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INTRODUO A

CINCIA DOS MATERIAIS


Professor:
Neiton Carlos da Silva

2015

Aula 0 - Apresentao

Professor
Neiton Carlos da Silva
Professor Substituto ICTE / UFTM
Engenheiro Qumico formado pela UFU (2009)
Ex-Trainee Industrial e Coordenador de Produo
pela AmBev (2010-2013)
Mestre em Engenharia Qumica UFU (2013-2015)
Doutorando em Engenharia Qumica UFU (2015)

Contato:
neiton@icte.uftm.edu.br
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Objetivos da disciplina
O objetivo da disciplina Introduo Cincia e Tecnologia
dos Materiais apresentar, de forma introdutria, os vrios
conceitos relacionados Cincia e Engenharia dos Materiais,
tratando dos aspectos estruturais, dos processos utilizados na
rea, bem como de suas influncias sobre as propriedades finais
dos principais materiais empregados em engenharia.

Plano de Ensino
a)
b)
c)
d)
e)
f)
g)
h)
i)
j)
k)
l)

Introduo
Estrutura dos Slidos Cristalinos
Imperfeies nos slidos
Difuso
Propriedades Mecnicas dos Metais
Discordncias e Mecanismos de Aumento de Resistncia
Falhas
Materiais Cermicos
Materiais Polimricos
Materiais Compsitos
Propriedades Eltricas, Trmicas, Magnticas e pticas
Questes Ambientais na Cincia dos Materiais
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Bibliografia Sugerida
Livro Texto

Bibliografia Sugerida

Bibliografia Sugerida

Bibliografia Sugerida

Pginas sugeridas
http:/www.cienciadosmateriais.org

http://afruchin.sites.iol.com.br/ucs/index.html
http://www.mspc.eng.br/ndx_ciemat0.shtml
http://dmsf.mit.edu/

http://www.scientific.net

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HORRIO DE ATENDIMENTO
Sexta-feira: 13h00 at 15h00
Local: Sala dos Professores
(ICTE Unidade I)

Avaliaes

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CRITRIOS DE AVALIAO
02 Provas
Exerccios e/ou Seminrio
Mdia = 0,40 x P1 + 0,40 x P2 + 0,20 x T
A prova P1 ter peso de quarenta por cento (40%), a prova P2
ter peso de quarenta por cento (40%) e exerccios, trabalho
final ou seminrio(T) tero peso de vinte por cento (20%).

40% Nota final 70 %= Exame final


Frequncia 75% = Aprovado
Frequncia 75% = Reprovado

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Datas de Provas

Prova 1 25/Setembro
Prova 2 A ser definida pelo
prximo professor da disciplina
Exame Final 11/Dezembro
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Comportamental

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POSTURA EM SALA
Comportamental
Influenciar no grau de dificuldade das provas e
trabalhos/seminrio;

Evitar:
Conversas paralelas;
Interrupes desnecessrias;
Atender o celular
(Manter no modo Silencioso !!!)
Utilizar o celular mensagens, jogos, Whatsapp,
etc.
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