclusión: Condición, Fcal > Fcrit
Según la condición que encontramos se rechaza la hipótesis nula, y se acepta
la hipótesis alterna por lo que se concluye que la variación de la corriente
eléctrica, temperatura y tiempo produce diferencias significativas en el
porcentaje de recuperación de masas depositadas de los diferentes metales
usados que son Ni, Ag y Cu, influyendo así en el acabado final del dorado
electrolítico.
5.3. COMPARACIÓN DE RENDIMIENTOS EXPERIMENTALES PARA EL

NÍQUEL, PLATA Y COBRE
Tabla 5.7. Comparación de rendimientos promedio para Ni, Cu, Ag
Rendimiento Rendimiento Rendimiento

Pruebas
del Níquel de la Plata del Cobre
1 85.6364 81.9663 80.1312
2 80.5390 79.0777 77.8204
3 81.1711 78.9078 77.2767
4 95.4914 90.7338 85.9762
5 86.2481 82.8226 80.1312
6 83.2916 79.6215 77.5825
7 87.4715 82.5780 78.2961
8 82.0400 67.1400 67.7600
75
5.4. COMPARACIÓN DE ESPESORES EXPERIMENTAL PARA EL NÍQUEL,
PLATA Y COBRE
Tabla 5.8. Comparación de espesores promedio en micrómetros (um) de las dos

pruebas realizadas para Ni, Cu, Ag
Espesor del Espesor de Espesor del Espesor
Pruebas
Níquel la Plata Cobre teórico
1 0.136 0.130 0.127 0.159
2 0.767 0.754 0.742 0.953
3 0.129 0.125 0.123 0.159
4 0.910 0.865 0.819 0.953
5 0.457 0.438 0.424 0.529
6 2.646 2.529 2.464 3.176
7 0.463 0.437 0.415 0.529
8 2.804 2.613 2.513 3.176
5.5. COMPARACION DE COSTOS PARA EL NIQUEL, PLATA Y COBRE
Tabla 5.9 Comparación Costos en S/. De las pruebas realizadas para Ni, Cu, Ag
Pruebas Costo del Níquel Costo de la Plata Costo del Cobre

1 0.2832 0.2711 0.2650
2 1.5983 1.5693 1.5444
3 0.2685 0.2610 0.2556
4 1.8951 1.8006 1.7062
5 0.9509 0.9131 0.8835
6 5.5098 5.2671 5.1322
7 0.9644 0.9104 0.8632
8 5.8403 5.4424 5.2333
76
5.6. VARIABLES ÓPTIMAS ENCONTRADAS
En la tabla 5.10 presentamos los resultados finales en función de la calidad el
cual podemos apreciar según el brillo tanto para placas de níquel, plata y cobre
(ver tabla 4.29)
Los rangos óptimos de trabajo fueron:
Densidad de corriente Temperatura Tiempo de recubrimiento

1.5 A/dm2 70 °C 60 segundos.
TABLA 5.10. Calidad de dorado electrolítico
Densidad de Tiempo de Temperatura

Prueba Brillo
corriente (I) recubrimiento (s) °C
1 0.12 10 60 MEDIO
9 0.12 10 60 MEDIO
2 0.12 60 70 ALTO
10 0.12 60 70 ALTO
3 0.12 10 60 ALTO
11 0.12 10 60 ALTO
4 0.12 60 70 ALTO
12 0.12 60 70 ALTO
5 0.40 10 60 MEDIO
13 0.40 10 60 MEDIO
6 0.40 60 70 MEDIO
14 0.40 60 70 MEDIO
7 0.40 10 60 MEDIO
15 0.40 10 60 MEDIO
8 0.40 60 70 MEDIO
16 0.40 60 70 MEDIO
77
CAPITULO VI
DISCUSIÓN DE RESULTADOS
 Los resultados encontrados se centra en la influencia que ocasiona las

variables al realizar un recubrimiento metálico como se muestra en la tabla
5.1 que la masa teórica es mayor en comparación con las masas
experimentales esto debido a factores que influyen durante el procedimiento
como la balanza, cronómetro y manipulación de las placas. En la información
de ANOVA, análisis de varianza, se encontró que el efecto de las variables
usadas tiene un p-valor inferior a 0.05, indicando que es significativo al 95.0%
de nivel de confianza sobre la masa depositada en cada metal.
 Con respecto al rendimiento podemos observar en la tabla 5.7 el rendimiento

depende de las tres variables ya que son directamente proporcionales a un
aumento del valor de las variables la masa depositada aumenta por lo tanto
aumenta el rendimiento, éstos fueron determinados en función al acabado del
dorado electrolítico y este acabado se dio en la prueba n° 4. Al comparar la
eficiencia de los 3 metales usados quien posee mayor eficiencia es el níquel
por lo que podemos afirmar que este baño es más eficiente para placas
78
niqueladas, debido a que el porcentaje de recuperación de la masa
depositada es mayor para este metal.
 Los espesores determinados se pueden observar en la tabla 5.8, según la

norma mexicana el espesor mínimo para artículos con recubrimiento
mecánico, electrolítico o químico debe ser de 0.2 micras, se puede evidenciar
que se cumple este requisito de la norma. En cuanto a los espesores de los
metales empleados se observa que el espesor del níquel es mayor con
respecto al espesor del Cu y Ag, debido a que el baño usado es más eficiente
para placas niqueladas.
 El dorado electrolítico es muy lucrativo, como podemos observar en la tabla

5.9, los costos de cada una de las pruebas es muy bajo comprobando que el
proceso es de muy bajo costo y por consiguiente se puede tener ganancias
altas.
 En el cuadro 5.10 presentamos los resultados obtenidos de las diferentes

condiciones estudiadas en función de la calidad, resultando la mejor condición
la prueba numero 4 es el mejor resultado de acabado superficial, tanto para el
brillo como para la rugosidad. El resto de las pruebas no arrojó mayor brillo
probablemente por los altos niveles de corriente que se emplearon. Los bajos
valores de la densidad de corriente favorecieron la formación de un
electrodepósito con acabado decorativo aceptable. El incremento de la
densidad de corriente ocasiona un descenso de la concentración de iones
cerca del cátodo y los cristales crecen sobre la superficie, este crecimiento es
controlado por el tiempo y temperatura de recubrimiento, evitando así la
formación de protuberancias o rugosidades.
Si bien la eficiencia hallada a estos rangos no es la mayor de las 16 pruebas,
el acabado final resulto mejor.
79
CONCLUSIONES
1. Se evaluó la influencia y se determinó el valor convencional para la

densidad de corriente, temperatura y tiempo siendo estos de 0.12 A, 70°C y
60 s respectivamente los valores encontrados al caracterizar la calidad
estética del electrodepósito para placas de níquel, plata y cobre, siendo
estos valores el de mayor brillo encontrado en el recubrimiento del dorado
electrolítico realizado en la facultad de ingeniería química de la Universidad
Nacional del Centro del Perú.
2. Se evaluó la influencia de la densidad de corriente y se determinó el valor

convencional verdadero siendo este 0.12 A, cuyo valor es decisivo ya que
al aumentar la densidad de corriente se aumenta la velocidad de
electrodeposición y ocasiona un descenso de la concentración de iones
cerca del cátodo y tiende a obtenerse depósitos rugosos, frágiles y con una
mala adherencia, inclusive depósitos quemados, como consecuencia de un
incremento excesivo de hidrógeno en la superficie a dorar, lo que no permite
la buena adherencia de la película de oro.
3. Se evaluó la influencia de la temperatura a emplear y se determinó que su

valor convencional es de 70°C, se evaluó que un aumento de la temperatura
favorece la movilidad de los iones metálicos ocasionando el incremento de
la conductividad del electrolito y una disminución de la viscosidad de la
solución, también favorece la formación de depósitos brillantes y de granos
finos. A mayor temperatura la adherencia es fuerte.
4. Se evaluó la influencia del tiempo de recubrimiento y se determinó que su

valor convencional es de 60 segundos, que a mayor tiempo de
recubrimiento se deposita mayor cantidad de oro, aunque al exponer la
placa a un tiempo innecesario hará que cambie las características del
recubrimiento en su color, forma, rugosidad y demás aspectos que se
vinculen con el proceso.
80
RECOMENDACIONES
 Se recomienda trabajar bajo campana de extracción o con protección

respiratoria.
 Mantener la solución a un pH entre 10 y 12.
 Las placas a dorar tienen que pasar necesariamente por el pre tratamiento y
se sugiere que sean niqueladas.
 Controlar exactamente y mantener constante los tiempos de recubrimiento,

lecturas tanto de amperaje como de voltaje ya que de esto depende la
cantidad de oro que se va a depositar y así poder obtener una eficiencia
mayor.
 La solución de dorado electrolítico contiene cianuro de oro, es necesario

instalar una cuba de recuperación luego del dorado electrolítico.
 El equipo de dorado electrolítico tiene un sistema de calentamiento es

necesario mantener el nivel del baño de dorado sobre la resistencia de este
sistema.
81
REFERENCIA BIBLIOGRAFIA
[1] G. Calderon y M. Ninamango, “TESIS INFLUENCIA DEL TIEMPO DE

RECUBRIMIENTO Y DE LA DENSIDAD DE CORRIENTE ELÉCTRICA EN LA
CALIDAD DEL PLATEADO ELECTROLÍTICO” - UNCP-2011
[2] J.F. López “TESIS PROCESO DE DEPOSICIÓN ELECTROLÍTICA DEL ORO
EN CONECTORES ELECTRÓNICOS”, Escuela Superior Politécnica del Litoral-
2005
[3] T. Ortiz G. “TESIS DORADO ELECTROLÍTICO”, Ing. Industrial – Escuela
Superior Politécnica de Chimborazo-2011
[4] B. B. Damaskín y O. A. Petri “FUNDAMENTOS DE LA ELECTROQUÍMICA
TEÓRICA”. Publicado por Editorial MIR Moscú.
[5] C.L. Mantell “INGENIERIA ELECTROQUIMICA” Publicado por Editorial Reverte
España1980.
[6] Enrique Julve Salvado. “LA ELECTRODEPOSICIÓN DE METALES
INDUSTRIALES EN EL ACTUAL MUNDO TECNOLÓGICO”, revista ingeniería
química, 2008.
[7] Enrique Julve Salvado “ELECTRODEPOSICION Y DEPOSICION QUIMICA DE
METALES PRECIOSOS (VOL. II): ANALISIS DE LOS BAÑOS, CONTROL DE
CALIDAD Y TRATAMIENTO DE LAS AGUAS RESIDUALES”, autor-editor 2004.
[8] Juan Antonio Garcia Olivares “ESTUDIO DEL PROCESO DE
ELECTRODEPOSICON DE ORO DESDE SOLUCIONES CIANURADAS DE
MINERALES” Publicado por Universidad de Concepción, 1994.
[9] Francisco José Vallejo “GALVANOSTEGIA, ELECTROQUIMICA
METALIZACION EN LA PLATA” Buenos aires.
[10] Gianni Mastai “GALVANOTECNIA: Datos Prácticos”Ediciones REDES,
Barcelona-1964.
[11] Blum W. y Hogaboom G. “GALVANOTECNIA Y GALVANOPLASTIA”
Publicado por Editorial Continental México 1989.
[12] Gianni Mastai “GALVANOTECNIA: Datos Prácticos”Ediciones REDES,
Barcelona-1964.
[13]J.Glayman, G. Farkas “GALVANOTECNIA, TECNICA Y PROCEDIMIENTOS”,
editores técnicos asociados s.a. Barcelona, 2010.
[14] CAPRICE H. “MANUAL DE GALVANOTECNIA”, publicado por COSISEP,

2008
82
[15] Rodolfo Roque Pérez Méndez “MANUAL TEÓRICO PRACTICO DE
GALVANOPLASTIA Y GALVANOTECNIA”Publicado por Recubrimientos metálicos
zincados plateados cobreados y dorados, 2009.
[16] Ing. Luis Riccio “ELECTROQUIMICA” Apuntes, Huancayo-2008.
[17] Ricardo Yesares Blanco “GALVANOPLASTIA Y ELECTROLISIS”. Manuales
soler LXII, 1997.
83
ANEXOS
84
ANEXO A:
INSTRUCCIONES PARA EL DORADO
TRAELSA S.A.
85
86
87
ANEXO B:
INFORMACIÓN DE INSUMOS
88
89
90
91
92
ANEXO C:
POTENCIALES DE REDUCCION
ESTANDAR °E
93
Tabla C.1. Potenciales de Reducción estándar E°
Fuente: Zulema Ángela Mahmud – Potencial en la electrodeposición
94
ANEXO D:
DIAGRAMA DE POURBAIX DEL
SISTEMA ORO-CIANURO
95
DIAGRAMA DE POURBAIX DEL SISTEMA ORO-CIANURO
Si la solución contiene cianuro el catión Au+ forma con los CN- un complejo muy estable
según la reacción:
Según la expresion de Nernst se tiene:
(1)
De esta ecuacion se obtiene los siguientes valores de [CN-] a varios valores de pH.
Para una concentración total de Au en solución de 10-6M, la ecuación (1) permite obtener
los siguientes valores de potenciales:
Figura D.1. Diagrama parcial Au-CN-H2O, a Figura D.2. Diagrama Eh-pH para el
25°C para concentración total de Cianuro = sistema Au-CN-H2O a 25°C,
10-2M y concentración total de Au = 10-6M. concentración total de Au = 10-4M,
concentración de cianuro libre = 10-3M.
96
ANEXO E:
NORMA MEXICANA NMX-W-045-1976-
ESPECIFICACIONES DEL ESPESOR
MINIMO
97
5. ESPECIFICACIONES
5.1 Espesor del recubrimiento

El espesor mínimo para artículos con recubrimiento mecánico, electrolítico o
químico debe ser de 0.2 micras.
5.2 Tolerancia en el espesor del recubrimiento

A excepción del espesor de 0.2 micras, la variación máxima permitida será
del -20% con relación al valor dado por el fabricante.
5.2.1 En el caso de que un fabricante de un espesor mayor de recubrimiento
de oro o de aleación de oro al estipulado en 5.1, puede garantizarlo
marcándolo en el producto o indicándolo en la factura.
5.3 Aleación de oro

El contenido mínimo en la aleación de oro para el recubrimiento debe ser de
10 quilates ó 417 milésimas de oro puro.
5.4 Los artículos sujetos a esta norma pueden llevar partes no recubiertas
siempre y cuando las partes recubiertas cumplan con las especificaciones
establecidas en esta norma.
98
ANEXO F:
HOJA DE SEGURIDAD DEL CIANURO
99
HOJA DE SEGURIDAD DEL CIANURO DE HIDROGENO Y CIANUROS
Las disoluciones acuosas de cianuros, también tienen olor a almendras
amargas y se descomponen lentamente en el agua; si el medio es ácido se
libera cianuro de hidrógeno.
Tanto el cianuro de hidrógeno, como los cianuros sólidos o en disolución son
tóxicos por absorción por la piel, ingestión e inhalación.
Para la vida acuática son extremadamente peligrosos pues mientras que
para algunas especies se ha encontrado que una concentración de 0.05
mg/l de cianuros libres es aceptable, otros son sensibles a concentraciones
más bajas, lo que dificulta el establecimiento de concentraciones límite.
Debido a su toxicidad, se usó por décadas como veneno y plaguicida,
utilizándose, por ejemplo en cultivos de naranja, en silos de granos o para
fumigar muebles que después serían vendidos como antigüedades. En la
actualidad estos usos han desaparecido debido a su alta toxicidad y
actualmente se usa principalmente en la recuperación de metales preciosos
y como materia prima en la elaboración de otros productos químicos. [14]
F.1. Propiedades Químicas

El HCN arde en el aire con una flama azul y es un producto altamente
peligroso cuando se expone al calor, flamas u oxidantes. Forma mezclas
explosivas con el aire. Puede polimerizar exotérmicamente a pH entre 5 y
11, esta reacción de polimerización se lleva a cabo entre el HCN y iones
cianuro por lo que la presencia de agua y calor, contribuyen a que esta
reacción se lleve a cabo.
La cantidad de ácido, utilizada como inhibidor debe ser perfectamente
controlada, ya que un exceso de ácidos fuertes como sulfúricos, clorhídricos
o nítricos provoca la hidrólisis violentamente explosiva del HCN.
Además, en los tanques, el calor puede acelerar la reacción entre el ácido
(usado como inhibidor) y las paredes de éstos, consumiéndolo y provocando
la polimerización violenta. Lo mismo sucede con cualquier contaminante que
agote el ácido estabilizador.
100
F.2. Equipo de protección personal:
Para trabajar con este producto es necesario el uso de bata, lentes de
seguridad y guantes, en campanas extractoras de gases, evitando olerlo y
tocarlo directamente. Por ello, dependiendo de la cantidad podría ser
necesario el uso de un equipo de respiración, ropa de protección
químicamente resistente y detectores. El personal debe estar debidamente
capacitado en los primeros auxilios necesarios y nunca trabajar solo.
Para trasvasar pequeñas cantidades debe usarse pro pipeta, NUNCA
ASPIRAR CON LA BOCA.
F.3. Riesgos
 Riesgos de fuego y explosión:
Los recipientes que contienen al HCN pueden romperse violentamente al
someterse al calor. Lo mismo sucede con las disoluciones acuosas, pues al
calentarse se genera cianuro de hidrógeno.
Además de la toxicidad, el cianuro de hidrógeno presenta otro peligro, la
polimerización a pH entre 5 y 11, la cual resulta violentamente explosiva, en
especial si el material se encuentra en recipientes cerrados. Esta reacción
se favorece con la presencia de agua y calor.
 Riesgos a la salud
Por ser un material sumamente venenoso, puede ser fatal si se inhala, se
ingiere o es absorbido a través de la piel.
Es un veneno protoplasmático no acumulativo, es decir puede ser eliminado
totalmente. Se combina con enzimas sanguíneas que regulan la
transferencia de oxígeno en la membrana celular. Por lo que, si el cianuro no
se elimina rápidamente, se presenta la muerte por falta de oxígeno en las
células.
Los síntomas de envenenamiento por cianuros incluyen cansancio,
adormecimiento, dolor de cabeza, pulso rápido, náusea y piel enrojecida.
Una exposición más prolongada causa vómito, respiración dificultosa
seguida de inconsciencia, paro respiratorio y muerte.
101
F.4.Desechos
Pequeñas cantidades de este producto en disolución se desechan llevando
el pH hasta 12 y vertiendo esta disolución sobre otra de sulfato ferroso. El
ferrocianuro formado es relativamente no tóxico.
También, los cianuros en disolución pueden convertirse a especies menos
tóxicas como los tiocianatos por tratamiento con cloro, hipoclorito de sodio o
calcio o por ozono a pH de 9 a 11. Una disolución de hipoclorito al 10 % es
suficiente y es necesario asegurarse de que la disolución final no contiene
cianuros.
La utilización de hipoclorito o cloro y NaOH es el método más utilizado, sin
embargo existen otros oxidantes que pueden utilizarse como peróxidos,
permanganatos y cloritos. Además existen otros métodos como electrólisis a
CO2, NH3 y cianato; hidrólisis a temperatura alta para generar NH3 y sales
de ácido fórmico; descomposición biológica a CO2 y N2; tratamiento con
cromo para dar oxamidas; tratamiento con nitrito o nitrato para dar
carbonatos y nitrógeno; intercambio iónico y tratamiento con rayos gama.
102
ANEXO G:
FOTOGRAFÍAS
103
Figura G.1. Equipo de dorado Electrolítico
Figura G.2. Equipo de dorado Electrolítico

104
Figura G.3. Dorado
Figura G.4. Procedimiento dorado electrolítico

105
Figura G.5. Placa dorada
Figura G.6. Reactivos

106

Damas Sanchez-Garcia Clemente PDF

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UNIVERSIDAD NACIONAL DEL CENTRO DEL PERU

FACULTAD DE INGENIERIA QUIMICA

“INFLUENCIA DEL TIEMPO DE RECUBRIMIENTO,

TEMPERATURA Y DE LA DENSIDAD DE CORRIENTE

ELÉCTRICA EN LA CALIDAD DEL DORADO ELECTROLÍTICO

DE METALES, EN EL LABORATORIO DE ELECTROQUÍMICA

DE LA FACULTAD DE INGENIERÍA QUÍMICA DE LA UNCP”

PARA OPTAR EL TITULO PROFESIONAL DE INGENIERO QUÍMICO

Bach. DAMAS SANCHEZ, Nancy.

Bach. GARCIA CLEMENTE, Rosa Isabel.

A Dios por el don de la vida, a mis padres Lucia y

Con amor incondicional a mis padres Tolomeo y

 A nuestro Asesor MSc. David, Uscamayta Verastegui por su apoyo

La galvanotecnia o galvanostegia es el arte de recubrir por electrólisis un metal con

Estos recubrimientos electrolíticos se realizan en la práctica para aprovechar alguna

Entre estos recubrimientos tenemos al dorado electrolítico, que

El manejo de variables óptimas de trabajo para el dorado electrolítico como

En el presente trabajo de tesis se aplicó el proceso del dorado electrolítico y para el

Se demostró experimentalmente que a mayor tiempo de recubrimiento se deposita

 Evaluar la influencia de los efectos de la variación y determinar

 Evaluar la influencia de los efectos de la variación y determinar

 Evaluar la influencia de los efectos de la variación y determinar

2.1. DEFINICIÓN DE ELECTRODEPOSICIÓN 22

3.1. MATERIALES Y EQUIPOS PARA REALIZAR EL DORADO

4.1. CONDICIONES DE TRABAJO 48

5.1. COMPARACIÓN DE MASAS DEPOSITADAS EXPERIMENTALES Y

Figura 2.1. Elementos de un proceso electrolítico 26

Gráfico 4.1. Comparación de masas experimentales para el Níquel. 52

Tabla 2.1 Particularidades de los recubrimientos electrolíticos más 33

 Se demostró naturalmente que a mayor tiempo de recubrimiento se

 Una densidad de corriente de 122A/m2 nos permite controlar el proceso

 Desde la llegada de los metales para su aplicación en la industria se han

1.2. PLANTEAMIENTO DEL PROBLEMA

1.3. FORMULACIÓN DEL PROBLEMA

Si influye de manera significativa la variación de la corriente eléctrica,

El proceso del recubrimiento electrolítico de oro es un proceso rentable ya que

Por estas razones proponemos realizar un estudio detallado de los

Mediante la realización de este trabajo de tesis se implementará una cuba

2.1. DEFINICIÓN DE ELECTRODEPOSICIÓN

2.1.1. EFECTOS DE LA ELECTRODEPOSICIÓN

La electrodeposición cambia las propiedades químicas, físicas o mecánicas

2.1.2. OBJETIVOS DE LA ELECTRODEPOSICION

Estos recubrimientos electrolíticos se realizan en la práctica para aprovechar

Los objetivos más comunes que se persiguen con el recubrimiento

 Aumentar la resistencia a la corrosión; depositando un material más

2.2. PRINCIPIOS DE ELECTROQUÍMICA

2.3. PRINCIPIOS DE ELECTRICIDAD

2.5. FACTORES QUE INTERVIENEN EN EL PROCESO

2.5.1. DENSIDAD DE CORRIENTE

2.5.4. TIEMPO DE INMERSION

2.6. ELEMENTOS QUE INTERVIENEN EN EL RECUBRIMIENTO

Figura 2.2: Corriente alterna

Figura 2.3: Corriente Continua

2.6.3. CELDAS ELECTROLÍTICAS

Figura 2.4: Celda electrolítica

2.6.4. SISTEMA DE AGITACIÓN

2.7. LEYES ELECTROQUIMICAS: LEYES DE FARADAY

La ley de Faraday constituye el principio fundamental de la electrólisis. Con

2.7.1. SEGUNDA LEY DE FARADAY DE LA ELECTRÓLISIS

Para una determinada cantidad de electricidad (carga eléctrica), la masa de

De acuerdo con esta definición podemos escribir:

m: masa en gramos que se han depositado