PROCEDIMIENTO LIMPIEZA QUÍMICA:

El procedimiento de limpieza química está compuesto por los siguientes pasos:

• Relleno y prueba de fugas.

• Lavado inicial de alta velocidad a baja turbidez. (ver anexo 3)
• Desengrasante.
• Limpieza con ácido.
• Desplazamiento de la solución de limpieza y lavado a baja conductividad.
• Pasivación.
• Sistema de drenaje.
• Inspección.

Antes de comenzar el primer paso, se debe realizar una inspección conjunta de SOLARCA - TSK
para garantizar:

• Conexiones impecables entre el equipo temporal y las diferentes partes a ser limpiado

• Será necesario haber completado el circuito de limpieza provisional, recolección de agua y línea
de vaciado.

• Buena alineación de los diferentes elementos constitutivos de los circuitos (válvulas, etc.) por
parte de TSK.

PRIMER RELLENO Y PRUEBA DE FUGAS

El circuito de limpieza está lleno de agua, el circuito de limpieza se prueba para garantizar la
estanqueidad y la Circulación correcta, Relleno del circuito con corrección de posibles fugas.

Además, se revisará todo el equipo de limpieza auxiliar para garantizar que esté en buen estado de
funcionamiento.

ENJUAGUE INICIAL

El lavado con agua demin en bucle abierto eliminará las partículas sueltas y las sacará de los
circuitos.

El lavado se llevará a cabo utilizando bombas de condensado si TSK lo permite, si no bombas

externas con características similares:
Circuitos:

CALEFACCIÓN

Una vez realizado el lavado de todos los sistemas, el circuito de limpieza química circula en circuito
cerrado y Calienta hasta 60-80ºC. El calentamiento se realizará mediante inyección de vapor de
caldera auxiliar.

DEGREASSING
A lo largo del aumento de temperatura, el circuito se controlará para detectar cualquier fuga y la
siguiente dosificación de la solución desengrasante.

• 0,5% surfactante
• Amoniaco (hasta pH = 9). Durante la limpieza desengrasante, los siguientes parámetros
serán Monitorizado: Temperatura, pH, detección aceite / grasa.

LIMPIEZA DE ACIDOS

Cuando termine el paso de desengrase, no se requerirá suministro de vapor para el calentamiento.

Con el circuito lleno y con una temperatura de trabajo de alrededor de 60ºC se dosificarán los
siguientes productos químicos.

• 1% de ácido HF.
• 0,2% de inhibidor de corrosión.

Durante la limpieza con ácido, se controlarán los siguientes parámetros: Temperatura, pH,% de
ácido, Fe(Total), Fe(3+)], Concentración y eficacia inhibitoria.

La etapa ácida finalizará cuando los parámetros monitoreados permanezcan estables durante tres
análisis consecutivos.

ENJUAGUE Y ENJUAGUE A BAJA CONDUCTIVIDAD

Una vez finalizada la limpieza con ácido, la solución química se enjuagará con agua Demin en
circuito abierto de acuerdo a las siguientes secuencias:

PASIVADO:
Una vez completado el lavado a baja conductividad, el circuito circula en cicuito cerrado.
Amoniaco es dosificado con el fin de elevar el valor de pH a 10-10,5. Con este pH en la solución de
pasivación, se dosificará El peróxido de hidrógeno hasta alcanzar un potencial redox positivo.

Los pasos de pasivado terminan el proceso de limpieza química al crear una capa protectora de
magnetita en la superficie interna de la tubería.

DRENAJE FINAL

Cuando se complete la fase de pasivado, el sistema será drenado mediante la conexión temporal y

Bombas temporales conectadas a la salida del tanque de purga.