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Este ejemplo se basa en los datos presentados por phadke (1989) en la fabricacin de discos de polisilicio. El propsito del estudio fue el reducir. 1. El numero de defectos superficiales por oblea, y 2. La variabilidad en el espesor de la capa de polisilicio. Los factores de control en este estudio fueron: 1. 2. 3. 4. 5. 6. la temperatura de deposicin. La presin de deposicin El flujo de nitrgeno El flujo de silicio. El tiempo de estabilizacin y, El mtodo de limpieza.
De acuerdo a las caractersticas de nuestro experimento se decidi resolver a travs de un modelo de Taguchi, con un arreglo ortogonal L18, ya que este cumpla con las caractersticas que necesitbamos, con una caracterstica de calidad menos es mejor. EL NUMERO DE DEFECTOS SUPERFICIALES POR OBLEA Primeramente analizaremos el efecto sobre la cantidad de defectos superficiales, se procedi a realizar el anlisis de la varianza. Tabla 1. Anlisis de la varianza
Contamos con una F tabulada de 5.786135 que es menor al factor de la Temperatura, nitrgeno y presin, hacindolos a estos significantes para nuestras variables de estudio. En la tabla siguiente podemos observar el parmetro estimado que es la relacin seal/ruido, debido que nuestra caracterstica de calidad es menor es mejor, buscamos una relacin seal/ruido mayor que nos arrojara el nivel adecuado para cada factor, como se muestra a continuacin.
En la siguiente grafica nos clarifica y muestra el nivel para cada factor que es significante con un nivel de confianza del 95%. Grafica 1. Average Eta by Factor Levels.
La siguiente tabla nos muestra un resumen de los niveles ptimos para cada factor para reducir el nmero de defectos superficiales por oblea. Tabla 3: Expected S/N Ratio under Optimum Conditions
LA VARIABILIDAD EN EL ESPESOR DE LA CAPA DE POLISILICIO. Primeramente analizaremos el efecto sobre la variabilidad en el espesor de la capa de polisilicio, se procedi a realizar el anlisis de la varianza. Tabla 4. Anlisis de la varianza (espesor).
Analysis of V ariance (Taguchi) Mean = -70.864 Sigma = 2.77785 SS df MS F 17.24157 2 8.62079 13.98778 42.98907 2 21.49453 34.87627 30.30274 2 15.15137 24.58408 31.98194 2 15.99097 25.94639 1.21552 2 0.60776 0.98613 4.36766 2 2.18383 3.54341 3.08154 5 0.61631
Contamos con una F tabulada de 5.786135 que es menor al factor de la Temperatura, nitrgeno, presin, y silanio hacindolos a estos significantes para nuestra variables de estudio. En la tabla siguiente podemos observar el parmetro estimado que es la relacin seal/ruido, debido que nuestra caracterstica de calidad es menor es mejor, buscamos una relacin seal/ruido mayor que nos arrojara el nivel adecuado para cada factor, como se muestra a continuacin.
St.Error 0.526384 0.385957 0.284324 0.376467 0.414510 0.423114 0.430366 0.411800 0.417364 0.360106 0.474004 0.395846 0.482814 0.425549 0.426870 0.428920 0.402601 0.489260
Ef f ect TEMPERATURE
PRESSURE
NITROGEN
SILANE
SETT_TIM
CLEANING
En la siguiente grafica nos clarifica y muestra el nivel para cada factor que es significante con un nivel de confianza del 95%. Grafica 2. Average Eta by Factor Levels. (espesor).
La siguiente tabla nos muestra un resumen de los niveles ptimos para cada factor para reducir el nmero de defectos superficiales por oblea. Tabla 6: Expected S/N Ratio under Optimum Conditions (espesor).
ANALISIS DE ACUMULACIN Se procedi a realizar un anlisis de acumulacin para detectar la cantidad de defectos acumulados desde 0 -3, hasta mayor a 1001 defectos, por factor y comparando los defectos acumulados con cada nivel de los seis factores, obteniendo la siguiente grafica. Grafica 3. Acumulacin De Defectos.
CONCLUSIN FACTOR NIVEL OPTIMO EL NUMERO DE LA VARIABILIDAD MENOR DEFECTOS EN EL ESPESOR DE ACUMULACION SUPERFICIALES POR LA CAPA DE DE DEFECTOS OBLEA, Y POLISILICIO.
La temperatura de deposicin. La presin de deposicin El flujo de nitrgeno El flujo de silicio. El tiempo de estabilizacin y, El mtodo de limpieza.