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ING. INDUSTRIAL
METALURGIA EN GENERAL
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METALURGIA EN GENERAL
Defectos puntuales.-
En 1896 Robert Austen observ que el plomo difunde en el oro a 300 C a una velocidad
superior a la que el NaCl difunde en agua a temperatura ambiente. Necesariamente, deba haber
huecos que aceptaran los tomos de Pb, ya que la Eact. para mover un tomo es muy alta (PF Pb
327 C).
Los defectos puntuales son alteraciones o discontinuidades de la red cristalina con respecto a la
ideal, provocadas por uno o varios tomos. Se originan por el movimiento de tomos durante el
calentamiento o procesado del material, introduccin de impurezas o por aleacin. (Una aleacin
es una mezcla slida homognea de dos o ms metales, o de uno o ms metales con algunos
elementos no metlicos)
Estos defectos distorsionan la red a lo largo de cientos de tomos. Una dislocacin que se
propaga por el material ordenado encontrar cerca del defecto puntual una regin estructural
desordenada. Para continuar su movimiento y vencer al defecto, la dislocacin necesita un
esfuerzo mayor. Se incrementa por tanto la resistencia mecnica del material.
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Estas interrupciones localizadas en arreglos atmicos o inicos no permiten que dichos tomos
tengan una estructura cristalina perfecta. As las impurezas son elementos o compuestos
presentes en las materias primas o en el procesamiento.
Los defectos puntuales se pueden introducir por el movimiento de los tomos o iones al
aumentar la energa por calentamiento, durante el procesamiento del material, por introduccin
de impurezas o por dopado. Los dopantes son elementos o compuestos que se agregan en forma
deliberada y en cantidades conocidas en lugares especficos de una microestructura, buscando un
efecto benfico en las propiedades de dicho material.
Se subdividen en:
1. Vacancia: Se produce cuando falta un tomo o in en su sitio normal en la red cristalina.
Esta se origina durante la solidificacin a alta temperatura o como consecuencia de los
daos provocados por la radiacin (intencional). En la ausencia de un tomo aumenta el
desorden normal o entropa del material, lo cual aumenta la estabilidad termodinmica
de un material cristalino. Todos los materiales cristalinos tienen defectos de vacancia.
El sintetizado es un proceso mediante el cual se forma una masa densa calentando
materiales pulverizados compactados. Con este proceso se fabrican los capacitores, y se
asume como un tratamiento trmico. Existe una relacin entre la temperatura y la
concentracin de vacancia, este comportamiento de Arrhenius, obedece a que la
concentracin de vacancias a temperatura ambiente es pequea. Al aumentar la
temperatura, aumenta en forma exponencial dicha cantidad, con la siguiente relacin.
Q
N v =N KT
Donde Nv es el nmero de vacantes por metro cbico
N es el nmero de puntos en la red por metro cbico
Q es la energa requerida para producir una vacancia (J/tomo)
T es la temperatura en K
K es la constante de Boltzmann de los gases (1.38 x 10-23J/tomoK) 8.62 x 105eV/tomoK
Son las imperfecciones ms comunes en los cristales. Se dan hasta una por cada 10000
tomos.
Las vacantes de no equilibrio tienen tendencia a agruparse formando clusters, que
forman divacantes o trivacantes.
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VACANTE
2. Defecto Intersticial: Se forma cuando se inserta un tomo o in adicional en la
estructura cristalina en una posicin normalmente desocupada.
Generalmente este tipo de defecto introduce relativamente grandes distorsiones en los
alrededores puesto que normalmente el tomo es sustancialmente ms grande que la
posicin intersticial en la que se sita. Consecuentemente la formacin de este defecto
no es muy probable. Se pueden introducir en una estructura por radiacin.
DEFECTO INTERSTICIAL
3. Defecto Sustitucional: Tambin se los denomina como impurezas en el material.
Cuando un tomo es sustituido con un tipo distinto de tomo o in, los tomos
sustitucionales ocupan el sitio normal en la red. Pueden ser mayores que los tomos o
iones normales en la estructura cristalina, en cuyo caso se reducen los espacios
interatmicos vecinos, o pueden ser menores, lo cual causar que los tomos vecinos
tengan distancias interatmicas mayores. Si el defecto sustitucional es mayor que los
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DEFECTO DE SUSTITUCIN
4. Defecto de Frenkel.- Es una imperfeccin combinada Vacancia Defecto intersticial.
Ocurre cuando un ion salta de un punto normal dentro de la red a un sitio intersticial
dejando entonces una vacancia.
DEFECTO FRENKEL
Para calcular el nmero defectos de Frenkel por metro cbico se emplea:
DEFECTO SCHOTTKY
Para calcular el nmero defectos de Schottky por metro cbico se emplea:
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