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V +: entrada no inversora
V -: entrada inversora
V OUT: salida
V S+: alimentacin positiva
V S-: alimentacin negativa
V + = VI+ = I- = 0
Para analizar un circuito en el que haya A.O. puede usarse cualquier mtodo, pero
uno habitual es:
1. Comprobar si tiene realimentacin negativa
2. Si tiene realimentacin negativa se pueden aplicar las reglas del
apartado anterior
3. Definir las corrientes en cada una de las ramas del circuito
4. Aplicar el mtodo de los nodos en todos los nodos del circuito excepto
en los de salida de los amplificadores (porque en principio no se puede
saber la corriente que sale de ellos)
5. Aplicando las reglas del apartado 2 resolver las ecuaciones para
despejar la tensin en los nodos donde no se conozca.
CONFIGURACIONES
Comparador
Seguidor
Inversor
Zin =
Sumador inversor
Restador
Integrador ideal
Convertidores carga-tensin
Convertidores corriente-tensin
Filtros activos
Girador permite construir convertidores de inmitancias (empleando un
condensador simular un inductor, por ejemplo)
APLICACIONES
Calculadoras analgicas
Filtros
Preamplificadores y buffers de audio y video
Reguladores
Conversores
Evitar el efecto de carga
Adaptadores de niveles (por ejemplo CMOS y TTL)
ESTRUCTURA
Aunque es usual presentar al A.O. como una caja negra con caractersticas
ideales es importante entender la forma en que funciona, de esta forma se podr
entender mejor las limitaciones que presenta.
Los diseos varan entre cada fabricante y cada producto, pero todos los A.O.
tienen bsicamente la misma estructura interna, que consiste en tres etapas:
1. Amplificador diferencial: es la etapa de entrada que proporciona una
baja amplificacin del ruido y gran impedancia de entrada. Suelen tener
una salida diferencial.
2. Amplificador de tensin: proporciona una ganancia de tensin.
3. Amplificador de salida: proporciona la capacidad de suministrar la
corriente necesaria, tiene una baja impedancia de salida y, usualmente,
proteccin frente a cortocircuitos.
Ejemplo del 741
PARMETROS
LIMITACIONES
Saturacin
Un A.O.L tpico no puede suministrar ms de la tensin a la que se alimenta,
normalmente algunos voltios menos. Cuando se da este valor se dice que satura,
pues ya no est amplificando. La saturacin puede ser aprovechada por ejemplo
en circuitos comparadores.
Un concepto asociado a ste es el Slew rate(analisis bsico de bajo flujo recoltor).
Tensin de offset
Es la diferencia de tensin que se obtiene entre los dos pines de entrada cuando
la tensin de salida es nula, este votltaje es cero en un amplificador ideal lo cual
no se obtiene en un amplificador real. Esta tensin puede ajustarse a cero por
medio del uso de las entradas de offset (solo en algunos modelos de
operacionales) en caso de querer precisin. El offset puede variar dependiendo de
la
temperatura
(T)
del
operacional
como
sigue:
Corrientes
Aqu hay dos tipos de corrientes que considerar y que los fabricantes suelen
proporcionar:
IOFFSET = | I
Capacidades
El A.O. presenta capacidades (capacitancias) parsitas, las cuales producen una
disminucin de la ganancia conforme se aumenta la frecuencia.
Deriva trmica
Debido a que una unin semiconductora vara su comportamiento con la
temperatura, los A.O. tambin cambian sus caractersticas, en este caso hay que
diferenciar el tipo de transistor en el que est basado, as las corrientes anteriores
variarn de forma diferente con la temperatura si son bipolares o JFET.
Espejo de corriente
IC1 = 0IB1
Donde 0 es la ganancia de intensidad de
idealmente idnticos, la de Q2 ser:
Q1.
Si Q1
y Q2 son
Si 0 >
entonces:
>
1,
REGLAS DE DISEO
INTRODUCCIN
La MICROELECTRNICA se puede definir como el conjunto de ciencias y
tcnicas con las que se realizan y fabrican circuitos electrnicos sobre una
pastilla de un semiconductor, lo cual formar un circuito integrado (CI). Dentro de
estos circuitos integrados, podemos encontrar diferentes estrategias de diseo,
como pueden ser los circuitos integrados en los que se deben construir tanto las
puertas como las conexiones, denominados habitualmente ASICs (Application
Specific Integrated Circuits), circuitos programables en los que se encuentran ya
construidos todas las puertas y conexiones de tal forma que nicamente hay que
indicar cuales estn habilitadas mediante una programacin, denominados
dispositivos programables (un ejemplo de los cuales pueden ser las FPGAs,
(Field Programmbled Gate Arrays).
La divisin existente en los circuitos electrnicos tambin es vlida para la
Microelectrnica, es decir, podemos diferenciar entre Microelectrnica Analgica
y Digital, segn la naturaleza de las seales tratadas. No obstante, el auge de la
Microelectrnica surgi gracias a una propiedad de los sistemas digitales: la
jerarqua.
La propiedad de jerarqua es aquella por la cual un sistema puede estar
compuesto de bloques conectados entre s, de tal forma que dichos bloques son
independientes entre s y de su conexin.
A pesar de que un circuito analgico tambin puede ser construido por una serie
de bloques conectados entre s; estos bloques no sern independientes de su
conexin (e incluso su situacin en la base del semiconductor) debido a la
naturaleza real de las seales analgicas (pueden tener un rango infinito de
valores). En cambio, el carcter digital de las seales de los sistemas digitales
provee dicha independencia y as la posibilidad de desarrollar un sistema
completamente jerrquico. A modo de ejemplo, podemos ver en la figura 1.15
dos ASICs: el caso (a) sera un diseo analgico; y el caso (b) sera un diseo
digital. En el caso analgico podemos ver unas estructuras formadas por los
mismos bloques dispuestas de una manera especial (parecida a una
circunferencia). Bien, esta disposicin no es aleatoria sino que debe ser as para
garantizar el mismo comportamiento en todos los bloques. En cambio, en el
circuito digital podemos apreciar bloques comunes, cuya disposicin obedece
nicamente a con- tribuir a que el sistema completo sea lo ms compacto
posible.
(a)
(b)
encargada de obtener el circuito fsico) para que lleve a cabo todos los procesos
de integracin. La correccin del layout se debe llevar a cabo en un doble
sentido:
PROCESOS DE DISEO
La fabricacin de un circuito integrado consiste de una serie de pasos en un
orden especfico. El material base de los circuitos integrados es una oblea o disco
de semiconductor.
La tecnologa ms desarrollada es la basada en silicio (Si), aunque tambin
existen tecnologas a base de otros semiconductores como arseniuro de galio
(GaAs) o germanio y silicio (SiGe). No obstante, todas las tecnologas siguen
unos pasos similares. El semiconductor no est en equilibrio elctricamente, sino
que unas cantidades controladas de impurezas son aadidas para dotar al cristal
de las propiedades elctricas requeridas. Dichas impurezas pueden ser
donadores (cargados elctricamente con signo negativo), que se corresponden al
tipo n; o aceptoras (cargadas elctricamente con signo positivo), que
corresponden al tipo p. En funcin del tipo de estas impurezas podemos
encontrarnos con diferentes tipos de procesos:
Procesos de well gemelos (el cual se est extendiendo cada vez ms) en el
que el signo del dopado de la oblea no tiene demasiada importancia ya que se
van a generar los dos tipos de well (n-well y p-well).
Como los tres tipos de procesos son similares, nos vamos a centrar en uno de
ellos, en particular en el proceso de n-well. Dicho proceso se muestra en la figura
1.17, ms concretamente la oblea sera el paso (a).
La primera mscara define el n-well (figura 1.17b). Esta zona, el n-well, es el
lugar en el que se van a implementar los transistores PMOS. En esta etapa
tambin se depositan capas de xido grueso (denominado de campo), SiO2,
para separar cada una de las regiones (figura 1.17c).
La siguiente capa que se deposita es la llamada xido de puerta (o fino), la cual
se obtendr por el crecimiento de las zonas de xido de campo (figura 1.17d).
Dicha capa constituir con el polisilicio el terminal de puerta de los transistores.
Una vez que se ha depositado el xido de puerta, se coloca el polisilicio (figura
1.17e) y se despeja el resto de xido de puerta para permitir la creacin de los
terminales de fuente y drenador (figura 1.17f).
El siguiente paso es difundir los terminales de fuente y drenador de los
transistores NMOS (figura 1.17g), y seguidamente los terminales
correspondientes a los transistores PMOS (figura 1.17h). Tambin se crean los
contactos con las zonas de polarizacin: regiones n+ sobre el n-well, y regiones
Figura 1.17. Pasos del proceso de fabricacin de un circuito CMOS con el proceso de nwell.
Para la segunda (y restantes capas) capa de metal (figura 1.17j) se coloca una
nueva capa de xido de campo por todo el CI excepto en los lugares donde
exista un contacto entre la capa actual y la anterior. Despus se deposita la capa
de metal en los lugares correspondientes. Cabe destacar que el material de
todas las capas de metal existentes, en la tecnologa utilizada, es el mismo, es
decir, aluminio (o cobre).
En todos estos pasos podemos distinguir dos tipos de acciones: crear zonas de
difusin y de well, que alterar la composicin interna de la oblea; y la deposicin
de material sobre la oblea. La primera accin se puede conseguir a travs de dos
proceso diferentes: difusin e implantacin inica.
r307 = 3
*
* Poly 2
*
r311 = 2
r312 = 2
*
* Contact
r401 = 2
r402 = 4
r403 = 1
r404 = 1
r405 = 1
r406 = 2
r407 = 1
*
* metal
r501 = 3
r502 = 4
r510 = 16
* via
r601 = 2
r602 = 4
r604 = 1
r605 = 1
* metal 2
r701 = 3
r702 = 4
r710 = 16
(poly2 width)
(poly2 spacing)
(contact width)
(contact spacing)
(metal border for contact)
(poly border for contact)
(diff border for contact)
(contact to gate)
(poly2 border for contact)
(metal width)
(metal spacing)
(minimum surface)
(Via width)
(Spacing)
(border of metal)
(border of metal2)
(Metal 2 width)
(minimum surface)
Algoritmos
Procesador
G
U/D
L
CNT
Diagrama ASM
R
G
Ecuaciones lgicas
y ecuaciones de estado
Controlador
R
G
D0
REG
Q
Dn
DQ
DQ
Q0
Ecuaciones elctricas
Qn
Con estos layout se har una planificacin del espacio para poder
determinar el lugar en el que se colocarn las diferentes celdas.