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SEP

SEIT

DGIT

CENTRO NACIONAL DE INVESTIGACIN


Y DESARROLLO TECNOLGICO.

METODOLOGA PARA CARACTERIZACIN


Y
CALIBRACI~N DE
MATERIALES
FOTOELSTICOSY

PARA

OBTENER

EL

GRADO

DE:

MAESTRO EN CIENCIAS
EN

INGENIERA

MECNICA

Q U E
P R E S E N T A :
ING. JUAN ANTONIO REVELES LPEZ.

CUERNAVACA, MORELOS.

AGOSTO 1997.

~D ~ f

SISTEMA NACIONAL DE INSTITUTOS TECNOLOGICOS

Centro Nacional de Investigacin y Desarrollo Tecnolgico


ACADEMIA DE LA MAESTFA EN CIENCIAS EN INGENIERiA MECANICA
Cuernavaca, Mor., a 13 de agosto de 1997.

Dr. Juan Manuel Ricao Castillo


Director del CENIDET
Presente
Att n: Dr. Octavio R. Salazar San Andrs
Jefe del Departamento de Ing. Mecnica.

Por este conducto, hacemos de su conociinicnto que. despus de hahei sometido a revisin
el trabajo de tesis titulado:
METODOLOGIA PARA C A R A C T E R I Z A C I ~ NY C A L I B R A C I ~ N
DE MATERIALES
FOTOELSTICOS~.

Desarrollado por el Ing. J u a n Antonio Reveles L6pez y habiendo cumplido con todas las
correcciones que se le indicaron, estamos de acuerdo en que sc le conceda la autorizacin
de impresin de la tesis y la fecha de examen de grado.

Sin otro particular, quedamos de usted

Atentamente
C o m i s i h Revisora

C,T-.~

+J~. :~~

]-y.
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-:---

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lilg. Alfred0 Olivares Ponce.

E&&T-.

E.4.

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M.C. Martin E. Baltazai Lpez

cenidet /

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U.O. I.

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1 &Wfi!dOLLO ~ ~ ~ O L ~ I M.C,.
( 0 Jorge&I A(4uC~1!:

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Interior Internado Palmira S/N C.P. 62490


Apartado Postal 5-164, C.P. 62050. Cuernavaca Mor., Msico
Tels. (52 73) 12-76-13 y(S2-73) 14-06-37, Fax. (52 73) 12-24-34.
E-Mail: cenidet2~In~oosel.net.111r

S IW

SISTEMA NACIONAL DE INSTITUTOS TECNOLOGICOS

Centro Nacional de Investigacin y Desarrollo Tecnolgico


Cuernavaca. Mor ,a 13 de agosto de 1997.

Ing. J u a n Antonio Reveles Lpez


Candidato al Grado d e Maestro
en Ciencias en Ingeniera Mecnica.
PRESENTE
Despus de haber sometido a revisin su trabajo de tesis titulada:
METODOLOGIA PARA C A R A C T E R I Z A C I ~ NY C A L I B R A C I ~ NDE MATERIALES

FOTOELASTICOS

".

Y habiendo cumplido con todas las indicaciones que el tirado revisor de tesis hizo. se le
comunica que se le concede la autorizacin pnrn que w Ipi'oceda a la imprcsiii dc la misma
como requisito para la oiiteiicih del grado.
Sin otro particular, quedo de usted.

Atentamente

Jefe del departamento3e Ing. Mecnica


Seccin Diseo
C.C.P.

Servicios Escolares
Expediente

cenidet/

Iiiterior Internado Pnlniira S/N C.P. 62490.


AIxirltido P. 5-1 64 Cueriiavaca. Mor.. MCvico
Tels.: 17.31 18-77-11: 12-23-14: 12.76-13. F a x : 12-24-31

i.tii0070~!rtii.iiifutec.coiiacp1.iiis

Dedicatorias

Con todo mi amor para las personas


ms importantes de mi vida
Mi hijo Fer
Y
Mi esposa Silvia

Con amor, admiracin y respeto para mis padres


Carmen Lpez M.
Longinos Reveles S.

Con mucho cario para mis hermanos


Carlos, Chayo, Loren, Longis,
Ariuro, Enrique y Carmen.

Agradecimientos

A Dios por llenarme de bendiciones y ayudarme siempre para alcanzar esta


meta.
A mis asesores M.C. Martn E. Baltazar L. e Ing. Alfredo Olivares P. por
brindarme se valioso tiempo y su gran experiencia.
A mis revisores Dr. Octavio Salazar S. y M.C. Jorge Colin O. por sus acertadas
recomendaciones para mejorar este trabajo.
A mis compadres Miguel y Amrica por su amistad, compaa y sobre todo por
su cario por Fer.
A Lucio y Lupita por su amistad, compaa y todo su apoyo.
A Eladio por su valiosa ayuda en la toma de las fotografas.
A amigos y compaeros de generacin Alberto, Alfredo, Oscar, Jaime, Jess,
Ulises, Margarita, Hiram, Felipe, Mayolo, Cruz, Arturo, Manuel U.
A Karla, Isabel, Paula, Jorge, Enrique, Leonel, Ivonne, Pancho, Manuel P.,
Rafa, Claudia, Andrea, Andrs , Amado, Xchitl por su amistad y apoyo.
A todos quellos que aqu en Cuernavaca o all en Delicias se acordaron de
nosotros.

AI Ing. Jimnez por su ayuda para el desarrollo de la tesis.


En general a todo el personal docente, administrativo y de servicios generales
por su disponibilidad a ayudar a los alumnos.
AI Centro Nacional de Investigacin y Desarrollo Tecnolgico (cenidet) por su
apoyo a la formacin de investigadores.
A la Secretara de Educacin Pblica (sep) y al Consejo Nacional de Ciencia y
Tecnologia (conacyt) por el apoyo econmico concedido.

A todos muchas gracias.

Tabla de Contenido
Pag.
Lista de figuras .................................................................................................

Lista de fotografas ..........................................................................................

ii

Lista de tablas .................................................................................................

ii

.,

lntroduccion ...................................................................................................

Captulo 1. Propiedades ideales de un material


fotoelstico

1.I
.Caractersticas ideales de un material fotoelstico ....................................

12Referencias ................................................................................................

16

Captulo 2. Metodologa para caracterizacin y calibracin


de materiales fotoelsticos
2.1 . Consideraciones para caracterizacin fotoelstica ...................................

17

2.2. Pruebas para caracterizacin fotoelstica ................................................

18

2.2.1. Determinacin del mdulo de Young y la relacin de Poisson .......... 18

2.2.2. Determinacin de linealidad ...........................

;...................................

23

2.2.3. Fluencia ..............................................................................................

24

2.2.4. Isotropa y homogeneidad ..................................................................

24

2.3. Calibracin fotoelastica .............................................................................

25

2.3.1.Calibracin usando la prueba a tensin simple ..................................

25

2.5 Especificaciones ASTM ............................................................................

29

2.3.2.Calibracin empleando la prueba a compresin diametral ................ 26


2.4.Marco de carga ...................................................................... .................. 28
2.6 Referencias ...............................................................................................

30

Captulo 3 . Desarrollo de la caracterizacin de materiales


fotoelsticos

.. de materiales ...........................................................................
3.1.Seleccion

31

3.2.Elaboracin de placas de material fotoelstico ........................................

32

3.2.2.
Vaciados de resina epxica ...............................................................

35

3.2.1.Vaciados de resina polister ..............................................................


3.2.3.Vaciados de poliuretano ....................................................................

.. de modelos
3.3.Elaboracion

........................................................................

3.4.Descripcin de las pruebas desarrolladas .......................................

34
35
36

1....... 38

3.4.1.Prueba para obtener el mdulo de Young ........................................

39

3.4.3.Determinacin del efecto de fluencia .................................................

43

3.4.5.Determinacin del lmite de proporcionalidad ....................................

48

3.4.2.Determinacin de la relacin de Poisson ...........................................


3.4.4.Obtencin del valor de franja o coeficiente ptico .............................

3.4.6.
Transparencia, efecto de borde con el tiempo ...................................
3.5.Referencias ..................................................... I ..........................................

41

45
50

51

Captulo 4. Anlisis de resultados y conclusiones

4.1. Resultados de la caracterizacin de las resina epxicas

PZA y GY6010 ..........................................................................................

52

4.2.Propiedades de materiales afines ..............................................................

53

4.3.Comparacin de propiedades ...................................................................

54

4.4. Conclusiones ............................................................................

54

,,,,,,,,,

,,11111

4.5. Sugerencias para trabajos futuros ............................................................

56

.:.......................................................................

57

A. Instrumentacin ...............................................................................

58

4.6 Referencias .......................

Apndices

B. Grficas repreceilfafivag de pruebas pail

obtener

el mdulo de Young y el lmite de proporcionalidad .........................

60

.,
la relacion de Poisson .....................................................................

67

C. Grficas representativas de pruebas para obtener

D. Grficas representativas de pruebas para determinar

el efecto de fluencia .........................................................................


..
E. Fotografas originales .....................................................................

71

Bibliografa general .......................................................................................

82

76

Lista de figuras

Pg

2.1. Probeta tipo hueso a tensin simple .........................................................

18

2.2. Dimensiones de probeta tipo hueso ........................................................

19

2.3. Anillo a compresin diametral ..................................................................

21

2.4. Disco a compresin diametral ...................................................................

23

2.5. Disco sometido a compresin diametral ...................................................

27

2.6. Marco de carga .........................................................................................

28

2.7. Barra del marco de carga ..........................................................................

28

3.1. Grfica de una porcin del intervalo lineal de la curva


esf.-def. resina PZA,probeta tipo hueso, carga 1200 N .........................

40

3.2. Grfica de una porcin del intervalo lineal de la curva


esf.-def. resina GY6010, probeta tipo hueso, carga 800 N ...................
3.3. Probeta tipo hueso instrumentada ............................................................

40
41

3.4. Curvas representativas de las pruebas a tensin en las


probetas tipo hueso instrumentadas .........................................................

42

3.5. Grfica de def . axial y transversal en una resina PiA,


prueba de fluencia,duracin 2 hrs., carga 250 N .......................................

44

3.6. Grfica de def . axial y transversal en una resina GY6010,


prueba de fluencia, duracin 2 hrs., carga 250 N ......................................

44

3.7. Grfica P-Ord. para obtener la pendiente de la recta


obtenida en una prueba para calibracin en una resina PZA ................... 46
3.8. Grfica P-Ord. para obtener la pendiente de la recta

obtenida en una prueba para calibracin en una resina GY6010 ............. 47


3.9. Grfica fuerza-extensin obtenida de una prueba hasta la
ruptura de una probeta tipo hueso de resina PZA ....................................

49

3.1O . Grfica fuerza-extensin obtenida de una prueba hasta la


ruptura de una probeta tipo hueso de resina GY6010 ............................

49

Lista de fotografas

Pg

3.1. Corte de una placa de material fotoelstico con arco segueta ...........__.....
36

.,
3.2.Elaboracion de un modelo ..........................................................................

37

de Vishay ...................................................................................................

38

3.4. Probeta a tensin en la mquina universal ...............................................

40

3.5. Probeta tipo hueso instrumentada .............................................................

41

3.3. Probetas tipo hueso conectadas al equipo sistema 4000

3.6. Marco de carga, polariscopio y disco de material fotoelstico ................._46


3.7. Patrones de franjas isocromticas obtenidas durante
una prueba de calibracin en un disco de resina epxica PZA ................ 47

Lista de tablas
3.1.a Datos de pruebas a tensin en resina PZA .............................................

3.1.b Datos de pruebas a tensin en resina resina GY6010 ............................

Pg
39

39

3.2. Valores de mdulo de Young, valor promedio


y desviacin estndar ...............................................................................

41

3.3. Valores de relacin de Poisson de las resinas epxicas


PZA y GY6010 ...........................................................................................

43

3.4. Datos fuerza-orden de franja obtenidos en pruebas a

compresion diametral ................................................................................

46

3.5.Valores representativos de coeficientes pticos,


valor promedio y desviacin estndar .......................................................
4.1. Caractersticas de materiales fotoelsticos caracterizados ........................

48

. I

52

4.2. Caractersticas de materiales fotoelsticos


afines a los caracterizados ........................................................................

53

4.3.Caractersticas de materiales fotoelsticos de alto


y bajo mdulo, de Vishay .............................................................................

53
ii

Introduccin

Anlisis de esfuerzos y deformaciones

Un anlisis general de los esfuerzos implica obtener seis incgnitas en cada punto
que son las tres componentes de esfuerzos normales y las tres componentes de

los esfuerzos cortantes; o de los tres esfuerzos principales y las tres direcciones
principales. Esto tal vez se requiera en un problema o anlisis acadmico, pero en
la mayora de los problemas reales casi nunca es necesario determinar todas
estas incgnitas ya que los anlisis pueden simplificarse, por ejemplo, por simetra
en la geometra del cuerpo o por simetra en la aplicacin de las cargas.
En los problemas industriales se simplifica aun ms ya que los clientes no esperan
tanto por una solucin, adems de no estar dispuestos a pagar los gastos que se
generen por una investigacin de tipo acadmica. Tambin se simplifica ya que
algunas veces slo es necesario e importante conocer los esfuerzos en las partes
crticas. La simplificacin del anlisis de un problema puede darse por las
siguientes causas:

1) Por experiencia se ha encontrado que los esfuerzos importantes tienen lugar en


la superficie de la pieza, lo que hace que se requiera conocer slo esfuerzos
superficiales. Esto reduce el problema a una investigacin en dos dimensiones en
lugar de tres.

2) Se puede conocer el esfuerzo cortante mximo que es proporcional a la


diferencia de esfuerzos principales, en lugar de determinar en cada punto el valor
de dos esfuerzos principales y sus direcciones.
El esfuerzo cortante mximo se puede determinar por medio de fotoelasticidad.
3) Si en algunos casos ya se conocen las zonas de mximos esfuerzos, entonces

ya no es necesario hacer un anlisis de todo el cuerpo, sino nicamente


determinar el esfuerzo en esas zonas, y ste puede determinarse por medio de
medidores de resistencia elctrica.[l]

Mtodos de anlisis de esfuerzos y deformaciones


Hay dos clases de mtodos para el anlisis de esfuerzos y deformaciones, los
mtodos tericos y los mtodos experimentales.
Aunque el nombre comn es anlisis de esfuerzos y deformaciones, cabe
mencionar que los esfuerzos son cantidades matemticas que no pueden ser
medidas directamente, es cierto que en los mtodos tericos los resultados se dan
en funcin de los esfuerzos, pero cuando se emplean mtodos experimentales lo
que se obtiene directamente de las pruebas son los desplazamientos, no los
esfuerzos, slo cuando el anlisis es llevado ms adelante, se calcula esta
magnitud por medio de la ley de Hooke.
Un ejemplo de los mtodos tericos o analticos es el mtodo de elemento finito.
Cuando es muy difcil llevar a cabo un anlisis analtico, ya sea por que la pieza
tiene una geometra muy complicada o porque es muy difcil simular las
condiciones de trabajo, es conveniente, entonces, recurrir a los mtodos
experimentales que ofrecen solucin a este tipo de contratiempos, es ah donde
radica la importancia de la mecnica experimental, ya que puede sustituir a los
2

mtodos tericos as como tambin puede apoyarlos validando los resultados


analticos.
Dentro de los mtodos experimentales existe otra clasificacin en dos tipos, que
son los mtodos de punto por punto y los mtodos de campo completo; los
primeros, como su nombre Io indica, generan informacin particular de cada
punto, un ejemplo son los medidores de resistencia elctrica (extensometria). Con

los mtodos de campo completo es posible visualizar la distribucin de los


esfuerzos en zonas amplias de la pieza o en la pieza completa. Ejemplos de stos
son la fotoelasticidad, el anlisis de Moir, las lacas frgiles, entre otros.

Es posible generar informacin de toda la pieza en conjunto con medidores de


punto por punto, si se colocan extensmetros por toda la pieza, forma que resulta
antieconmica e ineficaz de resolver un problema.

Fotoelasticidad
La fotoelasticidad es una tcnica experimental para el anlisis de esfuerzos y
deformaciones, que resulta particularmente til para piezas que tengan
geometras complicadas o condiciones de carga complejas o ambas cosas. Es un
mtodo de campo completo, el cual permite la comprensin de los fenmenos que
se producen en los medios elsticos continuos de una manera grfica. El nombre
de fotoelasticidad refleja la naturaleza de este mtodo experimental: foto implica la
-6

utilizacin de rayos luminosos y tcnicas pticas, mientras que elasticidad denota


el estudio de los esfuerzos y las deformaciones en los cuerpos elsticos[2].

Es una de las tcnicas ms antiguas y precisas, est basada en una propiedad


conocida como birrefringencia que presentan algunos materiales slidos

transparentes, particularmente ciertos plsticos, que consiste en el siguiente

fenmeno: cuando los materiales fotoelsticos se cargan y un rayo de luz


polarizada llega al material, ste se divide en dos componentes sobre las
direcciones de esfuerzos y deformaciones principales en el punto. Una de estas
componentes se retarda con relacin a la otra, en otras palabras una componente
necesita ms tiempo para atravesar el cuerpo que la otra. La diferencia de tiempo

o retardo relativo es proporcional a la diferencia de los esfuerzos principales en el


punto(31. La birrefringencia est controlada por el estado de esfuerzos en cada
punto del cuerpo.
Para realizar un anlisis fotoelstico se requiere de lo siguiente: un dispositivo
ptico denominado polariscopio, un modelo elaborado con un material fotoelstico

o una pieza recubierta por un material fotoelstico y medios para simular las
condiciones reales de trabajo.
La fotoelasticidad es experimental, ya que el modelo o pieza real se somete a
carga y se hacen pasar a travs de ellos rayos de luz polarizada, en el analizador
del polariscopio se pueden observar dos tipos de patrones de franjas
fotoelsticas, las isocromaticas y las isclinas.
El patrn de franjas isocromticas proporciona lneas en las que, los puntos
contenidos en ellas estn sujetos al mismo valor de esfuerzo cortante mximo o al
mismo valor de la diferencia de los esfuerzos principales. Dicho valor depende del
coeficiente ptico o valor de franja del material, el cual se determina por
calibracin. La frmula para obtener el esfuerzo cortante mximo o la diferencia
de esfuerzos principales en un punto es conocida como la ley del esfuerzo ptico
y est dada por la ecuacin 1.

G,

N C
- a, = t

donde

q-o2= diferencia de los esfuerzos principales.

N = orden de franja contabilizado en el patrn de franjas isocromticas


C = valor de franja o coeficiente ptico del material.

t = espesor del modelo.

El patrn de franjas isocromticas puede obtenerse con dos tipos de arreglo de

los elementos del polariscopio, campo claro o campo oscuro. En campo claro los
ejes del analizador y polarizador son paralelos y la secuencia de las franjas se
cuenta en valores de medio orden, 112, 3/2, 52,.. . etc. El campo oscuro se

obtiene con el arreglo siguiente: los ejes de analizador y polarizador se colocan


cruzados y las placas de cuarto de onda cruzadas. Aqu el orden de franja son

enteros 1, 2, 3, . . .etc [4].

Los puntos del modelo contenidos en las franjas isclinas tienen la misma
direccin de los esfuerzos principales.
Dentro de la fotoelasticidad puede decirse que existen tres clases de anlisis
distintos que son 1)fotoelasticidad bidimensional, 2)fotoelasticidad tridimensional y
3)recubrimientos fotoelsticos. En los dos primeros se requiere de un modelo
elaborado con un material fotoelstico y se utiliza la tcnica de fotoelasticidad de
transmisin, y en el tercero se aplica un recubrimiento de material birrefringente y
se usa la tcnica fotoelasticidad reflexiva, esta ltima clase ofrece la ventaja de
ver los patrones de franjas directamente sobre la pieza analizada.
La principal diferencia entre la fotoelasticidad de transmisin y la de reflexin es
que en la primera los rayos de luz polarizada atraviezan el modelo, y en reflexiva
los rayos pasan por el recubrimiento fotoelstico y se reflejan en el prototipo.

Algunas ventajas de la fotoelasticidad sobre los dems mtodos experimentales


son la facilidad para obtener medidas bidimensionales fotoelsticas con suficiente
sensibilidad y precisin, adems la evaluacin de los esfuerzos en los bordes es
muy sencilla. Entre las limitaciones encontramos que la elaboracin de los
modelos requiere de procesos especiales, cuando se usan recubrimientos
fotoelsticos tienen que ser muy delgados por lo que la sensibilidad en este
mtodo disminuye, por lo general es pequea. Esta es slo una breve descripcin
del mtodo si se desea profundizar ms en los fundamentos y en los
procedimientos consultar la obra M.M. Frocht Fotoelasticidad o J.W. Dally y W.F.

Riley. Anlisis ExDerimental de Esfuerzos.


En Mxico una limitante para el uso de la fotoelasticidad es el costo elevado de

los materiales fotoelsticos caracterizados ya que son de importacin. Existen en


el mercado nacional materiales, principalmente polmeros, que pueden ser
utilizados para hacer modelos y recubrimientos fotoelsticos si se caracterizan
fotoelsticamente. Un ejemplo de estos materiales son algunas resinas epxicas
las cuales son sealadas en la literatura como buenos materiales fotoelsticos.
En el Centro Nacional de Investigacin y Desarrollo Tecnolgico (cenidet) se ha
iniciado el desarrollo de la lnea de investigacin de Anlisis de esfuerzos y
deformaciones y ms concretamente el uso de la fotoelasticidad, con la conclusin
de la tesis Diseo v Construccin de un Polariscopio v Anlisis de Esfuerzos t)or el
Mtodo de Fotoelasticidad [5], se cuenta ya con el dispositivo ptico para realizar
anlisisfotoelsticos, por lo que ahora hace falta material caracterizado.
En Mxico, por lo general, los laboratorios acadmicos de anlisis experimental de
esfuerzos cuentan con presupuestos limitados para la investigacin, cenidet no
es la excepcin, eso hace necesario el desarrollo de una metodologa que permita
caracterizar y calibrar materiales de fcil adquisicin en el pas que puedan

utilizarse en fotoelasticidad, para as reducir los costos que implica realizar un


anlisis fotoelstico.

Objetivo

El objetivo principal del presente trabajo es desarrollar una metodologa que


permita caracterizar y calibrar materiales que puedan utilizarse en el mtodo de
fotoelasticidad. La caracterizacin consistir en obtener las propiedades
mecnicas del material y la calibracin en obtener su coeficiente ptico.

Alcance y limitaciones
Se pretende llegar a caracterizar y calibrar tres tipos distintos de materiales
fotoelsticos, que se seleccionarn con base en un estudio de las caractersticas
deseables en este tipo de materiales. El trabajo se limita al uso de modelos
bidimensionales, la tcnica que se emplear ser fotoelasticidad por transmisin.
El presente trabajo ofrece en el primer captulo una descripcin de las
propiedades que debe tener un material fotoelstico ideal. En el captulo dos se
describe la metodologa propuesta para la caracterizacin y calibracin de
materiales fotoelsticos. En el tercer captulo muestra la serie de pasos para la
elaboracin de las placas de material fotoelstico, corte y maquinado de los
modelos bidimensionales y la descripcin de las pruebas realizadas para la
caracterizacin de las resinas epxicas

PZA y Araldit GY601O como materiales

fotoelsticos. En el captulo cuatro se mencionan los resultados obtenidos de la


caracterizacin y calibracin de los materiales fotoelsticos, se comparan con las

propiedades de materiales afines, y por ltimo se encuentran las conclusiones,


sugerencias y recomendaciones para trabajos futuros.

Referencias
[ I ] DURELLI, A.J.

y,
Primera edicin.

Mxico. Edit Continental. 1968. pp 23-30


[2] TUPPENY, W.H.; Kobayashi, A S . Anlisis ExDerimentai de Tensiones.
Bilbao, Espaa, 1970. Ediciones Urmo p 64
[3] ESTRADA, DANIEL; Estudio de problemas de contacto elastosttico utilizando
elemento finito v fotoelasticidad, (Tesis de Maestra), Mxico, Centro Nacional de
Investigacin y Desarrollo tecnolgico, 1993. p 18
[4] DURELLI, A.J op.Cit. pp 53-67

[5] AVINA, XOCHITL; Diseo v Construccin de un Polariscopio v Anlisis de


Esfuerzos por el Mtodo de Fotoelasticidad; (Tesis de Maestra), Cuernavaca:
Centro Nacional de Investigacin y Desarrollo tecnolgico, 1997).

Captulo 1
Propiedades ideales de un material fotoelstico

Para realizar un anlisis fotoelstico bidimensional es necesario contar con un


modelo elaborado con un material fotoelstico; un aspecto importante en el
anlisis fotoelstico es la seleccin adecuada del material para elaborar el
modelo. No existe an un material que tenga las propiedades fotoelsticas
ideales, por lo que el investigador debe decidir qu material usar de acuerdo a sus
necesidades. A continuacin se describen las caractersticas ideales que debera
tener un material fotoelstico.

1.l.Caractersticas ideales de un material fotoelstico


Tiene que ser transparente a la luz que emplea el polariscopio
La mayora de los materiales polmeros que se emplean actualmente como
materiales fotoelsticos son plsticos transparentes. La transparencia requerida
en un anlisis fotoelstico no es necesariamente la transparencia del cristal, si el
material es capaz de transmitir la luz empleada por el polariscopio es suficiente
para poderlo usar como material fotoelstico. Existen materiales polmeros que
poseen cierta coloracin como, por ejemplo, el poliuretano que es de color
ambarino, sin embargo es un material muy usado con fines didcticos y para
pruebas dinmicas,

ES necesario una buena sensibilidad a los esfuerzos y a las deformaciones

Esta caracterstica es denotada por un valor pequeo del coeficiente ptico o valor
de franja del material. Es deseable que un material sea bastante sensible ya que
as se podrn generar franjas suficientes en el modelo, para hacer mediciones
precisas, con cargas relativamente bajas. De esta manera no se corre el riesgo de
distorsionar demasiado el modelo.

Las

relaciones

esfuerzo-deformacin,

esfuerzo-orden

de

franja

deformacin-orden de franja tienen que ser lineales


Esto es porque el modelo de material fotoelstico se emplea comnmente para
predecir los esfuerzos que ocurrirn en un prototipo de metal, por lo tanto las
propiedades anteriores deben ser lineales. La mayora de los materiales polmeros
tienen propiedades lineales en la regin inicial de la grfica esfuerzo-deformacin,
sin embargo, a valores altos de esfuerzo, el material tiene un comportamiento no
lineal. Para que un anlisis fotoelstico tenga xito es necesario trabajar en los
intervalos lineales de la grfica.

Tiene que ser istropo y homogneo tanto mecnica como pticamente


Despus de que se realiza el colado de un material fotoelstico, y se deja curar
sin aplicar ningn proceso como podra ser rolado o estirado, las molculas se
orientarn aleatoriamente, y se tiene un material esencialmente istropo y
homogneo. Si se le aplica un rolado o estirado las molculas se orientan en la
direccin del rolado o del estirado, entonces estos materiales no pueden ser
usados para elaborar modelos fotoelsticos ya que mostrarn propiedades no
isotrpicas.

10

Que no presente el efecto de fluencia


La mayora de los materiales polmeros usados en fotoelasticidad presentan el
fenmeno de fluencia, tanto mecnica como pticamente, por lo que no son
considerados como materiales elsticos sino viscoelsticos.
De esta manera para que un material que muestra propiedades viscoelsticas
pueda ser usado como material fotoelstico debe calibrarse como funcin del
tiempo, esto se hace graficando el valor de franja del material contra el tiempo.
Inicialmente este valor de franja del material decrece rpidamente con el tiempo
requerido para fotografiar el modelo. En la prctica un modelo fotoelstico se
carga durante una hora aproximadamente, luego se fotografa y se usa el valor de
franja correspondiente a la calibracin de una hora.

La figura de Mrito tiene que ser tan alta como sea posible
La figura de Mrito (a)es la divisin del mdulo elstico por el valor de franja del
material. Es una comparacin de las dos propiedades, como se requiere de un
mdulo de elasticidad alto y un valor de franja bajo, un elevado valor de la figura
de Mrito nos indicar que las dos propiedades son buenas una con respecto a la
otra. La figura de Mrito debe permanecer constante durante la realizacin del
anlisis fotoelstico[3].
Q=EIC

(2.1)

11

Tiene que poseer un alto mdulo de Young y un elevado lmite de


proporcionalidad

El mdulo de Young, por ser una caracterstica constante que representa la


rigidez del material, controla la distorsin del modelo a causa de las cargas
aplicadas por lo que si se tiene un mdulo de elasticidad alto ser ms difcil
distorsionar el modelo. La distribucin de los esfuerzos depende de la geometra
de la pieza, si el modelo se distorsiona apreciablemente, se tendrn errores
considerables en la determinacin de los esfuerzos.

El lmite de proporcionalidad nos indica hasta que punto es posible aplicar cargas

sin correr el riesgo de perder el modelo, y mientras mayores sean las cargas

aplicadas los patrones de franjas que aparecern en el modelo sern de un orden


mayor.

La sensibilidad del material no tiene que cambiar con pequeas variaciones


de la temperatura
Si se presentan variaciones en el valor de franja del material con pequeas
variaciones de la temperatura, se introducirn errores en el anlisis fotoelstico.
Para la mayora de los polmeros hay una regin lineal de la curva donde el valor
de franja decrece lentamente con la temperatura, pero a temperaturas elevadas
C en la temperatura del cuarto de
este valor cae rpidamente. Variaciones de ?r. lo
la prueba pueden despreciarse.

12

No tiene que exhibir efectos de borde con el tiempo


Estos efectos se presentan despus de maquinar el modelo y son causados por la
difusin de vapor de agua del aire hacia el plstico o viceversa, lo que hace que el
modelo incremente o disminuya su volumen, esto se traduce en esfuerzos de
tensin o de compresin en la frontera. Los esfuerzos pueden visualizarse como
franjas paralelas a los bordes que aparecen en el modelo sin ser cargado, este
efecto provocar errores en la determinacin de los esfuerzos en la frontera, los
cuales, como ya se haba comentado anteriormente, son en ocasiones los ms
importantes. Si se procede a llevar a cabo el anlisis con el modelo que presenta
el efecto de borde, el patrn de franjas resultantes ser una superposicin de
esfuerzos por este efecto de borde y de esfuerzos por efecto de las cargas
aplicadas, si se obtienen resultados cuantitativos sern errneos sin duda alguna.
La rapidez a la cual se presentar el efecto depende de la humedad relativa del
aire y de la temperatura, para la mayora de los materiales fotoelsticos deben
realizarse las pruebas en das secos (humedad relativa menor del 40 o 50 %) y
fotografiar tan rpido como sea posible.

Facilidad de maquinado
Un material fotoelstico debe poderse maquinar con herramientas convencionales
como el torno, la fresa, el taladro, etc., ya que deben fabricarse modelos que
tienen geometra complicada. Debe tenerse cuidado de no generar cantidades
excesivas de calor, ya que se causan esfuerzos en las fronteras, lo cual produce
un modelo inservible para el anlisis fotoelstico. Esto se puede evitar usando
herramientas afiladas y con altas velocidades de corte. Es recomendable usar
herramientas recubiertas de carbono.
13

Tiene que estar libre de esfuerzos residuales


Estos esfuerzos se producen generalmente en las operaciones de vaciado y
curado y casi siempre durante el proceso de rolado y extrusin. Son altamente
nocivos para la obtencin de los resultados ya que se superponen a los esfuerzos
generados por las cargas. En algunos casos es posible hacer un relevado de
estos esfuerzos y reducir el nivel de los esfuerzos residuales, pero resulta muy
difcil anularlos totalmente. [I],
[2].

Tiene que tener un costo accesible


La literatura menciona que este aspecto no debe ser un obstculo para realizar
una investigacin fotoelstica ya que, por lo general, la elaboracin de un modelo
requiere de muy poco material, sin embargo en nuestro pas la nica manera de
adquirir un material fotoelstico caracterizado es de importacin, lo cual eleva el
costo. Si pudieran adquirirse materiales con este tipo de caractersticas en nuestro
pas y luego caracterizarse, se reducirn los costos notablemente.
Las propiedades de mayor importancia en este tipo de materiales son el mdulo
de Young (E), la relacin de Poisson (v) y el coeficiente ptico (C), as como su
costo.
Hay gran variedad de materiales que se han utilizado en fotoelasticidad. El primer
material usado fue el vidrio, material que muestra excelente transparencia, puede
ser obtenido en placas grandes o en bloques delgados, es homogneo;

el

inconveniente de este material es la dificultad para maquiharlo, ya que es un


material muy frgil, con el desarrollo de los materiales polmeros durante este
siglo, el vidrio cay en desuso.
14

Un ejemplo de material polmero ampliamente usado en la fotoelasticidad es la


baquelita.
Otro material que es posible utilizar es la gelatina; es un material de alta
sensibilidad y puede utilizarse en anlisis tridimensionales donde se estudian las
esfuerzos causados por los pesos propios de las estructuras.

15

1.2. Referencias,
[I]
DALLY, J.W [y] RILEY W.F., Exoerimentai Stress Analysis, Segunda edicin,
New York, Mac Graw Hill, 1985. pp. 473-482
[2] OLIVARES, A;[y] FERRER, L., Anlisis de Esfuerzos, Memorias de la
Primera Semana Nacional de Ingeniera Mecnica, Cuernavaca, Centro Nacional
de Investigacin y Desarrollo Tecnolgico. Cuernavaca, Mor. Octubre 1995.
pp. 85-92
[3] KOBAYASHI, A. S., Handbook on Exoerimental Mechanics. Segunda edicin,
Seattle, WA; Society for Experimental Mechanics; 1993; p. 215.

16

. ..
~

Captulo 2
Metodologa para caracterizacin y calibracin de
materiales fotoelsticos

2.1. Consideraciones para caracterizacin fotoelstica


Las propiedades de un material fotoelstico pueden dividirse en dos clases:
Un grupo de caractersticas que se catalogan como propiedades cualitativas ya
que no se requiere de un valor o de un porcentaje para evaluarlas.
La transparencia, el efecto de borde con el tiempo, y la existencia de esfuerzos
residuales son propiedades en las que es suficiente con observar el material en el
polariscopio y determinar si existen o no, o si es una excelente, buena o mala
propiedad.
La maquinabilidad es otra caracterstica que cae dentro de esta clase, ya que se
determina al elaborar los modelos, por ejemplo, hay materiales que son
demasiado frgiles, esto causa que se quiebren fcilmente con cualquier
movimiento inadecuado de las herramientas de corte. Otros se calientan durante
el maquinado y las orillas se funden, debido a la velocidad y gran avance de las
herramientas de corte, lo cual hace que el material sea difcil de maquinar, sin
embargo hay materiales en los que no se dificulta en lo absoluto el maquinado.

17

El

costo es una caracterstica relativa, ya que en Mxico los materiales

fotoelsticos importados resultan ser muy caros para los centros de investigacin,
sin embargo a los investigadores de cualquier pas del primer mundo pudiera no
parecerles caro.

El otro grupo de propiedades son cuantitativas ya que son representadas por


valores o porcentajes como el valor del mdulo de Young, la relacin de Poisson,
etc.

2.2. Pruebas para caracterizacin fotoelstica


2.2.1. Determinacin del mdulo de Young y la relacin de Poisson

Prueba a tensin simple


Con la prueba a tensin simple utilizando una probeta tipo hueso (fig. 2.1) puede
obtenerse el mdulo de Young.

tP

IP

Figura 2.1 Probeta tipo hueso a tensin simple.

La figura 2.2 muestra una probeta con las dimensiones indicadas en [I].

18

153

L
h

-.

Figura 2.2 Dimensiones de probeta tipo hueso.

Las dimensiones estn en mm., h es el espesor y b el ancho que generalmente es


de 12mm. aproximadamente.

Procedimiento:

1. Medir el ancho y el espesor en varios puntos de la zona estrecha del


espcimen para determinar la seccin transversal mnima, medir y marcar la
longitud efectiva para la prueba. Las marcas deben hacerse usando un crayn

o un marcador sin rasgar el espcimen, ya que esto puede provocar que se


presente falla o concentracin de esfuerzos en esa zona.

2. Colocar el espcimen en las mordazas de la mquina universal de ensayos


cuidando de alinear horizontalmente el eje mayor de la probeta, apretar
uniforme y firmemente.

3. Seleccionar la velocidad de la prueba.


4. Aplicar la carga y registrar los valores del desplazamiento y sus valores de

fuerza correspondientes.

19

..

5.Calcular los esfuerzos normales dividiendo las fuerzas registradas por la

Seccin transversal mnima, las deformaciones unitarias se calculan dividiendo

los desplazamientos por la longitud efectiva.

6. Graficar esfuerzos contra deformaciones unitarias, aproximar la curva obtenida


a una lnea recta usando el mtodo de mnimos cuadrados y el valor de la
pendiente es el mdulo de Young.
Otra forma de obtener el mdulo de Young usando los datos obtenidos en esta
prueba es extender .la porcin inicial de la curva en la grfica esfuerzodeformacin y dividir la diferencia de esfuerzos correspondiente a cualquier
segmento de la lnea recta por la diferencia de deformaciones correspondiente,
como se indica en la siguiente expresin:

E = OP - =q

(2.7)

El lmite de proporcionalidad es el valor del esfuerzo que existe en el punto en el


que se observa la primera desviacin de la lnea recta de la porcin inicial de la
grfica.
La relacin de Poisson es el cociente de la deformacin unitaria axial entre la
transversal, estos dos valores se obtienen con un alto grado de exactitud
empleando extensometros, stos pueden colocarse en probetas tipo hueso.

Los valores de las 'deformaciones unitarias sensadas

por los extensometros se

obtienen de una prueba a tensin.

Existe un mtodo desarrollado por Durelli y Ferrer [2] para obtener valores de
Mdulo de Young y relacin de Poisson, el cual es aplicable a los materiales
fotoelsticos. Consiste en pruebas a compresin diametral utilizando anillos y

discos como especmenes de prueba. La validez de los valores obtenidos


depende de la exactitud de los instrumentos de medicin y de la precisin con que
se realicen las mediciones de los desplazamientos resultantes en las pruebas.
Para determinar el mdulo de Young se realiza la prueba a compresin diametral
empleando el anillo como se muestra en la figura 2.3.

Figura 1.3 Anillo a Compresin diametral.

Donde P es la carga aplicada durante la prueba, DE y DI son los dimetros


exterior e interior respectivamente, dv y dh son los desplazamientos vertical y
horizontal respectivamente.

Procedimiento:
1. Medir las dimensiones del espcimen, incluyendo el espesor, usando un
micrmetro.
2. Colocar el anillo en el marco de carga o en la mquina universal de ensayos
cuidando que est horizontal para evitar al mximo la excentricidad de la carga.
3. Aplicar la carga en incrementos y registrar los valores de los desplazamientos
con el valor de la carga respectiva.
4. Calcular las constantes K, y K,, las cuales son funcin de la geometra del

anillo, empleando las ecuaciones 2.2 y 2.3.

21

IiR'jn:(-,cR4)
+$[:(-$)

K,=- h'

donde :

-,]+0.05n$}

=T[
1

Kh

2 -0.1366-1(0.4268+-)]
~ ~
h2
h
12R

h2
6xR2

(2.2)

(2.3)

R=(DE+DI) I 4
h=(DE-DI) I 2

5. Graficar los valores de dh y dv contra los valores de la carga P, aproximar a

una recta por el mtodo de mnimos cuadrados y obtener la pendiente

correspondiente a PIdv y PIdh.

6. Calcular el mdulo de Young (E) con una de las expresiones siguientes:

(2.4)
(2.5)
donde t es el espesor del espcimen.
La relacin adecuada de DEIDI en los especmenes tipo anillo debe estar en el
intervalo comprendido entre 0.775 y 0.845 para suponer que el efecto de la
relacin de Poisson es despreciable y provocar desplazamientos relativamente
grandes para facilitar las mediciones. El tamaiio ms prctico para el espcimen
es quel que tiene una relacin DEIDl de 0.8 .
Para determinar la relacin de Poisson se realiza la misma prueba, pero utilizando
el disco como espcimen como se observa en la figura 2.4

22

IP

Figura 2.4 Disco a compresin diametral.

donde D es el dimetro del disco y dh es el desplazamiento horizontal.

El procedimiento para realizar la prueba es similar al descrito arriba. Para calcular


la relacin de Poisson (v) se emplea la siguiente expresin:
Et
v=P - 0.2732
-

(2.6)

dh
En esta expresin se emplea el mdulo de Young calculado anteriormente.

2.2.2. Determinacin de linealidad


Mediante la realizacin de la prueba a tensin simple es posible determinar si el
material tiene propiedades lineales respecto a esfuerzo-deformacin, y de ser as
en qu intervalos de carga.
Para determinar la linealidad de las relaciones esfuerzo-ptica y deformacinptica, se realiza la prueba anterior, observando la probeta en el polariscopio, se
registran los valores del orden de franja en un punto seleccionado previamente
(puede ser el centro) de la probeta, y la carga correspondiente, para
posteriormente graficar esfuerzo y deformacin contra orden de franja.

23

2.2.3.Fluencia
Para evaluar esta propiedad se usa un espcimen tipo hueso cargado a tensin,
con la carga constante.
Procedimento:
I.Determinar las dimensiones del espcimen empleando un micrmetro.

2. Colocarlo en el marco de carga dispuesto con el fin de provocar un estado de


esfuerzo axial el espcimen.

3. Aplicar la carga, que permanecer constante durante toda la prueba.


4. Registrar la deformacin axial inicial.

5. Registrar la deformacin axial periodicamente, de acuerdo a un lapso de tiempo


predeterminado teniendo en cuenta la exactitud con que se desee expresar
este comportamiento del material, como pudiera ser cada 5, 10 15 minutos.
Este perodo debe ser lo ms corto posible durante los primeros 15 minutos ya
que aqu donde se presenta la fluencia con mayor intensidad. Las pruebas
pueden durar de 1 a 2 horas.

6. Determinar en que porcentaje se alargo el especimen con respecto de la


deformacin inicial y en que periodos de tiempo.

7. Reportar porcentajes y los periodos de tiempo a los que pertenecen

2.2.4. Isotropa y homogeneidad

Para lograr que un material tenga estas propiedades se requiere que, despus de
vaciado, no se someta a ningn proceso de manufactura. Para verificar si el
material es istropo y homogneo basta con colocarlo en el polariscopio y rotarlo
para observar en todas las direcciones, no deben presentarse franjas, si esto
sucede el material es anisotrpico y no sirve para un anlisis fotoelastico a menos
que las condiciones del anlisis as lo requieran[3].
24

2.3. Calibracin fotoelstica


La determinacin acertada de la distribucin de esfuerzos, requiere una
calibracin cuidadosa del material. Aunque en la literatura se presentan valores de
franja que son razonablemente ciertos para diferentes tipos de materiales, estos
valores varan con el proveedor, la temperatura, la edad, etc. Por esta razn es
necesario calibrar cada hoja del material en el momento de la prueba[4].
La calibracin consiste en determinar la sensibilidad ptica del material, mediante
la obtencin de su coeficiente ptico, tambin conocido como valor de franja. Hay
dos opciones para este objetivo, una es la prueba a tensin simple usando la
probeta tipo hueso como espcimen y la segunda es la prueba a compresin
diametral usando el disco.

2.3.1. Calibracin usando la prueba a tensin simple


Procedimiento:
1. Determinar el punto en el que se harn las lecturas del orden de franja N, al
marcarlo no se debe rasgar el material, para evitar que aparezcan las franjas
en esa zona.
2. Colocar el espcimen en las mordazas de la mquina universal de manera que
el eje mayor est en una pocisin horizontal.

3. Seleccionar la velocidad de la prueba.


4. Aplicar la carga en incrementos pequeos.

5. Registrar los rdenes de franja que vayan apareciendo y su respectivo valor de


carga. Puede utilizarse el mtodo de compensacin de Tardy para encontrar
rdenes de franja fraccionarios, y as tener suficientes pares de datos para la
calibracin.
25

6. Graficar estos valores, aproximar la curva a una lnea recta empleando el


mtodo de mnimos cuadrados y obtener la pendiente de sta.

7. Empleando la siguiente expresin se obtiene el valor de franja C del material:

donde h es el espesor del espcimen y API AN es la pendiente.


Cabe aclarar que la relacin anterior se basa en un estado de esfuerzos uniaxial;
por tal motivo para que la ecuacin anterior tenga validez el eje axial de la probeta
de prueba tiene que estar orientado perfectamente horizontal para asegurar que la
carga no est aplicada excntricamente.

2.3.2. Calibracin empleando la prueba a compresin diametral


La segunda opcin es el disco sometido a compresin diametral, el espcimen
usado aqu es ms fcil de maquinar y tambin es ms fcil asegurar que la carga
sea uniformemente distribuida a travs del espesor y eje de simetra del disco,
para esto debe aplicarse la carga precisamente en el centro.
El arreglo y la aplicacin de la fuerza se hace de la forma presentada en la figura
2.5. En este caso los esfuerzos principales en el centro del disco son:
2P
-- hdx

(2.9)

6P
-.
=-- hdn

(2.10)

02

26

IP

Figura 2.5 Disco sometido a compresin diametral.

La diferencia entre los esfuerzos principales:

(2.11 )

Despejando el coeficiente de esfuerzo ptico, de tal manera que quede en funcin


de la carga aplicada y del dimetro del disco:

C=-8P

Ndn

(2.12)

El procedimiento para realizar la prueba es similar al descrito en 2.3.1. [5]

Es importante mencionar que el coeficiente C es funcin de la longitud de onda

de la fuente de luz empleada en el polariscopio, por lo tanto debe emplearse el


mismo tipo de luz en la calibracin y en la ejecucin del anlisis fotoelstico. La
calibracin debe realizarse antes de cada experimento ya que el valor de franja
depende de la edad del material y de las condiciones atmfericas del cuarto de
prueba
Se requiere tambin una verificacin periodica (cada seis meses) de los
elementos del polariscopio para asegurar que esta debidamente calibrado. Se
necesita verificar que los ejes de los polarizadores y de las placas de cuarto de
onda permanecen cruzados. Una pequeiia desviacin de uno de los polarizadores
27

o de las placas de cuarto de onda ocasiona un incremento en la intensidad de la


luz transmitida. [6]

2.4. Marco de carga

Es muy importante que la carga sea uniformemente distribuida a travs del


espesor y eje de simetra

del disco, para esto se utiliza el marco de carga

mostrado en la figura 2.6.

Figura 2.6 Marco de Carga.

Con este dispositivo se asegura que la carga se aplica diametralmente, adems


de que se puede cambiar el valor de la fuerza dependiendo de las distancias en
que se coloquen la masa M y el disco o anillo.
Para calcular la fuerza que se aplica en el disco, se toma en cuenta el peso de la
barra y la fuerza con que se carga.

Las dimensiones estan en mm

Figura 2.7 Barra del marco de carga.

28

haciendo una suma de momentos en el punto A tenemos:


EM, = Fd - 381.5W - 763P = O
381.5W +763P
d
el peso de la barra W se conoce, de esta manera la fuerza F aplicada al
F=

espcimen estar en funcin de la distancia d en que se coloque el espcimen y


de la carga P que se aplique.

2.5 Especificaciones ASTM


De acuerdo a las normas ASTM D 638M-91a, D 695M-91, D 4093-91 deben
usarse al menos cinco especimenes para la realizacin de las pruebas siempre y
cuando se trate de materiales istropos, y los informes de cada prueba deben
contener lo siguiente:
1. La identificacin completa del material probado incluyendo tipo, proveedor,
nmero de cdigo de fabricante, forma, dimensiones principales, historial del
material, etc.
2. Mtodo de preparacin de los especmenes de prueba.
3. Tipo de espcimen de prueba y dimensiones.
4. Condiciones del procedimiento usado.

5. Condiciones atmosfricas en el cuarto de pruebas.


6. Nmero de especimenes probados.
7. Velocidad de la prueba.

8. Valor promedio de la propiedad determinada y desviacin estndar.


9. Datos generales de la prueba.

29

2.6 Referencias

<
al- is; primera edicin; New

[I]
HETENYI, M; Jaindbo
York; John Wiley & Sons, Inc.; 1950. p.867

[2] DURELLI & FERRER; New methods to determine elastic constants en:
Materials Research & Standars, 111, 12, Philadelphia, 1973. pp.988-991

x
struccin
isco. o
I s de

[3] AVIA, XOCHITL; Diseno

esfuerzos DOr el mtodo de fotoelasticidad; (Tesis de Maestria, Cuernavaca:


Centro Nacional de Investigacin y Desarrollo tecnolgico, 1997). p.42
[4] OLIVARES, A. [y] FERRER, L.; Anlisis de Esfuerzos, Memorias de la

Primera Semana Nacional de Ingeniera Mecnica, Cuernavaca, Centro Nacional


de Investigacin y Desarrollo Tecnolgico. p.92

[5] ESTRADA, DANIEL; Estudio de Droblemas de contacto elastostatico utilizando


elemento finito v fotoelasticidad, (Tesis de Maestra, Cuernavaca: Centro Nacional
de Investigacin y Desarrollo tecnolgico, 1993). pp. 36-39
[6] Norma ASTM D 4093-91 Standard Test Method for Photoelastic
Measurements of Birefringence and Residual Strains in Transparent or
Translucent Plastic Materials. 1993. p. 643

30

Captulo 3
Desarrollo de la caracterizacin de materiales
fotoelsticos
En este captulo se describe el trabajo experimental realizado con el objeto de
caracterizar

materiales

fotoelsticos

para

utilizarlos

en

fotoelasticidad

bidimensional.

3.1. Seleccin de materiales


La primera parte consiste en seleccionar los materiales que se pretenden
caracterizar, esto es de acuerdo a las necesidades del anlisis fotoelstico o a las
propiedades deseables en el material fotoelstico.
Los materiales que se consideraron inicialmente fueron la resina polister, resina
epxica y poliuretano, por las razones siguientes:
1. La resina polister es de los materiales ms econmicos de este tipo, presenta
excelente transparencia y es de muy fcil adquisicin a nivel nacional. Se
compr en dos variedades distintas, resina polister M-40 pura y M-40
preparada, se adquirieron en Universal de Resinas y Fibras y en Plastimundo
en la ciudad de Mxico.
2. Las resinas epxicas son sealadas en trabajos [I]
como un material con

excelentes propiedades tanto pticas como mecnicas y tiene un costo


relativamente bajo. Las resinas epxicas que se seleccionaron son la resina

31

Araldit GY6010 de Ciba, comprada en Plastimundo, y la resina epxica PZA de


Hysol lndael de Mxico S.A.

3. El poliuretano es un material de bajo mdulo de Young que tiene aplicacin en


anlisis dinmicos, puede tambin usarse con fines didcticos, demostrativos y
tiene una buena sensibilidad ptica, ste se adquiri en Hysol lndael de Mxico
S.A.

3.2. Elaboracin de placas de material fotoelstico

Los materiales con posibilidades de uso en fotoelasticidad estn disponibles, por


lo general, en estado lquido, se requiere realizar mezclas de resina con su
respectivo catalizador para colar en moldes de aluminio o vidrio y obtener las
placas.

El equipo y material usado para llevar a cabo los vaciados fue el siguiente:
a

Recipientes metlicos para hacer las mezclas.


Agitador mecnico.
Bscula con sensibilidad de 1 gramo.
Placas de aluminio o vidrio.
Cimbras de silicn.
Termmetro de cartula.
Resina liquida.
Catalizador.
Desmoldante.
Quitaburbujas.
Silicn.
Gasas.

32

En algunos casos los fabricantes recomiendan el uso de colorantes, cargas o


algn otro componente qumico para mejorar la transparencia o dar alguna
coloracin, pero por lo general slo se usa resina y catalizador.

Procedimiento:
Para Preparar el molde, se limpia la superficie del molde con alcohol para
eliminar todas las impurezas de polvo y grasas.

2. Pegar con silicn la cimbra en la placa de aluminio o vidrio con el tamao


deseado de la placa.

3. Aplicar una capa delgada uniforme de desmoldante y con la gasa quitar el


exceso para que la superficie de la placa tenga buen acabado.
4. Despus de haber quitado casi todo el desmoldante tapar el molde para que no

se le adhieran partculas de polvo contenidas en el aire.

5. Calcular la cantidad de resina y catalizador multiplicando el volumen de la placa


deseada por la densidad del plstico, la cual aproximadamente es de 1.033 x
10-~gr./mm~.

6 . Conocido el volumen de la placa y de acuerdo a la dosificacin requerida para

esa resina calcular y pesar por separado la cantidad de gramos de resina y


catalizador. Tiene que tenerse en cuenta que los materiales se emplean en
otras aplicaciones y la dosificacin indicada por el fabricante es de acuerdo a
stas, por lo que tienen que hacerse pruebas con dosificaciones distintas para
verificar cul es la indicada para los propsitos de la fotoelasticidad.

7. En caso de ser necesario, aplicar calor para bajar la viscosidad de la resina y


facilitar el mezclado.
8. Agregar el catalizador que tiene que estar a la misma temperatura de la resina

para evitar los cambios bruscos de temperatura.


9. Mezclar con el agitador mecnico hasta observar una solucin homognea, las

aspas no tienen que ser muy grandes y hay que moverlas por todos los lugares
del recipiente para evitar en lo posible que se atrapen burbujas de aire

33

10.Vaciar la mezcla acercando lo ms posible el recipiente al molde, deslizndola


por medio de una esptula evitando que atrape aire en ese momento, en
algunos casos es necesario calentar el molde antes de vaciar para que no haya
un cambio brusco en la temperatura de la mezcla. Aplicar una capa delgada y
uniforme de quitaburbujas en caso de ser necesario.
11.Tapar el molde para que no caigan impurezas, la mayora de las resinas
requieren de un tiempo de curado de 24 horas a temperatura ambiente o de 4 a

6 horas en el horno, a la temperatura indicada para cada resina.


12,Despegar el material empleando una esptula, empezando por las orillas hacia
el centro aplicando desmoldante para facilitar el despegado de la placa.

3.2.1. Vaciados de resina polister


Se realizaron los vaciados empleando dos moldes distintos, placas de vidrio y una
placa de aluminio. La relaciones resina-catalizador empleadas fueron 100-15, 10020, 100-25 y 100-30,se observ que al emplear las dos primeras relaciones y una

placa de vidrio o de aluminio como molde, no solidific el material en su superficie

libre, al emplear las dos segundas relaciones se obtuvieron placas slidas pero
con la presencia de esfuerzos residuales. Usando dos placas de vidrio como
molde, las placas de resina se obtuvieron con muy buena transparencia, espesor
uniforme y excelente acabado pero con la presencia de esfuerzos residuales por
toda la placa. En resumen el impedimento para el uso de la resina polister
nacional del tipo M-40, como material fotoelstico, es la presencia de esfuerzos
residuales causados por la alta reaccin exotrmica (desprendimiento de calor)
durante el gelado.

34

3.2.2. Vaciados de resina epxica


Hysol recomienda una relacin de resina catalizador de 100-10 para la resina

epxica PZA la cul, se emple dando como resultado placas con buena
transparencia, sin esfuerzos residuales y con buenos acabados superficiales, el
gelado ocurre en aproximadamente una hora. AI incrementar la cantidad de
catalizador en las mezclas las placas presentan esfuerzos residuales, ya que la
reaccin exotrmica es mayor. En este caso se opt por usar la relacin
recomendada por el fabricante.
La resina epxica Araldit GY6010 se utiliz en las pruebas realizadas en [2],
donde se encontr que la relacin apropiada es de 100-30, por lo que los
vaciados se realizaron con las recomendaciones ah indicadas.

3.2.3. Vaciados de poliuretano


El poliuretano es un material slido a temperatura ambiente, para realizar un
vaciado es necesario calentarlo hasta 50 C, temperatura a la cual toma un estado
lquido, durante este proceso se forma una gran cantidad de burbujas de aire muy
pequeas, al agregar el catalizador y mezclar, se generan an ms y es muy difcil
eliminarlas ya que el gelado de este material es aproximadamente 5 minutos
despus de agregar el catalizador, esto causa que no pueda obtenerse un

material homogneo por lo que no es posible usarlo en fotoelasticidad con esas

condiciones.
Por las causas descritas anteriormente se decidi continuar trabajando slo con
las resinas epxicas PZA y Araldit GY6010, ya que slo con estos dos materiales
se obtuvieron resultados aceptables durante los vaciados.

35

3.3 Elaboracin de modelos


Como se coment anteriormente, el mtodo de fotoelasticidad es apropiado para
analizar elementos que tienen geomeira compleja, los modelos deben tener la
misma forma que el prototipo para que la distribucin de franjas en el modelo sea
similar a la disiribucin de esfuerzos en e prototipo. Los modelos que se
necesitan para caracterizar son probetas tipo hueso y discos, los cuales son
sencillos y fciles de maquinar.

Procedimiento:
1. Dibujar la forma del modelo con un marcador, sin rasgar el material.
2. Cortar con un cortador de carburo de tungsteno colocado en un arco de
segueta a 2 3 mm fuera de la forma dibujada como se muestra en la
fotografa 3.1. La placa tiene que protegerse con cartn o caucho para no
lastimarla con el tornillo que aprisiona la placa.

Fotografia. 3.1 Corte de una placa de material fotoelbstico con arco regueta

36

3. Pegar la plantilia al material que se va cortar con cinta que tenga pegamento
por ambas caras.
4. Maquinar haciendo desbastes no mayores a 112 mm. Para esto se usa un
banco con una gua y un cortador de alta velocidad (router), con una velocidad
de corte superior a 25000 r.p.m. mostrado en la fotografia 3.2. Para el
maquinado se recomiendan altas velocidades y poco avance para evitar la
formacin de los esfuerzos residuales en los bordes.
5. Finalmente si la superficie presenta imperiecciones debe frotarse con una gasa
con aceite mineral para mejorar el acabado superficial y evitar desviaciones de
los rayos de luz.

Fotografia 3.2 Elaboracin de un modelo

Hay materiales que despus de cortados aceptan humedad del ambiente, por lo
que incrementan su volumen generando esfuerzos en los bordes, cuando esto
sucede, se recomienda hacer las pruebas poco tiempo despus de cortar los
modelos.
Si el material y los modelos se almacenan en condiciones controladas de
temperatura y humedad es posible evitar la formacin de los esfuerzos.
A los modelos se les puede aplicar una capa de silicn en la orillas que fueron

cortadas y as evitar que reciban humedad.

37

Los modelos elaborados para llevar a cabo la caracterizacin fueron especmenes


tipo hueso con las dimensiones indicadas en 2.2.1 y discos para efectuar la
calibracin. Las placas fueron cortadas quince das despus de vaciadas y ambos
materiales presentaron facilidad en el maquinado ya que no se fracturaron, ni
presentaron esfuerzos residuales en las orillas que fueron cortadas, las
herramientas que se emplearon para cortar fueron router, taladro y segueta. La
fotografa 3.3 muestra algunos de los modelos elaborados.

Fotografa No.3.3 Probetas tipo hueso conectadas al equipo sislema 4000 de Vishay

3.4. Descripcin de las pruebas desarroiiadas

Como se mencion en la introduccin, lo que se mide directamente en la


realizacin de una prueba a tensin son los desplazamientos o alargamientos que
sufre la probeta, cuanto ms exactas sean estas mediciones, tambin ms
exactos y confiables sern /os valores de las propiedades obtenidas.

1 Ver apndice E, fotografa E l

38

3.4.1. Pruebas para obtener el mdulo de Young


Para obtener el mdulo de Young se realizaron pruebas a tensin en probetas tipo
hueso empleando la mquina universal de ensayos con velocidades de prueba de
1 y 5 mmmin. Se emplearon cargas de 300, 400, 500, 800, 1200 N y pruebas
hasta la ruptura. Los datos que se obtienen de esta prueba son la carga (P) en N.,
censada por la celda de carga, y la extensin (6) en mm., sensada por el
extensometro interno de la mquina universal. El procedimiento inmediato es el
explicado en 2.2.1.

A continuacin se presentan los datos y grficas obtenidos en pruebas a tensin


(tabla 3.1, figuras 3.1 y 3.2).

Fuerza

Alara

Esfuerzo

Def. unit.

a)

Tabla 3.1. Datos de pruebas a tensin en: a) resina PZA.

b)

b) resina GY6010.

39

Deformacin (mmimml

Figura. 3.1 Grhfica de una porcin del intervalo lineal de la curva


esf-def. resina PZA. Probeta tipo hueso, carga 1200 N.

0.018

0.022

0.026

0.030

Figura 3.2 Grfico de una porcin del intenraioiineai de la curva


esf-def. resina GYO10. Probeta tipo hueso, carga 8 0 N.

La fotografa 3.4 muestra la probeta tipo hueso colocada en la mquina universal


para una prueba a tensin

Fotografia 3.4 Proheta a tensin en la mquina universal.


1 Ver apndice E, fotografia

E2.

40

La siguiente tabla muestra los valores de mdulo de Young que se obtuvieron de


varias pruebas para ambas resinas.

Tabla 3.2 Valores de mdulo de Young, Valor promedio


y desviacin estlndar.

3.4.2. Determinacin de la relacin de Poisson

En el laboratorio de ingeniera mecnica seccin diseo del cenidet, se cuenta con el


equipo para el uso de la extensometra como una opcin en el anlisis experimental
de esfuerzos, por lo que se instrumentaron probetas tipo hueso con rosetas que
sensan el desplazamiento en direccin axial y transversal, como se muestra en la
fotografa 3.5y en la figura 3.3.

Fotografia 3.5 y Figura 3.3 Probeta tipo hueso instrumentada.


1 Ver apndice E, fotografa E3

41

La figura 3.4 muestra las curvas que representan la deformacin unitaria axial y
transversal censadas por la roseta. Las curvas en el plano superior es la seal del
extensometro que mide deformacin axial y es positiva ya que est a tensin, las
curvas en el plano inferior es la seal del extensometro transversal y es negativa
ya que se est a compresin. Se empleo el sistema 4000 de Mesurements Group
para la adquisicin de datos.

Deformaci6n axial

.._.._...__..._.....___
Deformacin transversal
Incrementos de carga de 30 N

Figura 3.4. Grfica representativa de la deformacin axial y transversal en pruebas


a tensin en probetas tipo hueso instrumentadas.

Las deformaciones se miden directamente en las grficas utilizando un


escalimetro, se efecta la divisin de la deformacin axial por la transversal
obteniendo de este modo la relacin de Poisson.
La magnitud de la carga empleada en el desarrollo de estas pruebas fueron de
300, 400 y 500 N en la mquina universal y de 60 a 200 N aplicando pesos

muertos en incrementos de 30 N.

42

Se muestra a continuacin una muestra de valores representativos de la relacin


de Poisson, obtenidos en las diferentes pruebas, el promedio y la desviacin
estndar.

i-3rt-d
Poisson

Rel. Poisson:
Desv. est.

I
I
I

0.46
0.017

de Poisson

IRel. Poisson:I
i
I

0.41

Desv. est.

0.016

Tabla 3.3 Valores de la relacin de Poisson de las


resinas epxieas PZA y GY6010.

3.4.3. Determinacin del efecto de fluencia

Las pruebas realizadas para describir el comportamiento de fluencia en los


materiales caracterizados, fueron pruebas a tensin en las probetas tipo hueso
instrumentadas, empleando cargas constantes de 250 y 500 N por periodos de
tiempo de 1/2, 1 y 2 horas. La deformacin fue sensada constantemente
obteniendo grficas de la deformacin axial y transversal como las que se
muestran en las figuras 3.5 y 3.6.

43

fs
Deformacin transversal

'looo
.20w

0.00

0.25

0.5

0.76

1.00

1.25

1.60

1.76

2.00

HOmS

Figura 3.5 Grhfica de def. Axial y transversal en una resina PZA.


Prueba de fluencia, duracin 2 hrs., carga 250 N.

800

400

Fe
o

Deformacin axial

.......................................................................
\

.400-

.ano.

Deformacin transversal
I

Para la resina GY6010 se presentaron los siguientes porcentajes en el aumento


de alargamiento. Durante el primer lapso de quince minutos se observ un

44

incremento que va de un 30 a un 35 %, en el segundo lapso aumenta slo de un 8


a un 10 % y pasada la primera media hora de prueba nicamente se incrementa
de 2 a 4 Oh, lo cual viene a ser un parmetro despreciable.
Para la resina

PZA se presentaron deformaciones y porcentajes de alargamiento

mayores. Durante el primer periodo de tiempo se registr un 45 % de incremento


en el alargamiento, para el segundo lapso un aumento de 20 a 25 %, para el
tercer lapso un 10 %, del cuarto periodo en adelante se presentaron porcentajes
de un 4 a 8%. Se observ que durante los primeros quince minutos el fenmeno
se presenta en mayor intensidad disminuyendo aproximadamente la mitad del
porcentaje en cada lapso de tiempo respecto al anterior.
Se lleg a la conclusin de que el fenmeno de fluencia se presenta en mayor
intensidad durante la primera media hora de prueba, por lo que al realizar un
anlisis fotoelstico se debe cargar el modelo, dejar transcurrir una hora para
asegurarse que ya no fluye el material y proceder a tomar fotografas o hacer
lecturas de orden de franja.

3.4.4. Obtencin del valor de franja o coeficiente ptico

La calibracin se realiz haciendo pruebas a compresin diametral empleado


discos como especmenes. Se us el marco de carga para emplear fuerzas
constantes y asegurar que se aplican diametralmente. Se emple un polariscopio
con un arreglo de luz polarizada circular en campo oscuro, la fuente luminosa es
una lmpara de luz blanca de 22 W. Las pruebas se desarrollaron siguiendo el
procedimiento descrito en 2.3.1 y 2.3.2. La fotografa 3.6 muestra el marco de

carga, el polariscopio y un disco.

45

9P

efueii ap uapio

L'P %E

&E

sz saz

LI

LE

8 ZZ6

L:P

66 9E6

6E 608

P8 128

LZ

86 S69

SE'Z

Lszas

S6 E
E
E

18.1

9169P

9.1

SL.SSE

SZ

S0.Z

89 90L
ES'16S
8E.9LP
ZZ.19E

lim
Grafica F-Ord para resina GY6010

4w
2w

01.39
- 1.63 1.82 2.35 2.7

3.1

Orden de Franja

Figura 3.8 Grfica F-Ord. para obtener la pendiente de In recta obtenida


en una pruehn pard calibracin en una resina GY6010.

Las siguiente serie de fotografas muestra los patrones de franjas isocromticas


que se observaron durante una prueba de calibracin en un disco de resina PZA.

a) P = 255 N. Ord =1.65

h) P = 370 N, Ord =2.0

U ) P = 600 N, Ord =2.95

c) P = 495 N, Ord =2.5

e) P = 720 M, Ord =3.3

Fotografa 3.1 Patrones de franjas isocromticas obtenidas durante


una prueba de calibracin en un disco de resina epxica PZA.

Usando el valor de la pendiente (FlOrd) y las dimensiones de /os discos en la


ecuacin 2.12, se obtiene el coeficiente ptico para cada prueba. La dimensiones
promedio de los discos son 60 mm de dimetro y de 4 a 6 mm de espesor.
1 Ver apndice E, fotografas E5 a E9.

47

La tabla 3.5 muestra valores representativos de esta propiedad obtenidos durante


las pruebas realizadas, promedio y desviacin estndar.

Desv. est.

0.43

0.52

Tabla 3.5 Valores representativos de coeficientes pticos,


promedio y desviacin estndar.

3.4.5. Determinacin del lmite de proporcionalidad


Estas dos caractersticas se obtuvieron de las curvas esfuerzo-deformacin de las
pruebas a tensin hasta la ruptura que se realizaron a especmenes tipo hueso.
En las figuras 3.9 y 3.10 se muestran dos grficas representativas de estas
pruebas.
Se determina el punto donde la curva deja de ser lineal y el valor de la fuerza en
ese punto se divide por el rea de la seccin transversal mnima de la probeta
resultando el valor del lmite proporcional en unidades de esfuerzo.

48

0.0000

Extensin (mm)

4.0000

Figura 3.9. Grfica fuerza-extensin obtenida de una prueba hasta la


ruptura de una probeta tipo hueso de resina PZA. Fza mx = 2087 N.
Fza en el punto del lmite proporcional 1620 N.

Figura 3.10. Grrlfica fuerza-extensin obtenida de una prueba hasta la


ruptura de una probeta tipo hueso de resina GY6010. Fza mu = 1808 N.
Fza en el punto del limite proporcional 1470 N.

El rea de la seccin transversal de la probeta de resina PZA es de 54 mm,


siendo el lmite de proporcionalidad para la resina PZA de 30 Mpa.
El rea de la seccin transversal de la probeta de resina GY6010 es de 36.2 mm2,

siendo el lmite de proporcionalidad para la resina GY6010 de 40.6 Mpa.

49

3.4.6. Transparencia, efecto de borde con el tiempo


La transparencia para que un material se pueda usar en fotoelasticidad es la
necesaria para que permita el paso de los rayos emitidos por la fuente luminosa
del polariscopio que se vaya a utilizar. Las resinas PZA y GY6010 muestran una
transparencia la cual permite observar a travs de ellas.
La fuente de luz blanca que usa el polariscopio del laboratorio de ingeniera
mecnica del cenidet emite rayos que atraviesan estos materiales sin problema
alguno.
El efecto de borde no se present durante los dos meses en que se efectu el

proceso consistente en: la elaboracin de las placas, maquinado de los modelos y


el desarrollo de las pruebas.

50

3.5 Referencias
[I]
KOBAYASHI, A. S., Handbook on ExDerimentaI Mechanics, Segunda edicin,
Seattle, WA; Society for Experimental Mechanics; 1993; p. 216.
[2] AVIA, XOCHITL; Diseo v Construccin de un PolariscoDio v Anlisis de
Esfuerzos por eI Mtodo de Fotoelasticidad; (Tesis de Maestra, Cuernavaca:
Centro Nacional de Investigacin y Desarrollo Tecnolgico, 1997).pp. 46-51

51

Captulo 4
Anlisis de resultados y conclusiones
Se presenta un informe de las propiedades obtenidas de los materiales
fotoelsticos caracterizados y posteriormente, se hace una comparacin con las
propiedades de materiales afines, que se encuentran en la bibliografa.

4.1. Resultados de la caracterizacin de las resina epxicas PZA y GY6010


PROPIEDAD

RESINA PZA

RESINA GY6010

Mdulo de Young. (E)

605.72 Mpa

774.06 Mpa

Relacin de Poisson (v)

0.46

0.41

Fluencia

60% en 2 hrs.

45% en 2 hrs.

Coeficiente ptico (C)

11.05 Nlmmlfranja

14.31 Nlmmlfranja

Transparencia

Bueno

Bueno

Maquinabilidad

Bueno

Bueno

Efecto de borde con el tiempo

Bueno

Bueno

Limite de proporcionalidad

30 MPa

40.6 Mpa

Figura de MBrito (EIC)

54.0

54.1

Tabla 4.1. Caracterlsticas de materiales fotoel4sticos caracterizados.

Las propiedades de la tabla anterior son valores caractersticos de un material


fotoelstico de mediano mdulo, a una temperatura de 24 *I0
C. Las velocidades
de la mquina universal en las pruebas a tensin fueron de 1 y 5 mmlmin. Para
calibrar se empleo un polariscopio de transmisin con una fuente de luz blanca de
22 w.

52

4.2. Propiedades de materiales afines


Se muestran a continuacin, propiedades de materiales fotoelsticos epxicos de
alto mdulo mencionados en [I]

Tabla 4.2. Caractersticas de materiales fotoelrlsticos


de alto mdulo.

Resina 1 es una epxica ERL-2774 con 50 partes por 100 de catalizador.


Resina 2 es una epxica ERL-2774 con 42 partes por 100 de catalizador y 20
partes por cien de anhdrido hexahydrofentlico.
Las caractersticas de el material epxico para anlisis fotoelstico bidimensional
que el Grupo Vishay [2] tiene a la venta son las siguientes: exhibe un alto mdulo
de elasticidad con buena sensibilidad ptica, posee un bajo efecto de fluencia y de
borde con el tiempo.

Material de bajo mdulo Material de alto modulo


Mdulo de Young (E)

4 Mpa

3100 Mpa

Relacin de Poisson (v)

0.50

0.36

Coeficiente ptico (C)

0.15 Nlfranjalmm

10.5 Nlfranjalmm

4.3.Comparacin de propiedades
Las propiedades mmo la transparencia, efecto de borde con el tiempo, fluencia,
coeficiente ptico obtenidos con las resina PZA y GY6010 son similares a las
propiedades de materiales de alto mdulo encontrados en la bibliografa. La
resina PZA muestra porcentajes de fluencia mayores que la GY6010, pero
despus de una hora ya los porcentajes son muy bajos.
La diferencia ms marcada se encuentra en los valores del mdulo de Young, las
resinas PZA y GY6010 muestran un mdulo mediano respecto al mdulo de las
resina comerciales. Como consecuencia de ello la figura de Mrito se observa
tambin menor.
Otra propiedad que difiere es el valor de la relacin de Poisson. Este desacuerdo
es mas notable en la resina PZA cuyo valor es de 0.46, contra l de las resinas
comerciales de alto mdulo que es 0.36.

4.4. Conclusiones
Con la conclusin del presente trabajo se ha avanzado en el desarrollo de la lnea
de investigacin anlisis experimental de esfuerzos, contando con una
metodologa que permite caracterizar materiales con posibilidad de uso en la
elaboracin de modelos bidimensionales necesarios para realizar anlisis
fotoelsticos.
La metodologa consiste de pruebas fsicas que pueden realizarse en el
laboratorio de ingeniera mecnica seccin diseo del cenidet.

54

Gracias al equipo existente fue posible el uso de extensometra y con ello obtener
mediciones de desplazamientos con un alto grado de exactitud, aumentando la
confiabilidad de los resultados.
Fue posible obtener placas de resinas epxicas PZA y GY6010 sin el uso de
equipo sofisticado, con caractersticas iniciales prometedoras como son, buena
transparencia, ausencia de esfuerzos residuales , homogeneidad e isotropa tanto
mecnica como ptica.
Se obtuvieron los valores nominales de las propiedades de dos resinas epxicas
que pueden usarse como materiales fotoelsticos en anlisis donde las
condiciones requeridas estn de acuerdo con las caractersticas determinadas.
Estas propiedades son para vaciados con las relaciones resina-catalizador
indicadas en 3.2.2, una variacin en ellas cambiar tambin las caractersticas
indicadas.

Los materiales caracterizados presentaron un mdulo de Young medio respecto al

mdulo de materiales similares encontrados en la literatura, pero otras de las


propiedades fueron similares siendo una de ellas el coeficiente ptico, propiedad
de gran importancia en la fotoelasticidad.
Dos aspectos que deben ser considerados importantes son el almacenamiento de

las materias primas (resina y catalizador) y las condiciones ambientales en que se


realizan los vaciados, por ejemplo, se realizaron vaciados con resina GY6010 la
cual tena ya ms de un ao de haberse adquirido, adems las condiciones eran
de una alta humedad relativa por Io que las placas coladas no solidificaron,
quedando con una gran flexibilidad. Se aconseja almacenar las materias primas
en refrigeracin o de ser posible en un desecador y hacer los vaciados y pruebas
en condiciones de humedad relativa no mayor al 50 %.

55

4.5. Sugerencias para trabajos futuros


En la bibliografa se setiala que las placas de material fotoelstico pueden
almacenarse durante meses o incluso aos, cuando se requiere realizar un
anlisis fotoelstico es entonces cuando se procede a cortar los modelos y al
finalizar el corte se debe proceder de inmediato a cargar, y en las siguientes dos
horas fotografiar. Se propone como un trabajo futuro que se elaboren vaciados de
uno o varios materiales al mismo tiempo y almacenarlos, posteriormente ir
cortando placas durante lapsos de tiempo de uno a dos meses para caracterizar
el material e ir determinando las variaciones de las propiedades con el tiempo.
La adquisicin de los materiales en forma lquida origina que se deban realizar
vaciados para obtener las placas de material fotoelstico, este aspecto absorbi
una gran parte del tiempo durante la realizacin de este trabajo, por lo que seria
conveniente buscar establecer un convenio con instituciones o empresas que
trabajen con materiales polimeros, para que proporcionen los materiales en forma
de placas, de este modo sera posible tener materiales adecuados de una manera
rpida y dedicar ms tiempo a desarrollar las pruebas para caracterizar los
materiales, o para realizar anlisis fotoelsticos ya como un servicio a la industria

o a instituciones de investigacin.
Los materiales epxicos PZA y GY6010 mostraron un mdulo de Young medio, se
propone que se contine trabajando con este tipo de materiales para mejorar esta
caracterstica y obtener material fotoelstico de alto mdulo similar . a los
materiales comerciales a un costo menor.
Un trabajo a futuro es incursionar en la fotoelasticidad tridimensional y en la
fotoelasticidad reflexiva para tratar de abarcar todas las tcnicas de la
fotoelasticidad.

56

4.6 Referencias

[I]
DALLY, J.W; [y] Riley W.F., EXDerimental Stress Analvsis; Segunda edicin,
(New York, Mac Graw Hill, 1985).
[2] MEASUREMENTS GROUP; Photoelastic materials, Bulletin S-I 16-F

Raleigh,North Carolina, USA. O 1992.

57

Apndice A

Instrumentacin

1)Mquina universal de ensayos


Marca Iberiest.
Modelo LR 50K.
2)Computadora personal
Marca IBM.
Modelo 30 286.
3)Sistema adquisitor de datos para anlisis de esfuerzos.
Marca Measurements Group.
Modelo 4000.
4)Computadora personal.
Marca Hewlet Packard.
Modelo Vectra 486 I66XM.
5)Extensornetros.
Tipo EP-40-125TQ-350.
Marca Measurements Group.
Voltaje de excitacin 2 Volts.
Adhesivo M-Bond 200 de Measurements Group.

58

6)Micrmetros.
Marca Mitutoyo.
Modelos 103-139 OM-75.
145-87 IMP-75.
Intervalo de medicin 50-75 mm.
7)Calibrador.
Marca Mitutoyo.
Modelo Digirnatic No. 2071M.
lntrevalo de medicin 0-210 mm.
8)lmpresora.
Marca Cannon.
Modelo. BJ 200.

59

Apndice B

Grficas representativas de pruebas para obtener el


mdulo de Young y el lmite de proporcionalidad

60

Graficas para obtener el mdulo de Young y el lmite de proporcionalidad

Figura B1. Grfica F-6 de una prueba a tensin hasta la ruptura


en probeta tipo hueso de resina PZA. Fza mx = 2087 N.
Fza en el punto del limite proporcional 1614 N.
2400

Fuerza (N)

0.0000
0.0000

Extensi6n (mm)

5.000

Figura B2. Grfica F-6 de una prueba a tensin hasta l a ruptura


en probeta tipo hueso de resina PZA. Fza mx = 2285 N.
Fza en e l punto del lmite proporcional 1643 N.

61

Graficas para obtener el mdulo de Young y el lmite de proporcionalidad


2500

Fuem (N)

0.0000
0.0000

Extensin (mm)

5.0000

Figura 83.Grhfica F-6 de una prueba a tensi6n hasta la ruptura


en probeta tipo hueso de resina PZA. Fza mx = 2030 N.
Fza en el punto del lmite proporcional 1613 N.
2500

Fuem

0.0000

Figura 84. Grhfica F-6 de una prueba a tensin hasta la ruptura en probeta
tipo hueso de resina GY6010. Fza mx = 2082 N.
Fza en e l punto del lmite proporcional IS20 N.

62

Graficas para obtener el mdulo de Young y el lmite de proporcionalidad


2500

Fuerza (N)

0.0000

Figura B5. Gr4fica F-6 de una prueba a tensin hasta la ruptura


en probeta tipo hueso de resina GY6010. Fza m4x = 2406 N.
Fza en el punto del limite proporcional 1472 N.

2500

Fuerza

0.0000

63

Graficas para obtener el mdulo de Young

Figura B7. Gr4fica F-6 de una prueba a tensin en probeta tipo hueso
de resina GY6010. Carga 800 N.

0.0000

Extensidn (mm)

3.000

Figura B8. Gr4fica F-6 de una prueba a tensi6n en probeta tipo hueso
de resina GY6010.Carga 1200 N.

64

Graficas para obtener el mdulo de Young

~~

.....

Figura B9. Grzifiea F-6 de una prueba a tensin en probeta tipo hueso
de resina PZA. Carga 800 N.
I 200

- .............;. ............&. ...........y.,


.......1 ..............II
:

.
I

/ ;1:

- ........................................
0.00-vu1

- /j

#--

0.0000

*!
i

I
1
Extensibn (mm)

2.000

Figura B10. Grifica F-6 de una prueba a tensin en probeta tipo hueso
de resina PZA. Carga 1200 N.

65

Graficas para obtener el mdulo de Young

4.. ..... . .

+. ...

..I.. 1
.
.

. ...
.i..

Figura B U . GrSfiea F-6 de una prueba a tensi6n en probeta tipo hueso


de resina PZA. Carga 800 N.
1200

..<.....

Figura BIZ. GrStiea F-6 de una prueba a tensin en probeta tipo hueso
de resina PZA. Carga 1200 N.

66

Apndice C

Grficas representativas de pruebas para obtener


la relacin de Poisson

67

1200

l 6 O 1

800

Deformacin axial

400

O
400

Deformacin transvenal

Figura C1. Gr6fica de deformacin axial y transversal de pruebas a tensin


en resina PZA,con una carga inicial de 60 N e incrementos de 30 N.

800
600

Deformacin axial
400

200

O
-200

Deformacin transvenal
Y

4001

Figura C l . Grhfica de deformacin axial y transversal de pruebas a tensin


en resina PZA,con una carga inicial de 60 N e incrementos de 30 N.

68

1200

'6001

Figura C3. Grfica de deformacin axial y transversal de pruebas a tensin


en resina PZA,con una carga inicial de 60 N e incrementos de 30 N.
1000

800
600

Deformacin axial
400

200

O
Deformacin transversal
-200

-400

Figura C4. Gr4fica de deformacin axial y transversal de pruebas a tensin


en resina GY6010, con una carga inicial de 60 N e incrementos de 30 N.

69

6oo

400

Defomacl6n axial

*oo{

I
O
-200

400

1
I

Figura C5. Grzfica de deformacin axial y transversal de pruebas a tensin


en resina GY6010, con una carga inicial de 60 N e incrementos de 30 N.

ue

Figura C6. Grfica de deformacin axial y transversal de pruebas a tensin


en resina GY6010, con una carga inicial de 60 N e incrementos de 30 N

70

Apndice D

Grficas representativas para determinar el efecto de


fluencia

71

1200

Deformacin axlal

800-

400-

- 400 -

- 800 -

Deformacin transvernal

1 ' 1 ~ 1 ~ 1 ' 1 ' 1 ' 1 ~ 1 ' 1 ' 1 ~ 1 . 1 ' 1 ' 1 . 1 . 1 ' 1 ' 1 . 1 . 1

72

10000

8000
6000

4000

Deformacin axial

2000

- 2000

Defonnaci6n bansversai

- 4000
I

'

'

'

'

'

- 4000
O

IO

12

14

16

18

20

22

24

26

Minutos
Figura D4. Grfica de def. axial y transversal en una resina PZA.
Prueba de fluencia, duraci6n 30 Minutos, carga 500 N.

28

30

3000

2500
2000
1500
1000
500
0
-500

Defonnaclnaxial

-. ...- -.......-..-.- ...- -.-.-.- -.- - - - -.-.- -..- -.-.-...- -..............-.

- 1000 - c
.1500

Defonnaclntransversal

'

10

12

14

16

18

20

22

24

26

28

30

Minutos
Figura D6. Grhfica de del. axial y transversal en una resina GY6010.
Prueba de fluencia, duracin 30 min., carga 500 N.

74

1600

1200

800

400

Pe

-f
-

Defomaci6n axial

- ----.---------------__________._.._.__._-.*~~~..~
-

-400-

- 800

Defomacidniransversai

10

12

14

16

18

20

22

24

28

26

30

Minutos
Figura D7.Grfica de def. axial y transversal en una resina GY6010.
Prueba de fluencia, duracin 30 min., carga 250 N.

16001

1200-'
800

400

o
-400

-800

Defomaci6n axial

--.--..-.--...._..._.________.__.._....._*_.*.....__...._
Deformaciniransversai

0.00

'

0.25

0.50

'

0.75

1.00

'

1.25

1.50

75

Apndice E

Fotografas originales

76

Fotografa E l . Probetas tipo hueso conectadas al equipo sistema 4000 de Vishay.

Fotografa E2. Probeta a tensin en la mquina universal.


77

Fotografa E3.Probetas tipo hueso instrumentadas.

Fotografa E4. Marco de carga, polariscopio y disco de material fotoelstico.

78

Fotografa E5. Patrn de franjas icocromticas. P = 255 N, Ord =I


.65

Fotografa E6. Patrn de franjas isocromticas. P = 370 N, Ord =2.0

79

Fotografia E7. Patrn de franjas isocromticas. P = 495

N, Ord =2.5

Fotografa E8. Patrn de franjas isocromticas. P = 600 N, Ord =2.95

80

Fotografa E9. Patrn de franjas isocromaticas. P = 720 N, Ord =3.3

81

Bibliografa general.

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