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NDICE
I.
II.
INTRODUCCIN...p.3
MARCO TERICO....p.4
1.
Concepto de unidades de fotopolimerizacin...p.4
2.
Clasificacin de las lmparas de fotopolimerizacin ..p.9
3.
Tcnicas de fotocurado.......p.19
4.
Factores dependientes de la unidad de fotoactivacin, que
influyen en la polimerizacin de los materiales...........................p.21
5.
Anexos.......p.23
III.
IV.
RESUMEN....p.25
BIBLIOGRAFA...p.26
UNIDADES DE FOTOPOLIMERIZACIN
INTRODUCCIN.
UNIDADES DE FOTOPOLIMERIZACIN
MARCO TERICO.
UNIDADES DE FOTOPOLIMERIZACIN
UNIDADES DE FOTOPOLIMERIZACIN
Dependiendo el tipo de fuente lumnica y el estado en que sta se encuentre, varan las
intensidades en que se emite la luz, por consiguiente influenciarn en el grado y calidad de
polimerizacin.
Una bombilla debilitada no efectuar una correcta polimerizacin del material, entre otras
variables.
2. Filtro ptico.
Dispositivo que se encuentra entre la fuente de luz y el conductor de luz. Su funcin principal
es eliminar la energa luminosa con longitudes de ondas innecesarias para la
fotopolimerizacin del material y aquellas perjudiciales, emitiendo as longitudes de ondas
especficas.
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Fig.4: Diferentes
(Demetron).
guas
de
luz
El dimetro del punto de salida de la punta activa de la lmpara debe ser coincidente con el tamao
de la cavidad, ya que si es muy estrecha, como en las lmparas de lser y plasma, requieren que el
clnico superponga ciclos de curado. En el caso de que ste sea fijo, el profesional puede modificarlo
alejando la lmpara del sitio de polimerizacin, teniendo presenta la alteracin en la intensidad y
penetracin de la luz por efectos de la distancia entre la lmpara y la restauracin, requiriendo mayor
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5. Radimetro.
Aparato diseado para medir la intensidad de la luz que emerge de la punta de la gua de luz en la
lmpara de fotocurado. Es un fotmetro calibrado en unidades radiomtricas (mW/cm2), que
entrega rpidamente la informacin de la cantidad de electricidad que atraviesa el conductor en
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a) SEGN FUENTE
LUMNICA.
Halgena
Arco de plasma
Lser
LED
b) SEGN EL RGIMMEN,
MODO O PATRN DE
FUNCIONAMIENTO.
Continuo
Creciente progresivo
Creciente escalonado
Intermitente, parpadeante, discontinuo
Combinacin de las anteriores
c) SEGN MORFOLOGA
EXTERIOR.
d) SEGN INTENSIDAD O
POTENCIA.
Baja intensidad
Alta intensidad
Muy alta intensidad
e) SEGN LONGITUD DE
ONDA.
Espectro ultravioleta.
Espectro visible y banda ancha.
Espectro visible y banda estrecha o
especfica.
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Ventajas
Tecnologa de bajo costo
Desventajas
Baja eficiencia (luz emitida es un 1% de
la energa consumida)
Vida corta de servicio (50-100 horas
clnicas)
Altas temperaturas (enfriadas por
ventilador)
El espectro continuo debe ser reducido
por sistema de filtros
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Ventajas
Tiempos de fotopolimerizacin ms
cortos por alta potencia (app. 2000
mW/cm2)
Desventajas
Elevado costo de adquisicin y
manutencin
Desarrollo de altas temperaturas y altas
tensiones de contraccin
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Ventajas
Tiempos de fotopolimerizacin ms
cortos
No necesita sistema de filtros
Tabla 5. Ventajas y desventajas de lmparas lser.
Desventajas
Elevado costo de adquisicin
manutencin
Desarrollo de altas temperaturas
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Baja eficiencia
Vida corta de servicio
Altas temperaturas
El espectro continuo debe
ser reducido por sistema
de filtros
Dentro de las desventajas que se le atribuyen a las lmparas LED, se pueden mencionar:
Estrecho rango de espectro de longitud de onda :
Lo que reduce las posibilidades de fotopolimerizar otros componentes fotosensibles distintos
de canforquinona contenidos tanto en resinas compuestas y otros materiales
fotopolimerizables.
Hoy en da se conocen elementos fotoiniciadores blanquecinos tales como fenilpropanodiona
(PPD) y Lucerin contenidos en algunos materiales como adhesivos y composites Bleach que
estn diseados para realizar restauraciones ms blancos.
PPD espectro de absorcin: 380- 430 nm (peak 410nm)
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Segn generaciones
1 GENERACIN
Corresponden a lmparas LED de baja intensidad que emiten luz azul usando como material principal
carbide siliconado. Estas lmparas poseen un poder de intensidad que va de 50 a 300 mW/cm2
A consecuencia de lo anteriormente mencionado estas lmparas implican un aumento en el tiempo de
exposicin
Actualmente estn fuera del mercado, ya que fueron reemplazadas por las de 2 y 3 generacin.
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Valo(Ultradent)
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PRODUCTO
Bluephase
ESPECTRO
INALAMBRICA RADIOMETRO
PESO
BATERIA
DE
INCLUIDO
(GRAMOS EXTRA
LONGITUD
)
DE ONDA
(nm)
270 g
SI (Litio) 430-490
Elipar
Freelight 2
221 g
NO
430-480
Smartlite iQ
227 g
NO
430-475
LE Demetron
1
366 g
SI
450-470
Radii
Allegro
Ultralume 5
X
X
153 g
340 g
340 g
NO
NO
NO
440-480
415-490
375-500
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3. TCNICAS DE FOTOCURADO
Para minimizar el estrs de contraccin al inicio de la polimerizacin, cuando ste es mayor,
permitiendo as una mayor fluidez de las resinas compuestas reordenndose en un polmero ms
lineal.
A. SOFT START
Tcnica que entrega una mayor cantidad de tiempo para la reordenacin de los monmeros
extendiendo la fase pre-gel que permite que la mxima conversin posible ocurra despus de que el
estrs de contraccin se haya logrado reducir; esto implica que la tcnica de fotocurado comienza con
una baja intensidad, terminando en una alta intensidad, donde algunas lmparas vienen codificadas
automticamente para ir incrementando la intensidad a travs de secuencias que comienzan con la
produccin de 100mW/cm2 por 10 segundos seguidos de un incremento hasta los 600mW/cm2 por 30
segundos (3).
Esta tcnica se subdivide en:
a.1) Ramped
a.2) Stepped
a.3)Pulse-Delay
Fig.10: Subdivisin de la
tcnica Soft Start. (9)
a.1)Ramped:
La intensidad va en aumento gradual, es decir de forma exponencial con respecto al tiempo. Ahora
bien, el incremento de la intensidad puede estar codificado automticamente en la lmpara o bien se
puede realizar de forma manual, acercando la lmpara al diente cada 30 segundos. Cabe destacar
que no se compromete la profundidad de curado y se busca el alargue de la etapa pre-gel para reducir
al mximo el estrs de contraccin disipndolo.
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Ramped
Staged
Pulse delay
B. HIGH INTENSITY
Concepto ntimamente asociado a las lmparas de arco de plasma y laser de argn, donde la
exposicin inmediata del material fotopolimerizable a una alta intensidad, reduce significativamente el
tiempo de exposicin de fotocurado frente a un rango de profundidad de curado especfico para poder
establecer una comparacin con respecto a otros tipos de lmparas que contengan esta capacidad.
Por ejemplo un material fotopolimerizable con una profundidad de 2 mm demorar 2 segundos en
fotocurar con una lmpara de arco de plasma, 5 segundos con una lmpara de laser de argn y 40
segundos con una lmpara halgena (3). Si bien disminuyen el tiempo de trabajo, cortos tiempos de
exposicin implican una aceleracin en el proceso de curado y un tiempo insuficiente para relajar el
estrs de contraccin. Adems se presenta una mayor citotoxicidad en casos donde se utiliza una alta
intensidad para cortos tiempos de fotocurado, en lugar de utilizar intensidades bajas y tiempos ms
largos de fotocurado.
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A modo de conclusin se establece que a mayor intensidad y mayor tiempo de exposicin habr
mayor modulo de flexin y de resistencia a la flexin ( Mpa); esto ltimo estrechamente relacionado
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20%
0%
0,5mm
1mm
3mm
d. Longitud de Onda: Trmino estrechamente relacionado con las sustancias foto iniciadoras
incorporadas en el material restaurador, que desencadenan el proceso de fotopolimerizacin
tras la absorcin de cierta longitud de onda.
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5. ANEXOS
-Importancia de la proteccin de los ojos:
Un aspecto a tener en cuenta, es que la radiacin generada por estos dispositivos, como tambin el
reflejo sobre las superficies irradiadas, provocan alteraciones oculares que pueden ser irreversibles.
Existen a su vez, algunas enfermedades generales (porfirias, lupus) o frmacos, que pueden generar
fotosensibilidad (11).
El odontlogo, personal auxiliar y el mismo paciente deben ser protegidos, por lo tanto, con barreras
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