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INTRODUCCIÓN
ZONAS DE FUNCIONAMIENTO
Región óhmica
Región de contracción
Región de saturación
Región de corte
Región de ruptura
CURVAS CARACTERÍSTICAS
SÍMBOLOS GRÁFICOS
EL MOS EN CONMUTACIÓN
INTRODUCCIÓN
Transistor de efecto de campo (FET) son dispositivos semiconductores donde el control de la corriente se
realiza mediante un campo eléctrico. Tienen las siguientes características:
- Dispositivo unipolar: un único tipo de portadores de carga
- Ocupa menos espacio en un circuito integrado que el bipolar, lo que supone una gran ventaja
para aplicaciones de microelectrónica
- Tienen una gran impedancia de entrada (del orden de MΩ)
La corriente entre Drenador (D) y Fuente (S) se controla mediante el campo creado por la polarización
inversa aplicada a la puerta (G).
ANOTACIONES
Transistores de efecto campo. Guía de clases pg. 2
D D
G G
S S
Canal N Canal P
+
IG ID
VDS
+ VDD
IS
VGG VGS
_ _
ANOTACIONES
Transistores de efecto campo. Guía de clases pg. 3
Para VGS = 0:
• VDS pequeña (<VP ): Canal casi completamente abierto => resistencia pequeña y aproximadamente
constante => comportamiento aproximadamente lineal => REGIÓN ÓHMICA
• VDS cercana a VP : canal se va cerrando por un punto y la resistencia aumenta con la tensión =>
comportamiento no lineal => REGIÓN DE CONTRACCIÓN
• VDS > VP : La resistencia rds es grande y aproximadamente constante => JFET fuente de corriente =>
REGIÓN DE SATURACIÓN
• VDS muy elevada: Conducción inversa en las uniones, ID se dispara y se produce fácilmente la
destrucción del JFET => REGIÓN DE RUPTURA
ANOTACIONES
Transistores de efecto campo. Guía de clases pg. 4
ZONAS DE FUNCIONAMIENTO
RUPTURA:
VDS elevada
|VGS|= |Vp|
VDS
Región óhmica
Valores pequeños de VDS |VDS| < | |Vp| – |VGS| |
1 L
Resistencia óhmica: rds =
q. N D . µ n 2ac
Valores usuales de la resistencia: de 100 Ω a 100 KΩ -> rds > Rcesat (transistor bipolar)
ID = f(VDS) -> función lineal
Cada VGS define un valor de resistencia distinto
ANOTACIONES
Transistores de efecto campo. Guía de clases pg. 5
Región de contracción
|VDS| ≈ | |Vp| – |VGS| |
Al elevar VDS, ID deja de crecer linealmente -> se entra en la zona de contracción.
2ε
w(x) = a – b(x) = (V + V ( x))
q. N D o
2ε
a=
q. N D
( )
Vp ⇒ Vp =
q. N D 2
2ε
a Vp es la VDS que provoca estrangulamiento (estrechez máxima)
2ε 2ε
2
⎛ b⎞
a−b= VGS ⇒ ( a − b) = VGS ⇒ VGS = ⎜ 1 − ⎟ V p
2
q. N D q. N D ⎝ a⎠
ANOTACIONES
Transistores de efecto campo. Guía de clases pg. 6
Región de saturación
|VDS| > | |Vp| – |VGS| |
La anchura mínima del canal es δ. Al aumentar más la tensión entre drenador y fuente VDS, δ permanece
constante y aumenta L’ y se entra en la zona de saturación.
2
⎛ VGS ⎞
I DS = I DSS ⎜ 1 − ⎟ ; siendo IDSS el valor de la corriente de saturación cuando la puerta está
⎜ ⎟
⎝ Vp ⎠
cortocircuitada con la fuente (VGS = 0 )
Región de corte
|VGS| ≥ |Vp| => IDS ≈ 0
El canal desaparece
Región de ruptura
Cuando la tensión drenador fuente VDS es muy grande y entonces la corriente de drenador se eleva mucho y
se llega a la destrucción del FET. |VDS| ≥ BVDS
ANOTACIONES
Transistores de efecto campo. Guía de clases pg. 7
Los transistores de efecto campo de unión JFET estudiados hasta ahora presentan la característica de que
con VGS = 0, ID no es nula cuando VDS ≠ 0.
Los transistores de efecto campo de puerta aislada (de acumulación) tienen ID nula con VGS = 0, lo cual es
interesante para trabajar en conmutación. Estos transistores de efecto campo de puerta aislada se suelen
llamar MOS (Metal Oxide Sc) y tienen una impedancia de entrada elevada, del orden de 1010 ÷ 1015 Ω
Tipos:
- Canal P -> sustrato N; impurificaciones P+
- Canal N -> sustrato P; impurificaciones N+
ANOTACIONES
Transistores de efecto campo. Guía de clases pg. 8
MOS de acumulación
|VGS|
|VDS|
|BV|
Región de corte: |VGS| < |VTH|
Tensión de ruptura
ANOTACIONES
Transistores de efecto campo. Guía de clases pg. 9
CURVAS CARACTERÍSTICAS
Con VDS constante se varía VGS y se observa ID , obteniéndose curvas diferentes para cada tipo de transistor:
CANAL N CANAL P
ID VTH ID
VGS
VGS
VTH
CANAL N CANAL P
ID
ID
Vp VGS
IDSS
IDSS
VGS
-Vp
ANOTACIONES
Transistores de efecto campo. Guía de clases pg. 10
SÍMBOLOS GRÁFICOS
Canal N Canal P
D D
EMPOBRECIDOS O
G DE DEPLEXIÓN G
(DEPLETION)
S S
D D
ENRIQUECIDOS O
G DE ACUMULACIÓN G
(ENHACEMENT)
S S
Otro tipo de símbolo:
D D
DEPLEXIÓN
G G
S S
D D
ACUMULACIÓN
G G
S S
En electrónica digital:
D D
ACUMULACIÓN
G G
S S
ANOTACIONES
Transistores de efecto campo. Guía de clases pg. 11
EL MOS EN CONMUTACIÓN
Se usa el transistor de acumulación. RL ocupa aproximadamente veinte veces más área en un circuito
integrado que el transistor.
Recta de carga: VDD = IDRL + VDS
+VDD
RL
+
D
G Vsal
+
Vent S
_ _
ID
VGS = VDD
VGS = VTH
VDS
≈0 A +VDD
ANOTACIONES
Transistores de efecto campo. Guía de clases pg. 12
-VDD
+
Q2 VL = VDS2 = VGS2
_
INVERSOR CON TRANSISTOR DE CARGA
+ CON PUERTA UNIDA A DRENADOR
Q1
Vsal = VDS1
+
Vent = VGS1
_ _
Q2 actúa como la resistencia de carga y se llama FET de carga. Q2 está siempre en saturación
independientemente de Q1 => Q2 tiene siempre el canal formado.
ANOTACIONES
Transistores de efecto campo. Guía de clases pg. 13
ID2
VGS2 = -VDD
Lugar geométrico
donde VGS2 = VDS2
VGS2 = -VTH
VDS2 = VGS2
-VTH -VDD
ID1 = ID2
VGS1 = -VDD
A VGS1 = -VTH
ANOTACIONES
Transistores de efecto campo. Guía de clases pg. 14
-VDD
Q2
Q1
Vsal = VDS1
+
Vent = VGS1
_ _
VDD
S2
G2
Q2 (PMOS)
D2
INVERSOR CMOS
+ + (MOS DE SIMETRÍA COMPLEMENTARIA)
D1
G1
Q1 (NMOS)
Vent Vsal
S1
_ _
ANOTACIONES