Thin Film Characterisation - Using Spectroscopy to Measure and Characterize Thin Films

Thin Film Characterisation ­ Using Spectroscopy
to Measure and Characterize Thin Films
Sponsored by Avantes BV Jan 10 2014

A coating’s optical thickness is determined by white light interference and
mathematical calculations are used to translate the pattern into optical thickness.

In thin film metrology, these mathematical calculations are used to determine the
thickness and presence of the coatings that have been deposited on a substrate material
using a variety of processes.

There are a number of techniques for this measurement range, including ellipsometry,
profilometry, spectroscopic reflectometry and x­ray analysis. Fiber­optic sampling tools
and Avantes instruments enable spectroscopic reflectometry measurements to support
applications in a range of industries from solar to semiconductor and optical coating
measurements. Low cost measurement systems for multi­and single­layer thin films on a
number of substrates are provided by Avantes thin film solutions.

Thin Film Quality Control
Thin film deposition processes require regular monitoring and quality control particularly
as new recipes are implemented and optimized in a coating facility.

Typical applications require regular quality control inspection during the initial phases
requiring a high­speed offline measurement system to validate film thickness.

Avantes thin film solutions enable high­speed spot measurements which can facilitate
thin film presence and thickness validation.

Thin Film Reflectometry
In spectroscopic reflectometry, samples are illuminated with a white light, especially
deuterium halogen and tungsten halogen at an incident angle normal to the sample and
then measuring the reflectance and interference from the same geometry.

Based on the nature of the visible, ultraviolet or infrared coating, wavelength
measurements may be required to obtain the right fitting of the measured curve relative

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to the theoretical reflectance curve.

A database of optical constants n and k are used to develop the theoretical curve. The
refractive index is the n value and the extinction coefficient is the k value. First the
sampling process involves measurement of a reference uncoated substrate followed by
the sample measurement using the same conditions.

Substrate characteristics such as thickness and material are software inputs along with
thin film layer characteristics.

Software algorithms are used to capture and analyze software algorithms that compare
the measured data to theoretical calculated values derived from the database of optical
constants.

The software offers a calculated thickness value along with a measure of goodness of fit
relative to the theoretical curve.

Single­Layer Thin Film Metrology
The single­layer thin film metrology system from Avantes includes its AvaSpec ­
ULS2048­USB2 fiber­optic spectrometer, AvaLight­DHc/AvaLight­DH­S deuterium­
halogen light source or AvaLight­HAL tungsten halogen light source, the FCR­7UV200­2­
ME (optional FCR­7UV400­2­ME for higher throughput) fiber­optic reflection probe and
the Thin Film Stage.

The Avantes’ AvaSoft Thinfilm software drives the single layer system and is a 32 or 64­
bit application which supports single layer measurements of thin films ranging from
10nm­50µm with 1nm resolution.

UV/VIS and NIS wavelength measurements are supported by AvaSoft­ThinFilm from
200­1100nm. The system has an optional thin film standard which provides coated and
uncoated sample substrates for validation purposes. The AvaLight DHc compact
deuterium halogen source us adequate for most specular surface UV measurements but
for more diffuse coated surfaces, the higher power AvaLight­DH­S is recommended.

Multi­Layer Thin Film Metrology
Avantes’ multi­layer thin film metrology system includes the company’s AvaSpec­
ULS2048­USB2 fiber­optic spectrometer, AvaLight­DHc/AvaLight­DH­S deuterium

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halogen light source or AvaLight­HAL tungsten halogen light source, the FCR­7UV200­2­
ME (optional FCR­7UV400­2­ME for higher throughput) fiber­optic reflection probe and
its thin film stage. The TFProbe 2.0 is the software that drives the multi­layer system and
has been developed by Angstrom Sun Technologies and is fully compatible with Avantes
spectrometers.

Up to five layer measurements are supported by this application and several methods are
supported including dispersion, nk constants and effective media approximation (EMA).
TFProbe offers a user­friendly graphical user interface to input layer structure
parameters.

An optional thin­film standard may be included in the system that offers sample coated
and uncoated substrates for validation purposes. TFProbe supports UV/VIS and NIR
wavelengths from 200­1700 nm and enables the connection of multiple spectrometers to
support this broadband wavelength measurement capability.

The AvaLight­DHc compact deuterium halogen source is adequate for most specular
surface UV measurements but for more diffuse coated surfaces, the higher power
AvaLight­DH­S is recommended.

This information has been sourced, reviewed and adapted from materials provided by
Avantes.

For more information on this source, please visit Avantes.

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spectrometers. To meet our customer’s application needs, Avantes continues to develop
and introduce new instruments for fiber optic spectroscopy. Avantes instruments and
accessories are also deployed in a variety of OEM applications and a variety of industries
in markets throughout the world. With more than 18 years of experience in fiber optic
spectroscopy and thousands of instruments in the field, Avantes is eager to help our
customers find their Solutions in Spectroscopy®.

Techniques Supported

UV­VIS/NIR spectroscopy
Process control

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Absorbance/transmittance/reflectance
Laser­induced breakdown spectroscopy
CIE color spectroscopy
Portable spectrometers
Fluorescence spectroscopy
Custom applications
lrradiance
Raman spectroscopy
OEM application development

Major Products/Services

Low­cost. high­resolution, miniature fiber optic spectrometers: System solutions and
OEM instruments for applications from 185 nm to 2500 nm. Detector choices: PDA,
CMOS, CCD, back­thinned CCD, and lnGaAs.

Optical benches with focal lengths of 45, SO or 75 mm; revolutionary new ultra­low
straylight
optimized optical bench (ULS) and a new high sensitivity optical bench.

Other features:

14 and 16 bit AID converters
TE cooling
multi­channel instrument configurations enabling simultaneous signal acquisition
USB2 communication
support for multiple instruments from a single computer
14 programmable digital I/O ports

Standard application solutions:

lrradiance and LED measurements
gemology
hemometric analysis
thin­film measurement
color
fluorescence
laser­induced breakdown spectroscopy (LIBS)
Raman spectroscopy
process control

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Light sources:

Tungsten­halogen
Deuterium
LED
Xenon calibration sources for wavelength and irradiance

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