eletrodeposio do cobre

Enviado por rmj1986

20/01/2014

514 Palavras
PGINA
1
DE 3

UNIVERSIDADE FEDERAL RURAL DO RIO DE JANEIRO

INSTITUTO DE CINCIAS EXATAS
DEPARTAMENTO DE QUMICA
IC- 396 FSICO QUMICA EXPERIMENTAL
PROF: ANTNIO LUCIANO BAIA NETO

RELATRIO 6
ELETRODEPOSIO DO
COBRE

Renata Moreira Jorge - 200764020-1

Introduo
Leis de Faraday
Michael Faraday estabeleceu algumas relaes quantitativas conhecidas como leis
de Faraday para a eletrlise.
1. A quantidade de substncia produzida pela eletrlise proporcional
quantidade de eletricidade utilizada
2. Para uma dada quantidade de eletricidade a quantidade de substncia
produzida proporcional sua massa equivalente.
Eletrlise o processo no qual uma reao termodinamicamente no espontnea
(G>0), forada a ocorrer pelo fornecimento de energia de uma fonte externa.
Essas reaes frequentemente resultam na decomposio de um composto para
formar os seus elementos. Aplica-se uma tenso a um par de eletrodos inertes
imersos em uma soluo. A eletrlise s acontece se a tenso aplicada exceder a
tenso da pilha, originria da reaoespontnea, e, esta tenso chamada de
potencial de decomposio da soluo.
1 F = 1 mol de e- 96500 C
1 A = 1 C/seg
O emprego de banhos eletroqumicos a base de cobre em meio alcalino de
grande importncia na indstria galvnica1. A principal aplicao de revestimentos
alcalinos de cobre, atuar como pr-camada para revestimentos posteriores de
nquel e/ou cromo sobre substratos ferrosos, onde a aplicao direta de processos
galvnicos com baixo valor de pH no possvel. Banhos de cobre alcalinos a
base de complexantes orgnicos contendo cianetos tem sido empregado h
muitos anos, devido s timas propriedades qumicas e morfolgicas dos
depsitos obtidos. Entretanto, devido a sua elevada toxidade e a novas legislaes
ambientais, h esforos na tentativa de substituir estes processos alcalinos
cianetados2. Este trabalho caracteriza um banho alcalino de cobre contendo EDTA
e Citrato de Sdio (CTS) como complexantes para o cobre em banho galvnico.

Clculos
2 Cu+2 (aq) + 4 e- 2 Cu0 (catodo - reduo)
2 H2O-2 O2 (g) + 4 H+ (anodo - oxidao)
_______________________________________
2 Cu+2 (aq) + 2 H2O-2 2 Cu0 + O2 (g) + 4 H+(Eq.Geral)

mplaca antes = 3,70 g

mplaca depois = 4,12 g
mCu = 0,42 g
EquimicoCu = mol = 63,5 = 31,75
22
m=E.I.t
F
0,42g = E . 0,5 A . 2400 s
96500 A

E = 33,77 g/mol
Erro = Em - Er = 0,0637
Er

Procedimento
Limpar a placa de cobre usando HCl, em seguida lavar com gua destilada e
passar palha de ao para deixar a placa bem limpa tornar a lavar. Pesar a placa
em balana analtica e anotar o resultado.
Colocar a placa como catodo na clula eletroltica e montar o circuito eltrico na
seguinte ordem: fonte, chave, ampermetro, reostato e clula. No becher adicionar
a soluo de oettel para que os eletrodos fiquem submersos. Calibrar a corrente
em 0,5 A atravs do reostato. Ligar a chave e cronometrar a passagem de corrente
durante 40 minutos. Desligar a chave e pesar novamente o catodo e anotar o
resultado.